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Fabrication and Characterization of Ni Thin Films Using Direct-Current Magnetron Sputtering 总被引:1,自引:0,他引:1 下载免费PDF全文
Ni films are deposited by using ultra high vacuum dc magnetron sputtering onto silicon substrates at room temperature, and the high-quality and high-density films are prepared. The parameters, such as thickness, density and surface roughness, are obtained by using small-angle x-ray diffraction (XRD) analyses with the Marquardt gradient-expansion algorithm. The deposition rate is calculated and the Ni single layer can be fabricated precisely. Based on the fitting results, we can find that the surface roughness of the Ni films is about 0.7nm, the densities of Ni films are around 97% and the deposition rate is 0.26nm/s. The roughness of the surface is also characterized by using an atomic force microscope (AFM). The changing trend of the surface roughness in the simulation of XRD is in good agreement with the AFM measurement. 相似文献
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Let K(n,μ_j,m),n=2r+1,denote the Lie algebra of characteristic p=2,which isdefined in [4].In the paper the restrietability of K(n,μ_j,m)is discussed and it is provedthat,when r≡1(mod 2)and r>1,1(ad.f)=n+1 if and only if 0≠f∈.Then theinvariance of some filtrations of K(n,μ_j,m)and the condition of isomorphism of K(n,μ_j,m)and K(n′,μ_j′,m′)are obtained.Besides,the generators and the derivation algebraof K(n,μ_l,m)are discussed.The results also hold,when r=0(mod 2)and r>0. 相似文献
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本文提出了满意正交表的概念,并且利用正交表和投影矩阵的正交分解之间的关系给出了满意正交表的一种判别方法。 相似文献
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组成论介绍(中):复杂程度和复杂度定律 总被引:2,自引:0,他引:2
上期指出每个广义集合都有对应的分布函数 (规律 ) .本文指出 ,利用广义集合的分布函数可以计算出一个体现客观事物的内部状态的丰富程度的物理量 :复杂程度 .如果广义集合具有随机性 ,这个广义集合就符合最复杂原理 ,在一些情况下可以利用这个原理反求得广义集合的分布函数 (公式 ) .1 复杂程度概念“复杂”这个词应用范围很广 ,科学地计量事物的“复杂程度”很重要 .我们利用广义集合定义复杂程度 .N个个体组成的广义集合中如果标志值有k个不同的值x1,x2 ,… ,xi,… ,xk,而与之对应的个体的数量分别为n1,n2 ,… ,ni,… ,nk… 相似文献
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Al2O3SiO2/ZL109 金属基复合材料的强度性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了硅酸铝短纤维增强ZL109铸铝合金(Al2O3SiO2/ZL109MMC)的静态实验和冲击实验结果。给出了这种复合材料的静态强度、动态屈服强度和层裂强度并对实验结果进行了分析讨论。 相似文献
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