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11.
组分挥发对熔体提拉法晶体生长的影响
路治平
洪慧聪
《人工晶体学报》
1995,24(1):59-63
本文从熔体组分挥发产生杂质这一观点出发,研究了二元化合物AmBn熔体中的杂质产生率以及过剩组分杂质在熔体和晶体中的浓度,并导出了浓度分布的数学表达式,分析了组分挥发对熔体提拉法晶体生长的影响,并对其结果进行了讨论。
相似文献
12.
硅酸铋晶体的结晶习性
罗豪苏
路治平
《人工晶体学报》
1990,19(3):228-234
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