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41.
基于嵌入式系统应用中实时解码对速度和存储空间的要求,通过分析AVS—P3解码器原理及其技术特点,以AV3 release version1为蓝本对AVS音频解码器进行结构和算法上的优化.其中时频变换模块对intIMDCT算法进行分析与处理,量化模块定点化处理和AVS解码器熵解码模块的实现算法提出了新的方法.经过ARM9平台测试,在音乐质量没有受到损害的前提下,解码速度比原来提高10倍以上,存储空间也减少了一半以上. 相似文献
42.
微波辐照2,6-二(2′-咪唑啉-2′-基)吡啶的合成及其与DNA的相互作用 总被引:1,自引:0,他引:1
在微波辐射和无催化剂条件下,由吡啶-2,6-二甲酸与乙二胺反应合成了2,6-二(2′-咪唑啉-2′-基)吡啶,并用红外光谱、质谱、核磁共振、熔点分析测试技术对化合物的组成和结构进行了分析与表征。考察了反应溶剂、反应物比及微波辐射功率。结果表明,不同溶剂对反应产物和副产物的比例有明显影响,最佳溶剂为乙二醇,最佳反应条件为:原料摩尔比1:2.7,微波功率450W,辐射时间65min,温度130℃,总收率71.2%。通过紫外吸收光谱和黏度测定了其与DNA的相互作用,测得键合常数Kb=(9.60±0.05)×104L/mol,较常见的键合常数小。推测化合物与DNA可能是以氢键作用与DNA沟面结合。 相似文献
43.
利用直流脉冲磁控溅射方法在室温下通过改变O2流量制备具有不同晶体结构的N掺杂TiO2薄膜,利用台阶仪、X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计等设备对薄膜沉积速率、化学成分、晶体结构、禁带宽度等进行分析.结果表明:所制备的薄膜元素配比约为TiO1.68±0.06N0.11±0.01,N为替位掺杂,所有样品退火前后均未形成Ti—N相结构,N掺杂TiO2薄膜的沉积速率、晶体结构等主要依赖于O2流量.在O2流量为2 sccm时,N掺杂TiO2薄膜沉积速率相对较高,薄膜为非晶态结构,但薄膜内含有锐钛矿(anatase)和金红石(rutile)相晶核,退火后薄膜呈anatase和rutile相混合结构,禁带宽度仅为2.86 eV.随着O2流量的增加,薄膜沉积速率单调下降,退火后样品禁带宽度逐渐增加.当O2流量为12 sccm时,薄膜为anatase相择优生长,退火后呈anatase相结构,禁带宽度为3.2 eV.综合本实验的分析结果,要在室温条件下制备晶态N掺杂TiO2薄膜,需在高O2流量(>10 sccn)条件下制备.
关键词:
2薄膜')" href="#">N掺杂TiO2薄膜
磁控溅射
化学配比
晶体结构 相似文献
44.
45.
46.
本文以 Cr3 +自由离子的 3 d电子径向波函数为基础 ,对 Cr3 +∶Al2 O3 中的电子云延伸效应进行了理论研究 ,引入了电子云延伸效应系数 κ,得到了 Cr3 +∶Al2 O3 中 Cr3 +离子的最优化 3 d电子径向波函数 .并研究了压力对电子云延伸效应系数κ的影响 相似文献
47.
Study of total ionizing dose radiation effects on enclosed gate transistors in a commercial CMOS technology 下载免费PDF全文
This paper studies the total ionizing dose radiation effects on MOS
(metal-oxide-semiconductor) transistors with normal and enclosed gate
layout in a standard commercial CMOS (compensate MOS) bulk process.
The leakage current, threshold voltage shift, and transconductance of
the devices were monitored before and after $\gamma $-ray
irradiation. The parameters of the devices with different layout
under different bias condition during irradiation at different total
dose are investigated. The results show that the enclosed layout not
only effectively eliminates the leakage but also improves the
performance of threshold voltage and transconductance for NMOS
(n-type channel MOS) transistors. The experimental results also
indicate that analogue bias during irradiation is the worst case for
enclosed gate NMOS. There is no evident different behaviour observed
between normal PMOS (p-type channel MOS) transistors and enclosed
gate PMOS transistors. 相似文献
48.
以经典BZ化学反应体系的三变量Oregonator模型及电极过程动力学为基础,提出了外控弱周期电极电流约束下电极BZ反应体系与体相BZ反应体系相互耦合的动力学模型.在体相处于稳定定态参数条件下,系统地研究了外控弱周期电流约束下电极BZ反应体系中的动力学行为,定量分析了电流慢变流型上的准定态稳定性及有利于出现极限环振荡区域.研究表明,与以前所报道的外控弱周期电位约束情况类似,在外控弱周期电流约束下电极BZ反应体系中的极限环振荡区域亦发生了蜕变,但体系对外控电流约束中的这种持续性之周期扰动的响应表现在两个方面:有利于出现极限环振荡区域的缩变及原非振荡区胁迫振荡的出现. 相似文献
49.
建立耦合伞状采样的粗粒度分子动力学方法,研究球状胶束中表面活性剂分子的脱附过程,揭示表面活性剂聚集数、盐种类及浓度对表面活性剂脱附过程的影响机制。发现球状胶束半径及偏心率均随聚集数增加而增大,盐浓度的影响主要取决于抗衡离子的半径和吸附特性,半径更大、吸附更强的水杨酸根离子对胶束结构的影响更为显著;基于伞状采样方法获得了表面活性剂脱附自由能、脱附时间等关键参数,发现球状胶束中表面活性剂脱附自由能和脱附时间均随聚集数和盐浓度呈非单调变化,揭示其主要机制为离子吸附引起的静电屏蔽作用;发现自由能在表面活性剂脱附过程中起主导作用,结合胶束热力学理论发展了临界胶束浓度预测方法,获得了临界胶束浓度下胶束尺寸的分布范围。 相似文献
50.
系统研究了电解质锂盐对磷酸铁锂电极高温性能的影响, 并探讨了相关的作用机理. 差示扫描量热仪测试显示, 与LiPF6相比, 二(三氟甲基磺酰)亚胺锂(LiTFSI)和LiBF4具有对水份稳定且热稳定性好的优点, 更适合高温条件下使用. 应用等离子体发射光谱考察LiFePO4在55 ℃和不同电解液体系中铁离子溶出程度, 结果表明, 在LiTFSI和无氟锂盐电解液中LiFePO4的铁很少溶出, 而在LiPF6电解液中却溶出严重, 且FePO4的铁溶出量高于LiFePO4. 循环伏安和光学显微镜测试结果显示少量LiBF4的加入能有效抑制LiTFSI对集流体铝箔的腐蚀. 以LiTFSI和LiBF4作为混合锂盐配成的电解液能显著改善LiFePO4/Li电池的高温电化学性能, 在55 ℃和1 C倍率下循环40次后放电比容量达147.7 mAh/g. 相似文献