CVD金刚石膜中1145cm~(-1)拉曼峰的研究

用拉曼光谱手段对CVD方法生长的金刚石膜,特别是其中最有争议的1145cm-1附近的拉曼峰进行了研究。用不同波长激光激发得到此峰的拉曼谱与量子尺寸选择效应所预期规律的相反,反驳了将1145cm-1附近的拉曼峰指认为纳米晶金刚石本征峰的说法。而通过对不同样品的比较,从侧面支持了将它归结为杂质,即反式聚乙炔的指认。更进一步通过分析不同尺寸的样品中杂质峰的相对强度,提出了这个峰的强度或许可以作为金刚石晶粒尺寸判据的建议。     

K2NiF4型Sr2CrO4的磁电性质研究

以SrO和CrO₂为原料, 在高温高压的条件下直接反应生成纯相的K₂NiF₄结构的Sr₂CrO₄多晶样品. 结构用粉末X射线衍射及GSAS精修表征. 磁化率测试显示样品存在一个弱的反铁磁相变, 奈尔温度为T_N=95 K. 在奈尔温度以上, 磁化率随温度的变化遵循居里-外斯定律. 对样品进行了电阻测试, 结果显示了样品的绝缘特性.     

人工裁剪制备石墨纳米结构

采用不同的方法裁剪高定向热解石墨（HOPG），制备纳米尺寸的石墨条.首先,发现用聚焦离子束（镓离子）刻蚀高定向热解石墨，可以得到边缘整齐程度在几十纳米的石墨条,另外,用 电子束曝光和反应离子刻蚀的工艺，可以得到最小尺寸为50 nm的纳米石墨图型 (nano-size d graphite pattern,纳米尺寸的多层石墨结构).采用了三种不同的方案制备反应等离子刻 蚀过程中需要的掩膜，分别是PECVD生长的SiO₂掩膜，磁控溅射的方法生长的Si O₂掩膜和PMMA光刻胶掩膜，并将三种方案的刻蚀结果做了对比. 关键词： 高定向热解石墨 聚焦离子束刻蚀 电子束曝光 反应离子刻蚀     

一种结构新颖、边带陡峭的高温超导带阻滤波器

研制了一种结构新颖的高温超导带阻滤波器.这种带阻滤波器的设计值为:中心频率,2.5GHz带内最大衰减65dB.而用YBCO薄膜制成的带阻滤波器实物经调谐,其中心频率与设计值相同,带内最大衰减为73dB,优于设计指标.该滤波器的主要优点是体积小、边带陡,而且可以与其他滤波器组合使用.     

Electrospun fluorescein/polymer composite nanofibers and their photoluminescent properties

Fluorescein/polyvinyl pyrrolidone (PVP) composite nanofibers with different fluorescein loadings (with a weight concentration of 0-5.0%) are fabricated via electrospinning. Morphologies, structures and photoluminescent (PL) properties of these straight, helical or wavelike fibers are characterized by scanning electron microscopy (SEM), fluorescence microscopy and a spectrophotometer. It is found that the maximum emission of the as-spun fluorescein/PVP fibers occurs at 510 nm. The PL intensity of the composite fiber increases with fluorescein concentration, then fluorescence quenching appears when the concentration reaches 1.67%. The mechanism of fluorescence quenching of fluorescein is discussed. In addition, the composite fibers exhibit a much stronger PL intensity than fluorescein/PVP bulk film owing to larger specific surface area, which makes them promising materials for biomedical applications such as probes and sensors.     

金刚石锥阵列的无掩膜刻蚀制备及其形貌演变机制

为获得具有优良场发射性能的金刚石锥阵列,利用偏压热灯丝化学气相沉积系统分别在高质量大颗粒金刚石厚膜与纳米金刚石薄膜上进行了无掩膜刻蚀研究,系统比较了高质量大颗粒金刚石厚膜与纳米金刚石薄膜的刻蚀特性,制备了大面积均匀金刚石锥阵列和高长径比(20∶1)金刚石纳米线阵列,探讨了金刚石锥的刻蚀形成机理。