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Q. Sun Q. Wang X.G. Gong V. Kumar Y. Kawazoe 《The European Physical Journal D - Atomic, Molecular, Optical and Plasma Physics》2002,18(1):77-81
We report results of the atomic and electronic structures of Al7C cluster using ab initio molecular dynamics with ultrasoft pseudopotentials and generalized gradient approximation. The lowest energy structure is
found to be the one in which carbon atom occupies an interstitial position in Al7 cluster. The electronic structure shows that the recent observation [Chem. Phys. Lett. 316, 31 (2000)] of magic behavior of Al7C- cluster is due to a large highest occupied and lowest unoccupied molecular orbital (HOMO-LUMO) gap which makes Al7C- chemically inert. These results have further led us to the finding of a new neutral magic cluster Al7N which has the same number of valence electrons as in Al7C- and a large HOMO-LUMO gap of 1.99 eV. Further, calculations have been carried out on (Al7N)2 to study interaction between magic clusters.
Received 28 July 2001 相似文献
172.
CeOs4Sb12晶体中由于导电电子与Ce3+ 4f1电子之间存在c-f杂化作用导致费米面附近存在能量间隙.这种c-f近藤相互作用和能量间隙是理解CeOs4Sb12物理性质,如近藤绝缘体行为、Ce3+磁矩在低温下猝灭以及重费米性等电、磁性质的关键.当用LAM-D中子谱仪对粉末CeOs4Sb12进行测量时,可以得到不同温度下CeOs4Sb12的非弹性中子散射谱.结果表明CeOs4Sb12中存在近藤相互作用,其作用强度为3.1 meV,证实了CeOs4Sb12为近藤绝缘体.中子测量得出CeOs4Sb12德拜温度为317 K.
关键词:
非弹性中子散射
填充式方钴矿
近藤绝缘体 相似文献
173.
报道了利用兰州重离子加速器国家实验室ECR源引出的高电荷态离子207Pbq+(24≤q≤36)入射到Si(110)表面产生的电子发射的实验测量结果.结果表明,高电荷态离子与固体表面相互作用产生的电子发射产额Y与入射离子的电荷态q、入射角度ψ和入射能量E都有很强的关联.首次发现,电子发射产额Y与入射角度ψ间有接近1/tanψ的关系.理论分析认为,这些过程与基于经典过垒模型的势能电子发射过程密切相关. 相似文献
174.
175.
运用层析法、结晶法从狭苞橐吾全草中分离得到艾里莫芬烷型倍半萜8β-hydroxyeremophil-7(11)-ene-12,8α(4β,6α)-diolide化合物,并通过质谱、核磁共振氢谱和碳谱、氢核-氢核相关谱、异核多量子相干谱和异核多键相干谱进行结构鉴定.其单晶经X射线衍射测试表明,其晶体属正交晶系,空间群为P212121,晶胞参数为: a=6.8519(5),b=10.7191(8),c=18.5942(14)A,V=1365.67(18) A3,Z=4,Dc=1.354 mg/m3.F(000)=592,μ=0.101 mm-1 相似文献
176.
177.
Bo Jin Xi Wang Jing Chen Feng Zhang Xinli Cheng Zhijun Chen 《Applied Surface Science》2006,252(16):5627-5631
The oxidation of SiGe film epitaxial grown on top of SOI wafers has been studied. These SiGe/SOI samples were oxidized at 700, 900, 1100 °C. Germanium atoms were rejected from SiGe film to SOI layer. A new Si1−xGex (x is minimal) layer formed at SiGe/Si interface. As the germanium atoms diffused, the new Si1−xGex (x is minimal) layer moved to Si/SiO2 interface. Propagation of threading dislocation in SiGe film to SOI substrate was hindered by the new SiGe/Si interface. Strain in SOI substrate transferred from SiGe film was released through dislocation nucleation and propagation inner. The relaxation of SiGe film could be described as: strain relaxed through strain equalization and transfer process between SiGe film and SOI substrates. Raman spectroscopy was used to characterize the strain of SiGe film. Microstructure of SiGe/SOI was observed by transmission electron microscope (TEM). 相似文献
178.
In this paper, the dimension of the spaces of bivariate spline with degree less that 2r and smoothness order r on the Morgan-Scott triangulation is considered. The concept of the instability degree in the dimension of spaces of bivariate spline is presented. The results in the paper make us conjecture the instability degree in the dimension of spaces of bivariate spline is infinity. 相似文献
179.
180.
Solitary waves and their bifurcations of KdV like equation with higher order nonlinearity 总被引:3,自引:1,他引:2
We investigate the KdV like equation with higher order nonlinearity ut + a(1 +bun)unux + uxxx = 0with n ≥ 1, a, b ∈ R and α≠ 0. The bifurcations and explicit expressions of solitary wave solutions for theequation are discussed by using the bifurcation method and qualitative theory of dynamical systems. Thebifurcation diagrams, existence and number of the solitary waves are given. 相似文献