全文获取类型
收费全文 | 844篇 |
免费 | 222篇 |
国内免费 | 327篇 |
专业分类
化学 | 575篇 |
晶体学 | 13篇 |
力学 | 74篇 |
综合类 | 24篇 |
数学 | 230篇 |
物理学 | 477篇 |
出版年
2024年 | 6篇 |
2023年 | 22篇 |
2022年 | 27篇 |
2021年 | 27篇 |
2020年 | 14篇 |
2019年 | 32篇 |
2018年 | 35篇 |
2017年 | 20篇 |
2016年 | 35篇 |
2015年 | 22篇 |
2014年 | 60篇 |
2013年 | 44篇 |
2012年 | 66篇 |
2011年 | 46篇 |
2010年 | 56篇 |
2009年 | 49篇 |
2008年 | 47篇 |
2007年 | 48篇 |
2006年 | 59篇 |
2005年 | 54篇 |
2004年 | 61篇 |
2003年 | 48篇 |
2002年 | 30篇 |
2001年 | 23篇 |
2000年 | 31篇 |
1999年 | 40篇 |
1998年 | 28篇 |
1997年 | 41篇 |
1996年 | 40篇 |
1995年 | 33篇 |
1994年 | 31篇 |
1993年 | 34篇 |
1992年 | 29篇 |
1991年 | 26篇 |
1990年 | 29篇 |
1989年 | 20篇 |
1988年 | 11篇 |
1987年 | 12篇 |
1986年 | 9篇 |
1985年 | 8篇 |
1984年 | 7篇 |
1983年 | 6篇 |
1982年 | 5篇 |
1981年 | 5篇 |
1980年 | 5篇 |
1965年 | 3篇 |
1962年 | 1篇 |
1961年 | 1篇 |
1960年 | 1篇 |
1959年 | 1篇 |
排序方式: 共有1393条查询结果,搜索用时 15 毫秒
991.
文章综述了Eu2+在某些基质化合物中的f-f跃迁.在考察文献数据基础上,总结出Eu2+在氟化物(或氧化物)中产生f-f跃迁的某些规律性,并根据电负性、配位数及离子半径等提出一种判断Eu2+产生尖峰结构光谱的经验方法.在缺少结晶学数据情况下,该方法有可能用来预测Eu2+产生线状峰的新基质化合物.镧系离子的电子结构早已为人们所熟知.三价铕离子(Eu3+),有六个自旋平行的4f电子[1、2、3].根据洪德规则,Eu3+很容易变成Eu2+,4f壳层呈现半充满状态(4f7),获得与Gd3+具有相同的电子构型,从而趋于稳定. 相似文献
992.
993.
一、引言离子注入法(Ion Implantation)是半导体材料掺杂工艺中常用的一种手段,特别是制作大规模集成电路,这是一种必不可少的方法。然而,近年来,这一方法已逐渐从半导体工艺中延伸并转移到了其他学科领域。尤其在固态化 相似文献
994.
995.
托卡马克等离子体的热平衡特性与脱栏现象 总被引:1,自引:1,他引:0
本文利用欧姆加热条件下简化的能量平衡方程研究了热传导与杂质辐射的综合效应。首先指出边缘辐射带的建立与随半径增大而增大的K=nx模型紧密相关(x为电子热传导系数,n为等离子体密度),然后利用删削层中能量平衡关系确定边界温度,自洽地求解了能量平衡方程,得出的脱栏等离子体形成条件能较好地解释有关实验观察到的多种现象。 相似文献
996.
合成了铕离子激活的MMgF4.磷光体,研究了Eu3+离子的光谱特征与基质化合物的关系,存在三类发光中心,讨论了基质组成对铕离子价态的影响。 相似文献
997.
998.
999.
1000.
This paper describes a micro thermal shear stress sensor with a cavity underneath, based on vacuum anodic bonding and bulk micromachined technology. A Ti/Pt alloy strip, 2μm×100μm, is deposited on the top of a thin silicon nitride diaphragm and functioned as the thermal sensor element. By using vacuum anodic bonding and bulk-si anisotropic wet etching process instead of the sacrificial-layer technique, a cavity, functioned as the adiabatic vacuum chamber, 200μm×200μm×400μm, is placed between the silicon nitride diaphragm and glass (Corning 7740). This method totally avoid adhesion problem which is a major issue of the sacrificial-layer technique. 相似文献