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导电高聚物是发展迅速且应用广泛的重要电极材料,由于大多数电化学反应发生在导电高聚物/金属和导电高聚物/溶液界面,如果能获得其界面结构的信息,将对导电高聚物表面所发生的电化学反应以及导电高聚物的聚合、降解的机理研究有极大的帮助。但无论是常规电化学技术还是一般光谱电化学技术都难于得到有关界面结构的信息,因为通常情况下较强的导电高聚物膜本体的信号将“淹没”来自界面的信号。所幸的是表面增强拉曼散射(SER 相似文献
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激光诱导吡咯和邻苯二胺的电化学聚合高劲松蔡雄伟田中群*(厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室,化学系,物理化学研究所厦门361005)关键词激光诱导,电化学聚合,微加工,聚吡咯,聚邻苯二胺1996-08-12收稿,1996-11-18修回国家自然科... 相似文献
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大尺寸中阶梯光栅具有大孔径和极高的衍射级次,可以实现普通光栅难以达到的极高光谱分辨率。中阶梯光栅通常是利用刻划机在厚铝膜上刻划而成,所以制备大面积均匀性的高质量铝膜刻划基底是实现高性能大尺寸中阶梯光栅的关键因素。在较厚铝膜的制备工艺中,基底温度是至关重要的工艺参数。本文通过电子束热蒸发镀铝工艺在不同基底温度下制备了厚铝膜样品,并利用原子力显微镜、扫描电镜等手段从宏观和微观尺度详细分析了基底温度对铝膜质量的影响。铝膜平均晶粒尺寸从100℃时的264.34 nm增大到200℃时的384.97 nm和300℃时的596.35 nm,表面粗糙度Rq从100℃时的34.7 nm增长到200℃时的58.9 nm和300℃时的95.1 nm。结果表明,随着基底温度的升高表面粗糙度迅速增大,铝膜的表面质量严重退化。 相似文献
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几十年来,胶体化学的理论和应用获得了很大的发展,并已深入到制药学、生理学、临床医学和生物医学工程等医药学领域的许多方面。在目前正在着力研究并已获得很大发展的某些交叉领域中,胶体化学更是发挥了重要的作用。 相似文献
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根据空间应用项目需求,采用等离子辅助电子束蒸发方法对RB-SiC基底进行了表面改性,并对表面改性的性能和可靠性进行了相关评估.经测试,改性后RB-SiC基底表面粗糙度(rms)降低到0.632 nm;散射系数降低到2.81%,500~1 000 nm范围的平均反射率提高到97.05%,已经接近于抛光良好的微晶玻璃的水平;改性涂层温度稳定性高,与基底结合牢固;加工后,面形精度达到0.119λ(PV)和0.014λ(rms),λ=632.8 nm.评估结果表明,这种SiC基底表面改性的工艺是可靠的,其光学性能满足空间高质量光学系统的要求,适宜空间环境应用. 相似文献