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41.
汽相沉积法SnO_2薄膜光谱透过率气敏特性的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文研究了用汽相沉积法制备SnO2气敏薄膜和SnO2膜的光谱透过率气敏特性。用汽相沉积制备SnO2的方法是利用一个密封的石英管系统,把SnCl4溶液置于系统内,氧气通人系统,然后系统升温使SnCl4气化,通过控制氧气流量、沉积温度和沉积时间等,使气化后的Sn原子与氧原子在一定条件下生成SnO2,沉积在玻璃衬底上。本文用AS-430S俄歇式电子能谱仪测试膜片的主要成分,并用光栅单色仪测试了膜片在乙醇还原性气体中的气敏特性。实验结果表明:与热喷法制备的SnO2膜比较,沉积法具有工艺重复性好,可以控制沉积膜的厚度,灵敏度高等优点。因此,可制备出有选择性的“气敏-光透过率”型气敏传感器。 相似文献
42.
本文以原子吸收光谱为检测手段,将氨荒酸膦酸树脂应用于地下水中Zn,Cd,Co,Cr,Cu,Mn,Ni,Pb等八种痕量元素的同时分析,取得了满意的结果。用美国环保局标准水样评价此分析方法的可靠性,结果表明分析结果的方差小,回收率高。文中还探讨了氨荒酸膦酸树脂对Hg~(2+)的吸附性能和吸附机理,表明树脂吸附Hg~(2+)的过程是受内扩散控制的。 相似文献
43.
低能实验核物理及其应用 总被引:1,自引:0,他引:1
简要地介绍了北京大学技术物理系和重离子物理研究所年来在低能实验核物理及其应用方面的部分研究工作。 相似文献
44.
The stability of the complex-rotation method in B-spline basis for a simple atomic resonant scattering problem in free field is investigated. The numerical calculation shows that this method has a feature that the solution will not change in a wide range of rotation angle θ. Our determined scattering resonant energies and widths exactly coincide with the popularly accepted values. A new resonance is identified numerically although it is very broad. The norm of the complex eigenvalue, |E|, is proposed to investigate and to evaluate the stability of the obtained complex eigenvalues. 相似文献
45.
46.
螟虫是我国南方水稻产区的主要害虫之一,是农业生产的大敌.以江西为例,螟害严重的年份所造成的损失达二十亿斤之多.因此,做好螟虫防治工作,是贯彻农业“八字宪法”,确保水稻稳产高产的重要措施.而准确无误的预报,则是积极主动地做好防治工作的前提.螟虫为害以三化螟最甚,在江西每年出现四代.各代卵块盛孵期正是大田施药适合的时期,是防治的关键时刻.因此,我们以三化螟各代卵块盛孵初期(以下简称初盛孵)作为预报量,使用较有代表性的江西中部地区丰城县资料(见表1),通过回归分析方法,找出预报的定量表达式. 相似文献
47.
应用梯度法和Monte Carlo方法对固体推进剂燃烧产物平衡组分进行了计算。比较其优缺点,提出了一种新的算法:梯度-Monte Carlo法。计算表明,无论从机时和精度都可得到满意的结果。 相似文献
48.
LHD是由氢化锂做成的部件,该部件的失效是一种渐变性的失效。涂有防潮层的LHD部件经长期贮存由于潮解而使其品位降低,已有大量检测数据,经统计和分析知:(1)其物理品位随时间变化:S(t)=a+be-et;(2)品位变化快慢,与材料稀密程度、防潮层厚度有关;(3)潮解的程度,部件表面较为明显,内部基本不潮解。 相似文献
49.
长期以来,人们熟知的放射性是指不稳定的原子核自发地放射出α、β和γ等轻粒子的现象。在不稳定的原子核中,是否还存在自发地放射比α粒子更重的重离子放射性呢?有人对此曾经作过预言。 相似文献
50.
分子印迹聚合物具有抗恶劣环境、选择性高、稳定性好等特点,广泛应用于复杂样品的前处理。采用结构类似物作为替代模板分子,可以解决分子印迹聚合物制备时目标物溶解性差的问题,替代模板分子印迹聚合物不仅对目标分析物具有选择性识别能力,还可以避免模板泄露对痕量分析造成的影响。本文综述了替代模板分子印迹技术在样品前处理中的应用进展,包括替代模板分子印迹技术在固相萃取、固相微萃取、色谱固定相、基质固相分散萃取中的应用,最后对替代模板分子印迹技术在未来的样品前处理中的研究进行了展望。 相似文献