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光学光刻是目前超大规模集成电路(VLSI)制备中主要的微米和亚微米的图形加工技术,这一技术将继续保持其主导地位成为90年代VLSI发展的关键。本文综述了近年来光学光刻工艺的发展,主要介绍了G线(436nm)、Ⅰ线(365nm)和准分子激光光刻的现状,并对实现高的光学光刻分辨率所必须解决的透镜设计、套准精度和像场面积等问题作了详细描述。最后展望了发展方向、 相似文献
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本文导出了考虑外场和束流效应后束流均方根发射度平方变化方程的一般表达式,并就仅考虑外场,仅考虑空间电荷场和仅考虑尾场等三种特殊情况进行了分析。 相似文献
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Feng Song 《Applied Surface Science》2006,253(5):2393-2398
Recently, the generation of spatial gradient nanoparticle assemblies has attracted much attention. Such assemblies can be intriguing templates for building novel molecular architectures, and be employed as a combinatorial tool for quick determination of interaction selectivity for nanoparticles. In this communication, we report on convenient contact printing based techniques for generating lateral gradients containing nanoparticles with tunable geometry, scale and steepness. In the first method, octadecyltrichlorosilane (OTS) gradient surfaces were generated via the contact printing approach, and then spaces un-occupied by OTS molecules were back-filled with an amine-terminated silane, which allows the grafting of nanoparticles that were surface functionalized with carboxylic acid. By varying the size and geometry of the stamp, different geometrical gradients were generated. In addition, by changing the stamping procedures, either well-defined stepwise gradients or continuous gradients can be achieved. Furthermore, the contact printing based technique can be utilized in combination with diffusion of the aminosilane molecules to directly create its gradient, and consequently a nanoparticle density gradient. 相似文献
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巯基乙酸锑配合物的合成与X射线粉末衍射数据指标化 总被引:2,自引:0,他引:2
一些锑和铋的配合物可以应用于医药研究[1,2 ] ,已合成了许多锑的有机配体配合物[3~ 7] ,但其中大多数没有生物活性。因此 ,研究锑或铋离子的配合物不仅对主族元素化学、生物无机化学而且对医药都有着非常重要的意义。我们用三氯化锑与巯基乙酸液相反应法合成的二巯基乙酸锑 (Ⅲ)配合物 ,其组成为HSb(SCH2 COO) 2 ,用X射线粉末多晶衍射数据指标化来研究配合物晶体结构[8] 。1 实验部分1 1 仪器与试剂EA - 1 1 0 6型元素分析仪 (意大利卡拉欧巴公司制造 ) ,D Max -YB型多晶X射线粉末衍射仪(日本理学 ,CuKα射线 ,… 相似文献