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分布式认知对创设网络虚拟环境的启示 总被引:1,自引:0,他引:1
随着互联网技术的迅速发展,计算机网络已经成为人类社会生活中不可缺少的一部分。作为新兴的“第四媒体”,它具有数字化、多元化、全球化、虚拟化、交互性和即时性的特征,对人们的生活、工作和学习方式产生了很大的影响。目前,多媒体教学逐步得到推广,网上教育的实施已经起步。然而实验作为教育的重要环节,其相应的发展比较滞后。学校教育中的实验教学和远程教育中的实验教学都还存在许多不足之处,不能满足信息化教育的需要。
网络虚拟实验的出现,解决了远程教育中的实验教学难点,对远程教育质量的提高具有不可估量的作用。目前网络的传输速度已经达到千兆比特/秒,网络带宽和传输速度不再成为制约网络实验教学的“瓶颈”,这些都为网络虚拟实验的开展创造了条件。网络虚拟实验对传统实验教学的改革、推动远程教育的发展具有重要意义。因此,研究如何构建网络虚拟实验系统在现阶段显得非常重要。 相似文献
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磨料对铜化学机械抛光过程的影响研究 总被引:2,自引:6,他引:2
利用CP-4型抛光试验机对直径为50.8 mm、表面沉积厚530 nm的铜硅片(表面粗糙度Ra为1.42 nm)进行化学机械抛光(CMP)试验,评价了CMP过程中不同磨料作用下的摩擦系数和材料去除率;利用ZYGO表面形貌分析系统测试含不同磨料抛光液抛光后的硅片表面粗糙度;采用扫描电子显微镜分析CMP后的铜硅片表面损伤形貌.结果表明,磨料的浓度和粒径直接影响CMP过程的摩擦系数:采用5%粒径25 nm硅溶胶为抛光液时的摩擦系数低于超纯水抛光时的摩擦系数;当磨料的添加量和粒度增加时摩擦系数增大.在相同试验条件下,采用10%粒径25 nm硅溶胶抛光材料的去除率为50.7 nm/min;粒径为1μm白刚玉磨料的抛光材料去除率为246.3 nm/min;单纯磨料使铜硅片表面变得粗糙,即用10%粒径25 nm硅溶胶抛光后的表面粗糙度仍大于原始表面(Ra值达3.43 nm);在单纯磨料或超纯水为抛光液抛光下铜硅片表面出现划伤. 相似文献
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表面涂敷聚四氟乙烯固体润滑薄膜的混合式陶瓷球轴承与全钢轴承性能对比分析 总被引:1,自引:0,他引:1
以受轴向载荷的三点接触球轴承为研究对象,采用Heathcote轴承滚动滑动理论,计算了轴承球与套圈之间的表面滑动,并根据固体表面受力变形,计算了固体薄膜润滑情况下轴承球与滚道间的牵引力,对比分析了混合式陶瓷球轴承和全钢轴承在高速下产生的热量、表面剪应力、旋滚比以及接触角等重要轴承性能参数.结果表明:在PTFE固体薄膜润滑下,陶瓷球轴承在40 000r/min、3000N载荷下所产生的热量仅为钢轴承的62.6%,旋滚比为钢轴承的18%.试验结果对特殊工况下陶瓷球轴承的设计和应用具有参考价值. 相似文献
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采用溶胶-凝胶方法制备了三甲基杯[6]芳烃/羟基硅油(C[6]/OH-TSO)固相微萃取(SPME)探头,通过与气相色谱-氢火焰(GC-FID)联用测定了土壤中的多环芳烃(PAHs)。考察了影响萃取效率的因素如时间、温度和盐浓度等,比较了杯[6]芳烃探头和杯[4]芳烃探头以及商用PDMS探头对PAHs的萃取效果。结果表明:杯[6]芳烃SPME探头具有耐高温(380℃)、使用寿命长(7200次)等特点,对样品中PAHs的萃取效果明显优于其它探头。本方法检出限低(0.008~0.440mg/L),重现性好(RSD<7%),线性范围宽(3个数量级)。回收率在70.20%~105.1%之间。 相似文献
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在HL-2A装置上将开展多项辅助加热实验,其中电子回旋波加热实验研究是等离子体二级加热的手段之一。今年从俄罗斯引进了两只500kW的回旋管,可做1Mw电子回旋共振加热实验。为此,我们根据电子回旋加热实验的要求研制了两套TZ-2型高压脉冲调制器,在今年的物理实验中验证了它的可靠性,其性能的稳定和安全满足了实验的要求。电子回旋加热的功率为200-300kW,脉冲宽度1000ms,在实验中观察到电子温度上升约200eV,同时也观察到热辐射和X射线辐射的上升,为进一步开展大功率长脉冲实验打下了基础。 相似文献
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采用溶胶-凝胶方法制备了25,27-二羟基-26,28-(1′,10′-二氧代-4′,7′-二氮杂-3′,8′-二氧代亚辛基)-对-特丁基-杯[4]芳烃/羟基硅油(胺桥杯[4]/OH-TSO)固相微萃取(SPME)探头,通过对脂肪胺和芳胺的分析研究了它的特性。该探头具有耐高温、抗溶剂冲洗、使用寿命长、重现性好等特点。杯环上极性胺桥的引入增强了涂层的极性,因而在不需衍生的情况下对脂肪胺和芳胺都具有很好的萃取能力,表现出对胺类化合物的特殊选择性。脂肪胺的检出限为0.19~39.51 μg/L,线性范围达3个数 相似文献
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低杂波、电子回旋和中性束等系统作为二级加热的重要手段,将分步投入HL-2A装置并开展实验。为了满足辅助加热各系统工程调试及实验需要,须配置符合各系统要求的高压脉冲调制电源。 相似文献