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201.
一、形成超元刚度矩阵的递推公式 如图1(a)所示,将弹性体的所有节点分割成1,2,3三个区域。设1,2,3区节点的位移矢量依次为{U_1},{U_2}和{U_3},相应的载荷矢量为{P_2},{P_2}和{P_3},且{P_2}=0,则以1,3区节点为边界节点的超元刚度方程为 相似文献
202.
本文讨论了线性约束下,变量分离的凹函数与线性函数之和的全局极小问题,针对R.Horst等人于1992年提出的锥分解算法,进行了改进,简化了一些算法步骤,改善了算法的收敛性质,我们证明了有限步终止于最优点的假敛结果,算法已制成软件,经实例计算证明了算法的构思。 相似文献
203.
204.
采用基于细致能级的非局域热动平衡模型,对"强光一号"装置10174发次Z箍缩铝等离子体特征辐射谱进行细致的分析和计算,提取电子密度约为3.5×1021cm-3.数值计算结果显示,采用单一等离子体状态参数不能很好地描述等离子体辐射特征谱线.在进一步的分析计算中,本文初步考虑高温区域和低温区域等离子体特征辐射谱线的叠加效应,将等离子体划分为高温高密度和低温低密度两部分,分析了两部分等离子体辐射对总辐射谱的贡献,并给出了修正后的等离子体辐射谱线.考虑叠加效应后,Heα伴线显著增强,计算结果改善明显. 相似文献
205.
研究了CO2激光局域辐照对熔石英损伤特性的影响, 发现当辐照中心温度较低时(1139 K), 辐照对损伤阈值没有明显影响, 但辐照中心温度较高时(1638 K), 辐照对损伤阈值有明显的影响, 损伤阈值随距离辐照中心间距的增大而减小, 在残余应力产生光程差最大处附近, 损伤阈值降到最小, 随着与辐照中心间距的进一步增加, 损伤阈值略有上升. 对导致此现象的原因做了分析. 由于残余应力的存在, 在辐照中心发生再损伤产生的裂纹后, 裂纹先沿径向扩展, 在残余应力产生光程差最大处附近, 裂纹转而向切向扩展, 这可能与径向和环向张应力随半径的变化有关. 在采用热处理炉退火消除残余应力时, 必须注意元件的洁净处理, 否则退火会出现析晶现象, 对损伤阈值和透射率造成不良影响.
关键词:
2激光局域辐照')" href="#">CO2激光局域辐照
熔石英
损伤特性 相似文献
206.
光纤CAN网络节点数计算方法 总被引:3,自引:0,他引:3
为电动汽车通信网设计了一种中继型节点的光纤CAN(Fibre--CAN)环型总线网络.采用塑料光纤(POF)作为传输介质,用波长为660nm的红光光电收发器件实现光电转换.在对中继型节点的传输延迟进行详细的分析后,结合CAN协议定义的位周期,给出了基于传输延时的网络最大节点数的计算方法.并对该方法进行了实验验证,实验结果与理论计算具有良好的一致性,表明该方法的有效性. 相似文献
207.
张扬祖 《光谱学与光谱分析》1992,12(1):22-25
提出了用同一空心阴极灯发出的两根邻近的任意强度比的谱线测试原子吸收分光光度计的单色器的通带宽度的方法。 相似文献
208.
209.
Preparation of p-type ZnO:(Al, N) by a combination of sol--gel and ion-implantation techniques 下载免费PDF全文
We report the preparation of p-type ZnO thin films on (0001)
sapphire substrates by a combination of sol--gel and
ion-implantation techniques. The results of the Hall-effect
measurements carried out at room temperature indicate that the
N-implanted ZnO:Al films annealed at 600\du\ have converted to
p-type conduction with a hole concentration of
$1.6\times1018cm-3, a hole mobility of
3.67cm2/V.s and a minimum resistivity of
4.80cm.\Omega$. Ion-beam induced damage recovery has been
investigated by x-ray diffraction (XRD), photoluminescence (PL) and
optical transmittance measurements. Results show that diffraction
peaks and PL intensities are decreased by N ion implantation, but
they nearly recover after annealing at 600\du. Our results
demonstrate a promising approach to fabricate p-type ZnO at a low
cost. 相似文献
210.