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以多孔钛片为载体的氧化铝膜的制备和表征 总被引:3,自引:0,他引:3
γ-alumine membranes supported by porous titanium plate were prepared by sol-gel techniqe with alumina isopropoxide. The factors, which influenced membrane per formance, in the membrane preparing process were investigated. A dynamic flow-weighted active pore size distribution apparatus for inorganic membrane were set-up on the basis of Kelvine equation. The results showed that for composite porous membrane the active pore size distribution is about 6-8nm, the most probable pore size is about 7nm and nitrogen permeability is 7.1×10-6mol﹒m-2﹒Pa-1﹒s-2. 相似文献
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本文在文献[1,2]提出的离散变量的结构优化设计的多阶段决策分析模型及解法的基础上,进一步讨论了平面刚架的结构优化设计问题;着重说明了指标函数矩阵的形成,状态变量集的设计等问题,为这一解法作了更为全面和系统的论述;在有位移约束的问题中同时引入了应力约束条件,讨论了多工况的处理,使此解法能毫无困难地应用到实际工程设计中:同时,编制了刚架结构优化的计算机程序,在微机上作出了有30根杆件的两跨六层刚架在四种工况下的计算例题。 相似文献
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激光等离子体加速器能够在cm尺度内产生GeV量级的高品质电子束,为研制台式化自由电子激光提供驱动源。但是受限于激光等离子体加速中的难点和现有技术发展,电子束的品质难以达到自由电子激光的需求,尤其在稳定性、发散角和能散等方面,阻碍了台式化自由电子激光的研制。介绍了基于激光等离子体加速器的自由电子激光的最新进展,整理了目前高增益自由电子激光实验过程中存在的主要挑战和对应的解决方案与实验进展,并展望未来的发展方向。最近的研究结果证明,通过控制和优化激光等离子体加速器的注入和加速过程产生的高品质电子束可以在指数增益区域实现自发辐射放大,产生高增益的辐射,这也推动基于激光等离子体加速器的自由电子激光研究进入了一个新的阶段。 相似文献
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采用无氟(PA-MOD)在(00l)取向的LaAlO3单晶基底上制备SmBa2Cu3O7-x(SmBCO)超导薄膜,研究了不同成相热处理温度对薄膜性能的影响.X射线衍射(XRD)分析结果表明,经过高温处理的SmBCO薄膜其晶粒具有良好的c轴生长取向.扫描电镜(SEM)分析表明,790℃成相的SmBCO薄膜的表面更加平整致密.物理性能测试系统(PPMS)测试结果表明SmBCO样品的超导临界温度Tc为89.74K.研究了高温热处理过程中不同熔融温度制备SmBCO薄膜的影响. 相似文献
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以γ-氨丙基三乙氧基硅烷(1)和二苯基氯化膦(2)为原料,经取代反应制得N-(二苯基膦基)-1,1-二苯基-N-[3-(三乙氧基甲硅烷)丙基]膦氮配体(3); 3与六水合氯化镍(4)反应合成了一种新型的磷-氮有机金属阻燃剂(5),其结构经1H NMR, 31P NMR和FT-IR表征。研究了物料比[r=n(2) : n(1)]、溶剂、反应时间和反应温度对3收率的影响。结果表明:在最佳反应条件[二氯甲烷为溶剂,1 19 mmol, r=2.3,于25 ℃反应14 h]下,3收率89.5%。 TGA测试结果表明:5的初始分解温度为252 ℃, 700 ℃残炭为31.9%。 相似文献
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王文涛 《浙江大学学报(理学版)》2009,36(4)
给出了基于L2范数下用m次(m≤n)C-Bézier曲线最小平方逼近n+1次C-Bézier曲线的方法,同时也考虑了C0和C1约束条件下的最小平方降阶逼近.通过解线性方程组可得到新的降阶逼近曲线的控制顶点,降阶逼近曲线的误差也可计算. 相似文献
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以铋、钆的硝酸盐等制备前驱溶胶体系,用CSD法在SrTiO3(100)基底上制备出c轴织构良好的可作为涂层导体缓冲层的GdBiO3(GBO)薄膜。首先利用差热分析的结果对GBO薄膜分解过程的吸、放热情况进行了研究,确定了较为适当的有机物分解工艺。在此基础上研究了不同外延成相热处理温度对GBO薄膜生长的影响,并对较高温度处理后样品产生裂纹的原因进行了初步分析。GBO薄膜的相组成和微结构利用XRD和SEM进行分析。研究结果表明,在Ar气氛中适宜于GBO薄膜生长的最佳温度在770℃度附近,在此条件下可以制备出表面平整致密的GBO薄膜。 相似文献
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