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31.
32.
通过磁输运测量研究了Al0.22Ga0.78N/GaN二维电子气的电子相干散射中的弱局域和反弱局域化现象.在外加弱磁场的情况下,该系统表现出正-负磁阻的变化,说明在Al0.22Ga0.78N/GaN异质结中存在晶体场引起的电子自旋-轨道散射.同时讨论了二维电子气中不同的散射时间对温度的依赖关系,实验得到的非弹性散射时间与温度成反比,表明非弹性散射机理主要来源于小能量转移的电子-电子散射.
关键词:
二维电子气
弱局域
磁阻 相似文献
33.
34.
研究了si重δ掺杂In0.52Al0.48/In0.53Ga0.47As/In0.52Al0.48As单量子阱内高迁移率二维电子气系统中的反弱局域效应.研究表明,强的Rashba自旋轨道相互作用来源于量子阱高的结构反演不对称.高迁移率系统中,粒子的运动基于弹道输运而非扩散输运.因此,旧的理论模型不能用于拟合实验结果.由于最新的模型在实际拟合中过于复杂,一种简单可行的近似用于处理实验结果,并获得了自旋分裂能△。和自旋轨道耦合常数a两个重要的物理参数.该结果与对纵向电阻的Shubnikov-de Haas--SdH振荡分析获得的结果一致.高迁移率系统中的反弱局域效应研究表明,发展有效的反弱局域理论模型,对于利用Rashba自旋轨道相互作用来设计自旋器件尤为重要. 相似文献
35.
利用变温吸收谱(11—300K)对非故意掺杂液相外延Hg1-xCdxTe进行研究,对吸收边在低温区间(<70K)出现的约7—20meV反常移动现象进行了分析.结果表明该现象是由材料中Hg空位作为受主能级存在而形成的,红移幅度与样品组分/载流子浓度有关.据此估算Hg空位大致位于价带上方约20meV,与Hg空位形成浅受主能级的经验公式计算结果基本符合.该结果可以解释由传统吸收谱方法确定材料禁带宽度略高于材料实际光电响应截止能量值的现象.
关键词:
碲镉汞
液相外延
汞空位
反常吸收 相似文献
36.
研究了Si 重δ 掺杂In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As/In0.52Al0.48As单量子阱内高迁移率二维电子气系统中的反弱局域效应. 研究表明,强的Rashba自旋轨道相互作用来源于量子阱高的结构反演不对称. 高迁移率系统中,粒子的运动基于弹道输运而非扩散输运. 因此,旧的理论模型不能用于拟合实验结果. 由于最新的模型在实际拟合中过于复杂,一种简单可行的近似用于处理实验结果,并获得了自旋分裂能Δ0和自旋轨道耦合常数α两个重要的物理参数. 该结果与对纵向电阻的Shubnikov-de Haas—SdH振荡分析获得的结果一致. 高迁移率系统中的反弱局域效应研究表明,发展有效的反弱局域理论模型,对于利用Rashba自旋轨道相互作用来设计自旋器件尤为重要. 相似文献
37.
用电阻加热提拉法生长了一系列较大尺寸,组分离子均匀性较好的铌酸钾锂晶体.利用X射线荧光光谱法测量了不同配比的熔体中生长出的晶体组成,用同步辐射X射线测量了晶体结构,结果表明随晶体组成变化,晶体的晶格常数发生了变化.根据晶体组分离子浓度与折射率的关系研究了晶体折射率变化情况,结果表明用本方法生长的大尺寸KLN晶体,寻常折射率no在测量误差范围内没有变化,非寻常折射率ne的变化率在820nm仅为1.22×10-4/mm,在410nm仅为1.93×10-4/mm.晶体的干涉条纹证明了晶体有良好的光学均匀性.结合晶体生长实验,探讨了改进晶体组分离子浓度分布均匀性的方法,结果表明采用籽晶和坩锅向相同方向旋转可以改善晶体生长界面处组分离子浓度的波动,提高晶体组分离子均匀性.晶体的缺陷研究表明晶体结构完整性较好,位错形状与晶体结构相一致,密度为7.5×104,[001]轴是晶体的极化轴.晶体对890~960nm波长范围的cw-Ti:sapphire激光倍频结果表明晶体有良好的倍频性能. 相似文献
38.
39.
Structural and electrical properties of SrTiO3 thin films as insulator of metal-ferroelectric-insulator-semiconductor (MFIS) structures 下载免费PDF全文
SrTiO3 (STO) thin films were deposited on p-Si(100) substrates at various substrate temperatures from 300℃ to 700℃ by radio frequency (RF) magnetron sputtering technique. Their structure and electrical properties were investigated. It was found that the transition from
amorphous phase to polycrystalline phase occurred at the substrate temperatures 300--400℃. Their crystallinity became better when the substrate temperatures further increased. The dielectric and leakage current measurements were carried out by using the Si/STO/Pt metal--insulator--semiconductor (MIS) structures at room temperature. It was found that the fixed charge density decreased and both the interface trap density and the dielectric constant increased when the substrate temperatures were increased. The leakage current mechanisms for STO MIS structures with STO films prepared at 700℃ followed the space charge limited current (SCLC) under the low applied electric field and the Poole--Frenkel emission under the high one. In addition, the resistivity for films prepared at 700℃ was higher than 1011\Omega \cdot cm under the voltage lower than 10V (corresponding to the electric field of 1.54\times 103kV\cdotcm-1). It suggested that the STO films prepared at 700℃ were suitable for acting as the insulator of metal--ferroelectric--insulator--semiconductor (MFIS) structures. 相似文献
40.