某些多元解析函数的唯一性及其应用

在本文中,我们把S.Mandelbrojt,N.Wiener以及P.Malliavin在半平面内一元解析函数唯一性的定理推广到多元情形,并且应用所得结果研究了多维广义矩量问题,包括新引进的Stieltjes-Hamburger矩量问题,还研究了多元函数用广义多项式的加权逼近以及多元广义准解析函数类,得到了一些必要条件与充分条件,包括并改善了一些已有的结果.     

壳聚糖-明胶共混膜

用溶液共混法成功地制备了壳聚糖与明胶共混膜,并用红外光谱, Ｘ 射线衍射,扫描电镜,透光率,吸水率及力学性能测试对共混膜进行了表征结果表明,共混膜中壳聚糖分子与明胶分子间存在强的相互作用及良好的相容性,壳聚糖的引入有利于减小明胶的吸水率,改善其力学性能     

数学方法论(MM)在我国大学数学教学中的应用

综述了数学方法论在我国大学数学教学中的应用及其取得的成果.由一项数学教育实验所确证的"数学方法论的数学教育方式"(简称MM教育方式),即应用数学的发展规律、数学的思想方法和数学中的发现、发明与创新的观点设计数学教学,既教证明又教猜想,使教学、研究、发现同步.它不仅提升了学生的一般科学素养,增进了社会文化修养,形成和发展了数学品质,从而全面提高了学生素质;而且也培养与造就了一批既能胜任教学,又能从事科研的数学教师.     

固相萃取-气相色谱法测定茶叶中多种有机磷农药残留量

本文选择石墨碳黑固相萃取小柱对茶叶样品进行净化,样品中残留的农药经过乙腈洗脱,浓缩后采用气相色谱-火焰光度检测器(FPD)测定.研究结果表明,茶叶中添加农药浓度为0.02～1.0 mg/kg时,9种农药的平均回收率为75.76%～107.9%,相对标准偏差为1.38%～8.95%,方法检出限为0.006～0.01 mg...     

HPLC同时测定牛蛙中的己烯雌酚、呋喃唑酮、磺胺类药物残留量

建立牛蛙中己烯雌酚、呋喃唑酮、磺胺甲氧嘧啶、磺胺二甲嘧啶、磺胺间甲嘧啶、磺胺甲恶唑、磺胺喹恶啉残留量同时测定的高效液相色谱法。研究碱性氧化铝活性对磺胺,己烯雌酚、呋喃唑酮净化效果的影响。样品以乙腈提取,正己烷脱脂,碱性氧化铝净化,Hypersil ODS C18(4.6 mm i.d.×250 mm,5μm)进行分离。回收率在82.3%~95.3%,相对标准偏差为3.3%~5.7%,己烯雌酚、呋喃唑酮和磺胺的检出限分别为0.5、0.1和0.2 ng。     

碳铂双助催化剂增强CdS空心球光催化产氢性能

利用半导体光催化分解水产氢是将太阳能转换为化学能最有前景的方法之一.在众多的半导体光催化剂中,硫化镉(CdS)不仅具有可见光响应的带隙值(约2.4 eV),而且其导带底和价带顶的能级横跨于水的氧化还原电势两端,能够在可见光照射下分解水产氢,这使得CdS成为一种热门的光催化剂而被广泛研究.然而,单一CdS由于光生电子?空...     

微波辅助合成缺陷型氧化钨及其光催化杀菌机理:氧空位的作用（英文）

饮用水的微生物污染问题受到越来越多的重视,亟需发展更加安全的饮用水消毒技术.光催化消毒由于其利用取之不尽的太阳光作为能源的特点成为近年来最有潜力的"绿色"杀菌技术,然而传统TiO2光催化只能响应紫外光,并且目前已报道的可见光响应催化剂的杀菌效率仍然较低,不能满足应用需求.表面氧空位修饰是提高光催化剂性能的有效途径,已被证明可提高光催化降解、产氢及CO2还原性能,然而其对于光催化杀菌的增强机制少有研究.WO₃由于具备可见光催化性能而受到较多关注,同时研究表明表面氧空位可提高WO₃光吸收性能从而增强活性,但氧缺陷型WO₃的光催化杀菌性能尚不明确.另一方面,氧缺陷WO₃多是通过H₂热还原制备或长时间水热反应制备,存在高温易爆、反应时间长等缺点.本文以WO₃为例,利用微波辅助溶剂热法合成WO_3–x,研究其在可见光下的光催化杀菌性能,探明氧空位对杀菌作用的增强机制,提出针对光催化杀菌的缺陷型催化剂制备策略.研究发现,以乙醇作为溶剂WO_...     

纯铅化学机械抛光中工艺参数对抛光性能的影响

为获得高质量纯铅表面,采用化学机械抛光(CMP)的方法并辅以自制抛光液,研究了胶体二氧化硅抛光颗粒的形状、粒径和浓度、加载压力、抛光头与抛光盘转向和转速、抛光液流量等工艺参数对铅片表面材料去除率和粗糙度的影响.研究表明:小粒径异形(眉形)胶体二氧化硅抛光颗粒相较于大粒径球形颗粒更有利于铅片抛光,抛光颗粒的粒径和浓度对纯铅抛光性能的影响主要取决于铅片表面与胶体二氧化硅颗粒以及抛光垫表面丝绒的耦合作用关系.随着加载压力、抛光头与抛光盘转向和转速、抛光液流量的改变,铅片表面和抛光垫之间驻留的层间抛光液的厚度以及状态发生改变,从而直接影响抛光液的流动性、润滑性和分散性,以及影响抛光颗粒和化学试剂与铅片表面的机械化学作用,进而影响抛光质量和材料去除率.通过对工艺参数影响的研究和对工艺参数的优化,最终获得了表面粗糙度R_a为1.5 nm的较为理想的超光滑纯铅表面,同时材料去除率能够达到适中的380?/min.