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31.
采用微波辅助加热法,以类沸石二甲基咪唑钴(ZIF-67)为模板和钴源,快速制备了三维中空结构的镍钴氢氧化物(Ni-Co LDH)。通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、透射电子显微镜(TEM)和比表面积及孔径分析仪(BET)探究了微波反应时间对材料形貌、结构的影响;通过循环伏安法(CV)、恒电流充放电(GCD)曲线和电化学阻抗谱(EIS)分析了材料的电化学性能。结果显示,Ni-Co LDH-15 min电极材料的电化学性能最优:在0.5 A/g时,比电容高达2371.0 F/g;电流密度扩大20倍,材料具有较好的倍率性能(78.5%)。以镍钴氢氧化物为正极,活性炭为负极组装成非对称式超级电容器,在功率密度为448.05 W/kg时,能量密度高达19.17 W·h/kg,且循环5000圈后电容保持率高达88.7%,表明镍钴氢氧化物是一种具有优异电化学性能和实际应用潜力的超级电容器电极材料。  相似文献   
32.
用直流磁控溅射技术在石英基片上制备不同厚度(5 nm~114 nm之间)的铬膜.使用X射线衍射仪和分光光度计分别检测薄膜的结构和光学性质,利用德鲁特模型和薄膜的透射、反射光谱计算铬膜的厚度和光学常量,并采用Van der Pauw方法测量薄膜电学性质.结果表明:制备的铬薄膜为体心立方的多晶态,随着膜厚的增加,薄膜的结晶性能提高,晶粒尺寸增大;在可见光区域,当膜厚小于32 nm时,随着膜厚的增加,折射率快速减小,消光系数快速增大,当膜厚大于32 nm时,折射率和消光系数均缓慢减小并逐渐趋于稳定;薄膜电阻率随膜厚的增加为一次指数衰减.  相似文献   
33.
模拟退火法在吸收薄膜的椭偏反演算法中的应用   总被引:14,自引:4,他引:14  
将一种广泛用于求解复杂系统优化问题的技术--模拟退火法--用来求解椭偏反演方程。首先假设一个薄膜模型,计算出其相应的椭偏参数(Ψ,Δ)的值,在这个计算值的基础上加入不同标准偏差的高斯噪声;然后将加入噪声后的值(Ψm,Δm)作为模拟的测量数据,采用模拟退火算法进行求解,验证得知这种方法求得的薄膜参数很接近于假设的薄膜模型参数的真值,与其他文献的报道结果一致,而且在扩大搜寻范围时,仍然可以得到准确解,从而证明了该方法的可行性以及有效性。  相似文献   
34.
本文利用光弹切片法,对于切槽端部弹塑性应变分布进行了实验研究,同时弄清了切槽类型、切槽长度、载荷水平、加载历史、材料种类和热处理状态等多种因素对切槽端部弹塑性应变分布的影响,为建立能正确反映裂纹尖端(或切槽端部)应变分布的理论解提供了实验依据。  相似文献   
35.
采用60%的超细工业废渣取代水泥制备了抗压强度达200 MPa的生态型活性粉末混凝土(RPC),采用分离式霍普金森压杆装置对不同纤维掺量的RPC材料进行了4种方式的多次冲击压缩实验。定义了材料多次冲击压缩标准化强度,揭示了冲击次数、冲击方式、纤维掺量对材料抗多次冲击性能的影响规律。研究表明随着纤维掺量的提高,材料抗多次冲击的能力不断提高。随着冲击次数的增加,材料的损伤程度不断增大,标准化强度不断下降。随着冲击方式的改变,材料首次冲击的损伤增加,第2次和第3次冲击下材料峰值应力下降速度提高。  相似文献   
36.
基于单点子域精细积分的思想,针对抛物线型热传导方程初边值问题,提出了多点子域积分的概念,推出了一种多点子域积分的FTCS格式。该格式为显格式,并证明其为无条件稳定。数值算例表明,多点子域积分的FTCS格式具有比单点子域积分的FTCS格式收敛速度快的特点。  相似文献   
37.
本文假设夸克的快度分布是四动量守恒限制下的均匀分布,通过Monte-Carlo计算,得到了轻夸克喷注中末态强子的半单举分布以及不同快度区间内的多重数分布,讨论了它们的基本特征,并与现有的平均喷注实验数据作了比较.  相似文献   
38.
在超高真空下,室温下,通入高纯O2,清洁铀铌合金表面就会吸附O2,并解离与表面铀原子结合生成UO2,与表面铌原子结合生成NbO,继续氧化成为Nb2O5;但在高温(673K)时,反应情况截然不同,在氧化过程中,表面上的Nb基本保持为金属态的Nb,U也不能完全氧化为UO2。利用AES研究真空热处理对铀铌合金表面层的影响,将有助进一步丰富铀铌合金的氧化腐蚀机理。  相似文献   
39.
组合基本特性方程分离算法和自适应网格技术,分析二维黏性不可压流体.该方法使用3节点三角单元,对速度分量和压力等变量分析,使用等阶次的插值函数.组合解法的主要优点在于,在自适应网格技术中,对解梯度变化大的区域,通过耦合误差估计生成小的单元,利于提高解的精度,在其它区域生成大单元,可以节省时间.最后,通过对一个黏性流体圆柱体绕流问题的瞬态和稳态特性分析,给出了组合解法性能的评价.  相似文献   
40.
连通图G的边修正Szeged指标Sze*(G)定义为■,其中mu(e|G),mv(e|G),m0(e|G)分别是G中到u点比到v点距离近的边的数目、到v点比到u点距离近的边的数目、以及到u,v两点距离同样近的边的数目.本文通过变换和计算得到了给定直径的单圈图的边修正Szeged指标的下界,并刻画了达到下界的极值图.  相似文献   
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