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A new multiscale simulation method is formulated for the study of shocked materials. The method combines molecular dynamics and the Euler equations for compressible flow. Treatment of the difficult problem of the spontaneous formation of multiple shock waves due to material instabilities is enabled with this approach. The method allows the molecular dynamics simulation of the system under dynamical shock conditions for orders of magnitude longer time periods than is possible using the popular nonequilibrium molecular dynamics approach. An example calculation is given for a model potential for silicon in which a computational speedup of 10(5) is demonstrated. Results of these simulations are consistent with the recent experimental observation of an anomalously large elastic precursor on the nanosecond time scale.  相似文献   
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We present a systematic study on ultrathin porous silicon (PS) layers (40–120 nm) of different porosities, formed by electrochemical etching and followed by thermal oxidation treatment (300°C and 600°C) and by electrochemical oxidation. The oxidised and non-oxidised PS layers have been analysed by spectroscopic reflectometry (SR), spectroscopic ellipsometry (SE) and secondary ion mass spectroscopy (SIMS). The SR and SE spectra were fitted by a multiparameter fit program and the composition and the thickness of the PS layers were evaluated by different optical models. PS layers, formed electrochemically in the outermost layer of a p/n+ monocrystalline silicon junction were successfully evaluated using a gradient porosity optical model. The non-oxidised PS, formed in p-type silicon, can be well described by a simple optical model (one-layer of two-components, silicon and voids). The spectra of the oxidised PS layers can be fitted better using an optical model with three interdependent components (crystalline-silicon, silicon-dioxide, voids). The SIMS results give a strong support for the optical model used for SR and SE.  相似文献   
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