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定理 若OB与OC确定的平面为α ,OA为平面α的一条斜线 ,且AB⊥α ,若记∠AOB =θ1,∠BOC =θ2 ,∠AOC =θ ,二面角C -OA -B的大小为β ,则图 1 定理证明用图cosθ =cosθ1·cosθ2 (1)cosβ =tanθ1tanθ (2 )sinβ =sinθ2sinθ (3)简析 :要证明 (1) ,只需过B作BD⊥OC于D即可 (如图 1) ;要证明 (2 ) ,(3) ,则过B作BE⊥OB于B ,且使BE∩OC =E ,然后过B作BF⊥OA于F ,再连结EF .可以证明图 2 定理证明用图∠BFE =β(如图 2 ) ,具体证明从略 .例 1 如图 3,球O的截面BCD把球面面积分成1∶3两部分 ,BC是截面圆的直径 ,… 相似文献
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Defect reduction in GaAs/Si film with InAs quantum-dot dislocation filter grown by metalorganic chemical vapor deposition
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The growth of GaAs epilayers on silicon substrates with multiple layers of InAs quantum dots(QDs) as dislocation filters by metalorganic chemical vapor deposition(MOCVD) is investigated in detail.The growth conditions of single and multiple layers of QDs used as dislocation filters in GaAs/Si epilayers are optimized.It is found that the insertion of a five-layer InAs QDs into the GaAs buffer layer effectively reduces the dislocation density of GaAs/Si film.Compared with the dislocation density of 5×10~7 cm~(-2) in the GaAs/Si sample without QDs,a density of 2×10~6 cm~(-2) is achieved in the sample with QD dislocation filters. 相似文献
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分光器件是全息光栅曝光系统中的关键光学元件,它将入射激光光束分成两束,两相干光束叠加后形成干涉条纹。曝光系统的稳定性不但影响干涉条纹对比度,还影响光栅衍射波前像差、杂散光水平以及光栅掩模刻槽质量。为了提高曝光系统的稳定性,分析入射光束角度偏离与两相干光束夹角(2θ)的关系,并结合干涉条纹周期公式,分别导出了以光栅和棱镜作为分光器件时入射激光束角度偏离量与待制作光栅空间相位差的解析表达式,据此分析了光栅和棱镜曝光系统的稳定性。结果表明,采用光栅分光的曝光系统的稳定性比棱镜分光曝光系统稳定性提高5~6个数量级,这对长时间曝光制作全息光栅具有实际意义。 相似文献
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不等式是高中数学的重要内容.均值不等式是不等式进行变形的一个重要依据,在应用时不仅要牢记三个条件“正、定、等”,而且要善于根据均值不等式的结构特征,创设应用均值不等式的条件.利用待定系数法凑定值是常用的解题技巧,本文举例说明. 相似文献
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