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571.
第八课硷类——苛性钠、苛性钾及消石灰教学目的:使学生认识最重要的几种硷的性质和用途,并使其对可溶性硷的知识系统化。为了达到本课教学目的,可通过以下几个重点: 1.硷的定义及硷与碱的区别。 2.苛性钠,苛性钾,消石灰的性质及用途。 5.生石灰的制法及用途。进行本课时,应与第六章第三节碱类(68页)及本章第一节乙。盐酸的化学性质中的中和作用(84页)相联系。从复习该两节重点引出新课。检查学生知识: 1.酸类的成分和通性是什么? 2.什么叫做碱?你学过那几种碱? 讲授新教材:从提问第二题碱的意义是:“由金属与氢氧根化合而成的分子组成的物质,如果能溶于水的,就叫碱。”那么不溶于水的,又叫什么呢?它就称为硷(过去一度命名为(酉兼),现(酉兼)字已废 相似文献
572.
金属的溶剂萃取热力学研究 2:In~2(SO~4)~3+Na~2SO~4+D~2EHMTPA+n-C~8H~18+H~2O体系 总被引:3,自引:0,他引:3
在温度278.15-303.15K和离子强度=为0.1-2.0mol/kg范围内,在萃取体系In~2(SO~4)~3+Na~2SO~4+D~2EHMTPA+n-C~8H~18+H~2O体系中,本文测定了萃取平衡的In^3+的平衡浓度和水相pH值,其中Na~2SO~4为支持电解质.根据Pitzer电解质溶液理论,估算了平衡水相中的真实离子强度值,并用直线外推法和多项式拟合法确定了萃取过程的热力学平衡常数K^ ,进而计算了这个萃取过程的各个热力学量. 相似文献
573.
反式9, 10-二氢-9, 10-二苯基-9, 10-菲二醇包结性能的研究 总被引:5,自引:0,他引:5
合成了一种具有螯形结构的反式-9, 10-二氢-9, 10-二苯基-9,10-菲二醇(1)作为主体分子。它能与许多有机小分子化合物, 诸如DMF, DMSO, 吡啶, 哌啶, 喹啉, 异喹啉等形成包结化合物。本文还报道了这些包结化合物的IR, 粉末XRD的表征, 用^1H NMR谱测定了它们的分子摩尔比。DMF包结物的单晶四圆X衍射结果表明主体分子1与客体分子形成的包结物为配位笼状包合物。 相似文献
574.
门捷列夫以前关于化学元素的学说,像大家都知道的一样,乃是一些零碎的,缺乏元素间互相连系的知识。门捷列夫发现了周期律,他光辉地完成了把这些零碎知认统一成为俱有严整系统科学的任务。按照科学院院士А.Н.Ба×а的评论,周期律是,并将来也是自然科学领域中各部门成千累万新的探讨和创造性发现的指路 相似文献
575.
TC4作为一种常见的钛合金材料,其表面改性具有较高的研究价值与较广阔的应用前景。采用微弧氧化法,用不同浓度的K2SiF6电解液制备镀件,并与不含K2SiF6的主电解液制备的镀件进行对比,探究K2SiF6-Na3PO4电解液体系对钛合金膜层组织及亲水性的影响。结果表明,电解液电导率与K2SiF6含量正相关,K2SiF6的添加增大了反应电压与膜层中TiO2金红石相的比例;相较于不含K2SiF6的主电解液,添加2 g/L、4 g/L的K2SiF6使得膜层的F含量分别增加0.56%、0.94%,Si含量分别增加0.64%、1.02%,孔隙率分别增大2.05%、7.23%,接触角分别减小19.9°、33.7°;4 g/L的K 相似文献
577.
更新理论积分方程的解析解 总被引:1,自引:0,他引:1
本文利用再生核空间的特性,在W12空间中给出了析密度和更新函数的解析表达式,并与已有6文献中的数值结果进行了比较,显示该计算途径是可行的。 相似文献
578.
采用分散控制方案能有效解决大尺度土木结构在地震作用下的结构振动控制问题。本文将静态输出反馈、重叠分散控制方法、线性矩阵不等式方法和H∞范数控制算法相结合,提出了多重叠分散静态输出反馈H∞控制方法。通过对状态矩阵添加一个微小的扰动,解决了在求解相应的线性矩阵不等式(LMI)时所遇到的计算困难问题。文中对20层Benchmark建筑结构模型进行数值模拟与计算。结果表明,部分输出反馈控制、重叠静态输出反馈控制和多重叠静态输出反馈控制均获得了与全状态集中控制相近的控制效果,减少了计算成本和控制器设计的复杂性。 相似文献
579.
本文对SiC-水纳米流体在3种多孔平行流矩形通道扁管中的流动与换热特性进行了实验研究。第一种扁管是光滑管,另外两种是带有不同间距的微翅片结构的管道。纳米流体的体积分数为0.005%、0.01%和0.1%,Re范围为150~5300。实验结果表明:微翅片结构对纳米流体的流动特性没有明显的影响;微翅片肋片间距对纳米流体的换热特性有一定的影响。微翅片的存在引起纳米流体在微翅片管段的强化程度低于光滑管道。最后,利用性能评价标准对纳米流体的综合性能进行了评定,表明在光滑管中Re≈5100时,0.01%的纳米流体的PEC达到最大值为1.68。 相似文献
580.
提出一种基于支持向量机(SVM)及遗传算法(GA)的集成电路版图光刻热点检测方法.首先对版图样本进行离散余弦变换(DCT)以提取样本的频域特征,然后基于这些样本训练SVM分类器以实现对光刻热点的检测.为了提高光刻热点检测的精度及效率,采用遗传算法(GA)对频域特征进行选择,并同时优化SVM参数.实验结果表明,基于SVM及版图频域特征并结合遗传算法进行优化的光刻热点检测方法可以有效提高版图光刻热点的检测精度. 相似文献