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分光器件是全息光栅曝光系统中的关键光学元件,它将入射激光光束分成两束,两相干光束叠加后形成干涉条纹。曝光系统的稳定性不但影响干涉条纹对比度,还影响光栅衍射波前像差、杂散光水平以及光栅掩模刻槽质量。为了提高曝光系统的稳定性,分析入射光束角度偏离与两相干光束夹角(2θ)的关系,并结合干涉条纹周期公式,分别导出了以光栅和棱镜作为分光器件时入射激光束角度偏离量与待制作光栅空间相位差的解析表达式,据此分析了光栅和棱镜曝光系统的稳定性。结果表明,采用光栅分光的曝光系统的稳定性比棱镜分光曝光系统稳定性提高5~6个数量级,这对长时间曝光制作全息光栅具有实际意义。 相似文献
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为实现高光谱成像系统小型化、轻量化和高成像质量的要求,并使全工作波段具有更高的光学效率,提出以Féry棱镜组合作为分光元件的Dyson高光谱成像仪系统,系统中引入消色差棱镜组合以减小光谱的非线性色散,使棱镜系统色散的线性度达到较高。结果表明,可见近红外(VNIR)光谱通道的光学调制传递函数(MTF)达到0.9以上,光谱分辨率为4.2~6.8 nm。短波红外(SWIR)光谱通道的MTF达到0.73~0.87,光谱分辨率为6.4~12.5 nm。通过消色差Féry棱镜组合的设计,该光学成像系统两个光谱通道内的相对谱线弯曲均小于0.05%,色畸变小于0.13%。 相似文献
379.
通过摆动离子束刻蚀方法,制作了用于短波红外高光谱成像光谱仪的凸面闪耀光栅。该方法通过在光栅子午方向上进行摆动刻蚀,解决了凸面光栅子午方向的闪耀角一致性问题。建立了摆动刻蚀模型来分析摆动速度、束缝宽度等工艺参数对槽型演化的影响,并计算了优化的刻蚀工艺参数。制备了基底尺寸为67 mm,曲率半径为156.88 mm,刻线密度为45.5 gr/mm,闪耀角为2.2°的凸面闪耀光栅,并对其表面形貌及衍射效率进行了测量。实验结果表明,摆动刻蚀法能够制作出闪耀角一致性好、衍射效率高的小闪耀角凸面光栅,满足成像光谱仪对光谱分辨率和便携性的使用要求。 相似文献
380.
通过熔合蒸发反应181Ta(16O,5n)192Tl,在入射束流为97 MeV能量下,布居192Tl的高自旋态,更新了192Tl的能级纲图。共增加8条新能级,尝试性地指定了能级自旋,将负宇称晕带的能级推高到23-?。讨论了192Tl与相邻同位素奇奇核194,196,198Tl负宇称晕带的旋称劈裂与反转现象,发现随着中子数增加,196,198Tl在高自旋处出现了旋称反转,其原因可能是由于中子质子相互作用与科里奥利力相互竞争所致。High spin states of 192Tl were populated by the 181Ta(16O, 5n)192Tl heavy ion fusion evaporation reaction at 97 MeV beam energy. A new level scheme with 8 new levels was constructed and the level spins were tentatively assigned. The negative yrast band was extended up to 23-?. Systematics of signature of inversion were also discussed for the negative yrast band of odd-odd Tl istopes. Signature inversion has been found in 196,198Tl with neutron number increasing in these four Tl isotopes, and it is explained by the competition between the strength of n-p interaction and Coriolis force. 相似文献