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31.
丁彤  单凯 《发光学报》1993,14(1):99-104
本文报导了通过改进珐琅介质的介电性能,并采用特殊的灼烧工艺,获得高亮度.长寿命的搪瓷交流电致发光(AC—EL)屏的方法。  相似文献   
32.
聚L—谷氨酸—炔诺酮肟酯复合体的制备   总被引:2,自引:0,他引:2  
  相似文献   
33.
邦德列雅金著《连续群》第六章有一个如下的例题(中译本283页)。 例65 设α_1,…,α_r为线性无关的无理数的有限组(以整数n_1,…,n_r为系数的和n_1α_1 … n_rα_r,只当所有系数为零时才为零)。我们来证,对任何正数e  相似文献   
34.
Ag含量对熔融织构YBCO结构及超导电性的影响   总被引:3,自引:0,他引:3  
本对熔融眼导体进行了Ag掺杂研究,Ag掺杂量为0-18wt%,并添加了适量的211相,使YBCO超导体中起钉扎中心作用的211相达到20wt%。采用加高熔化温度的BdBa2Cu3Ox籽晶的办法解决子Ag掺杂引起YBCO晶粒细化的问题,制备了强织构Ag掺杂大块的YBCO超导体,并对其超导电性和Ag的行为进行了研究。  相似文献   
35.
HfO_2单层膜的吸收和激光损伤阈值测试   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
薄膜吸收是降低膜层激光损伤阈值的重要原因,为了研究薄膜吸收对激光损伤阈值的影响,对HfO2单层膜在1 064 nm处的吸收及其在不同波长激光辐照下的损伤阈值进行了测试和分析。研究结果表明:薄膜的激光损伤阈值由薄膜吸收平均值(决定于薄膜中缺陷的种类和数量)和吸收均匀性(决定于薄膜中缺陷的分布)共同决定;根据HfO2单层膜在1064 nm波长处的吸收值,不但可以定性判断薄膜在1 064 nm波长,而且还可以判断在其它波长激光辐照下的抗激光损伤能力。  相似文献   
36.
MOCVD生长中载气H2对N掺杂ZnO性质的影响   总被引:5,自引:5,他引:0  
采用MOCVD方法在石英衬底上生长ZnO。实验使用二乙基锌(DEZn)为锌源,N2O作为氧和氮源,H2作为载气。采用PL和Raman光谱方法对ZnO样品进行表征,结果表明H2的加入大幅度减少薄膜中碳的掺入,明显改善了薄膜的光学质量。采用N2O离化技术,可以进一步提高其带边峰的强度,抑制带内发光。XRD测量表明,生长的ZnO薄膜具有c轴择优取向。目前生长高质量N掺杂的p型ZnO薄膜是很困难的,而H2作为载气的加入明显改善了ZnO薄膜的光学性质,在生长过程中加入H2将为获得高质量N掺杂的p型ZnO薄膜提供一种途径。  相似文献   
37.
有电荷转移络合物参与的共聚体系竞聚率   总被引:1,自引:1,他引:0  
从有电荷转移络合物参与的共聚体系增长基元反应出,提出一种有CTC参与的共聚体系竞聚率的求法,从中得到4个竞聚率,自由单体和CTC的相对活性等信息。  相似文献   
38.
破乳剂对复合驱乳状液的破乳机理研究   总被引:12,自引:0,他引:12  
针对模拟采出液和三元复合驱矿场采出液,研究了破乳剂对复合体系界面张力和膜强度的影响.破乳剂浓度增加,二元复合体系界面张力降低,而三元复合体系界面张力升高.破乳剂分子部分顶替乳化剂分子并显著降低了界面膜强度.  相似文献   
39.
通过两步电化学阳极氧化技术制备了孔径为40nm的多孔纳米阳极氧化铝材料(AAO),在AAO薄膜上分别填充了几种有机荧光分子使其形成高度有序的有机-无机复合体发光阵列,测定了此复合体的发射光谱.结果表明,AAO薄膜对有机分子具有较强的结合能力,其结合能力来源于物理和化学的协同作用.在AAO纳米薄膜上的有机荧光分子的最大发射波长均产生了明显的蓝移现象,初步探讨了此现象的机理.有机分子填充进入高度有序的AAO纳米孔阵列之中时,有机分子的聚集形式会发生改变并且也是高度有序的,同时由于极化作用使有机分子沿着纳米孔的轴向具有相对优势的分子取向,使有机分子在AAO纳米薄膜上形成了接近单分子层的高度有序的排列方式,增强了发光效率.  相似文献   
40.
产生感生电动势的非静电力为感生电场力, 它是感生电场对电荷的作用力, 而感生电场及非闭合回路 感生电动势的计算是大学物理中较难理解的问题. 通过对一道计算感生电动势的问题进行分析, 得到了3种解决问 题的方法, 加深了学生对感生电场及感生电动势计算的理解和掌握  相似文献   
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