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YBa2Cu3O7—δ体系CuO2平面外的元素替代效应 总被引:1,自引:1,他引:0
制备了123单相的 Y_(1-x)Pr_xBa_2Cu_3O_(7-ε),YBa_(2-x)M_xCu_3O_(7-ε)(M=Sr,Ca)和 YBa_2Cu_(3-x)Co_xO_(7-δ)的系列样品,并测量了 T_c 及载流子浓度 nH.综和其他实验结果如 XAFS、中子衍射、XPS 和 Raman 谱等,总结得到:CuO_2平面外的元素替代使得晶格中 O(4)原子偏离其在 YBa_2Cu_3O_7中的最佳位置,导致部分空穴局域于 Ba 位或 CuO 链,因而降低体系中可动空穴的浓度.在这种情况下体系 T_c 的压制主要源自可动空穴浓度 PH 的减少.对加压情况下的退局域化作用作了讨论. 相似文献
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本文综合约20个 YBa2Cu3O7-4的元素替代体系的实验结果,发现:正交晶体结构、氧含量、铜的氧化价态,以及金属-半导体(绝缘体)相变都只是决定Tc的表观因素;存在着CuO2平面外和CuO2平面内两类元素替代效应.提出:高温超导体的迁移载流子浓度和CuO2平面内铜原子之间的动态、短程反铁磁关联程度是决定Tc的两个内禀因素.基于Bi系超导体中有关元素替代效应的实验事实,进一步提出上述结论对各种类型的高温氧化物超导体具有普遍性. 相似文献
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配方法是中数里恒等变形的重要方法之一,也是中学生应该掌握的基本技能之一。在教学一元二次方程求根公式时学生便开始接触到这一方法。此后在代数、三角、解析几何的学习中又要求学生能应用自如。在各阶段的教学及总复习时,如果能从总结一种数学方法所能解决的不同问题着眼,加以归纳小结,这对于学生在自觉运用中形成熟练技巧是有好处的。下面来谈配方法的一些应用,供参考。 相似文献
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Kondo Resonance versus Fano Interference in Double Quantum Dots Coupled to a Two-Lead One-Ring System
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We analyse the transport properties of a coupled double quantum dot (DQD) device with one of the dots (QD1) coupled to metallic leads and the other (QD2) embedded in an Aharonov-Bhom (A-B) ring by means of the slaveboson mean-field theory. It is found that in this system, the Kondo resonance and the Fano interference exist simultaneously, the enhancing Kondo effect and the increasing hopping of the QD2-Ring destroy the localized electron state in the QD2 for the QD1-leads, and accordingly, the Fano interference between the DQD-leads and the QD1-leads are suppressed. Under some conditions, the Fano interference can be quenched fully and the single Kondo resonance of the QD1-leads comes into being. Moreover, when the magnetic flux of the A-B ring is zero, the influence of the parity of the A-B ring on the transport properties is very weak, but this influence becomes more obvious with non-zero magnetic flux. Thus this model may be a candidate for future device applications. 相似文献
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原子级加工制造是实现半导体晶圆原子尺度超光滑表面的有效途径.作为大尺寸高精密功能材料的原子级表面制造的重要加工手段之一,化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)凭借化学腐蚀和机械磨削的耦合协同作用,成为实现先进材料或器件超光滑无损伤表面平坦化加工的关键技术,在航空、航天、微电子等众多领域得到了广泛应用.然而,为了实现原子层级超滑表面的制备,CMP工艺中常采用的化学腐蚀和机械磨削方法需要使用具有强烈腐蚀性和高毒性的危险化学品,对生态系统产生了不可逆转的危害.因此,本文以绿色环保高性能抛光液作为对象,对加工原子量级表面所采用的化学添加剂进行分类总结,详尽分析在CMP过程中化学添加剂对材料表面性质调制的作用机理,为在原子级尺度下改善表面性质提供可参考的依据.最后,提出了CMP抛光液在原子级加工研究中面临的挑战,并对未来抛光液发展方向作出了展望,这对原子尺度表面精度的进一步提升具有深远的现实意义. 相似文献
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用摄动法建立边界层方程王培光,王振东(河北大学数学系,保定071002)(天津大学力学系,天津300072)边界层理论是普朗特(1875-1953年)对流体力学的最主要贡献之一,也是黏性流体力学重要的基础性理论.19世纪末,流体力学沿着两条看来似无关... 相似文献
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