氢在Ni(511)台阶面的吸附与解离研究

应用EAM模型研究了氢在Ni(511)面的吸附和解离.首先计算了单个氢原子在Ni(511)面上的吸附能、吸附键长及吸附高度,发现氢在Ni(511)面上有三种相对稳定的吸附位,即台阶棱上的二重桥位B、台阶面上的三重洞位H3′以及平台面上的四重洞位H1和H2.与Ni(001)低指数面相比,明显的增加了台阶棱上的二重桥位B以及台阶面上的三重洞位H3′,并且H1位的吸附性也有所增强,说明台阶的存在影响了氢在Ni(511)表面的吸附性,使台阶附近的吸附位增多且吸附性增强;然后计算了氢分子在台阶表面上解离吸附时的活化势垒、吸附能、氢镍之间键长及氢氢之间的距离,计算结果表明台阶底部更易于使氢分子解离,台阶附近是氢吸附和解离的活性部位.     

边界耦合的非Newton渗流方程组解的临界曲线与非灭绝条件

利用上解与下解方法研究了多维空间RN中一类在边界耦合的非Newton渗流方程组,得到了方程组解的临界整体存在曲线与Fujita临界曲线.结果表明,方程组解的两种临界曲线不仅依赖于问题中的参数,而且还与空间的维数N有关,这与维数N=1时的已有结果有很大的区别.此外,还给出了该方程组解的非灭绝条件.     

HT-7装置液态锂限制器实验中锂的腐蚀与沉积特性的研究

在磁约束聚变等离子体装置中, 面对等离子体的第一壁将直接影响高温等离子体性能及第一壁寿命, 具有表面自我修复的、能有效抑制边界粒子再循环的液态金属锂第一壁越来越被重视, 其中液态锂第一壁与等离子体相互作用的研究尤其重要. 本文研究了HT-7装置液态锂限制器实验中锂的表面腐蚀及在装置内沉积特性、及其对等离子体性能影响. 实验表明, 当锂与等离子体相互作用较弱时, 锂以微弱的蒸发及溅射形式从表面腐蚀并进入等离子体, 表现为锂的线辐射有所增强, 等离子体内杂质水平降低, 氢再循环降低, 有利于等离子体约束性能提高; 当锂与等离子体间的相互作用比较强时, 锂主要以锂滴形式直接进入等离子体, 引起锂的辐射爆发, 最终引发等离子体放电破裂. 通过对锂斑及样品的分析发现, 锂主要沉积在限制器周围, 并且在低场侧及沿着等离子体电流方向沉积居多, 表现为极向和环向分布不均匀, 这也导致边界粒子再循环分布的不均匀. 这些实验为研究液态锂第一壁与等离子体相互作用, 分析液态锂第一壁在托卡马克装置上应用具有重要参考意义.     

g-C3N4/BiVO4复合光催化剂的合成及其光催化活性研究

以g-C_3N_4和BiVO_4为主要原料,用高温水热法合成出BiVO4/g-C_3N_4复合催化剂。采用X-射线衍射(PXRD)和紫外-可见漫反射吸收光谱(UV-Vis),对复合催化剂BiVO_4/g-C_3N_4的结构进行表征。在可见光下,考察此复合催化剂对亚甲基蓝的降解性能。研究发现,复合催化剂具有g-C_3N_4和BiVO_4结构特征,在X-射线衍射峰上显示出轻微的宽化,质量比为10%的BiVO_4/g-C_3N_4光催化剂降解活性最好,其降解率在360分钟能达到70.6%。     

大孔径折反射光学系统研究

本文介绍了一种大孔径折反射光学系统,该系统采用同心结构型式,象面是弯曲的,当相对孔径为1:0.8,全视场角为40°时,象面最大弥散均方值直径为 0.013 mm,对于80lp/mm的特征频率,其调制传递函数在0.4以上。     

关于“电路的计算”的教学

“电路的計算”在电学中所处的地位“电路的計算”在电学这一单元中,特别是在稳恆电流这一章中,是一个重点,也是一个难点。它是重点这一点表現在“电路的計算”需要綜合許多基本物理概念(如电流強度、电压、电阻等)和定律(欧姆定律)去解决实际問題,同时,它为以后关于电机的計算打下了基础。电学,是中学物理学中与实际結合較紧密的一部分。而在与实际相結合的过程中,尤以电机的初步知识和“电路的計算”为突出。它是难点这一点表現在“电路的計算”是学生掌握电流基本定     

轴向梯度折射率光学元件的设计

本文提出一种轴向梯度折射率光学元件的|P、|W设计方法。把对光学系统的像差要求,通过元件的|P~∞、|W~∞初级像差系数表达式,变成对于系统的结构和折射率梯度的要求。这种设计方法不仅对于单片轴向梯度折射率透镜,而且对于同时包括均匀介质元件的光学系统也是很方便的。     

高级色差理论

本文讨论光学系统中前组初级像差(包括五种初级单色像差和两种初级色差)引起光阑坐标和物面坐标的改变,以及对其后组色差的影响——衍生高级色差理论。 关键词：