Calderón-Zygmund算子在CH_p~q上的有界性

本文讨论了δ－Calderon－Zygmund算子以及θ（t）－Calderon－Zygmund算子在Hardy型空间CHqp上的有界性．     

极大算子交换子在各向异性Morrey-Herz空间上的有界性

本文引进了伴随伸缩矩阵A的各向异性齐次Morrey-Herz型空间,利用Hardy-Littlewod极大算子交换子的Lp有界性,证明了Hardy-Littlewod极大算子交换子在各向异性齐次Morrey-Herz型空间上的有界性,对于分数次Hardy-Littlewod极大算子交换子也得到了类似的结果.     

Dynamical Effects on Sub-barrier Fusion of ^40,48Ca＋^90,96Zr

We have measured the fusion cross sections for ^48Ca＋^90,96Zr around the Coulomb barrier and presented them along with the experimental data of ^40Ca＋^90,96Zr. The experimental results are compared with the improved quantum molecular dynamics model calculations. It is shown in comparison that the dynamical effects play an important role in the sub-barrier fusion reaction     

铜粉末动态压缩行为的多颗粒有限元分析

颗粒金属材料的宏观力学性能与其细观特性密切相关,金属粉末的冲击压缩问题有待深入研究。选用实验结果较为丰富的铜粉末作为研究对象,基于多颗粒有限元法建立了颗粒金属材料的二维数值分析模型,研究了铜粉末在冲击压缩下的力学行为。数值计算结果表明,在较高速度冲击下颗粒金属材料呈现出高度局部化的变形带,变形带如同冲击波一样从冲击端向支撑端传播。利用速度场计算方法,计算得到了塑性冲击波波阵面的位置,进而获得了不同孔隙率(0.25～0.60)铜粉末的粒子速度与冲击波波速之间的Hugoniot关系,其在较高冲击速度(200～300 m/s)下与实验结果吻合较好。发展了以动态锁定应变为唯一参数的冲击波模型,较好地表征了铜粉末在较高速度冲击下的Hugoniot关系和波后应力。     

电子设备电磁辐射敏感度测试相关问题研究

针对部分电子设备通过国军标所规定的电磁兼容试验考核后,在实际训练、作战使用过程中仍存在电磁不兼容等现实问题,在对现行标准中的技术要求和测试方法进行系统分析的基础上,结合研究团队近几年在电子信息装备电磁环境效应研究方面的技术积累,探讨了测试过程中未寻找受试设备敏感接收方向、带内频点电磁辐射敏感度测试缺失以及多辐射源共同作用导致受试设备敏感度阈值显著降低等几个方面对电子信息装备电磁辐射敏感度测试结果的影响,在此基础上给出了解决上述相关问题的措施和建议,探讨了强场电磁辐射效应试验技术及电子设备复杂电磁环境适应性评估技术的发展趋势。     

非双倍测度下Calderón-Zygmund算子交换子在Morrey-Herz空间上的有界性(英文)

在非双倍测度下对Calderón-Zygmund算子与RBMO(μ)函数生成的交换子有界性进行了研究.借助于Soria的证明技巧,应用Morrey-Herz空间的特征,以及RBMO(μ)函数所具有的类似于BMO函数的性质,并利用非双倍测度下方体系数KQ,R的性质,得到了非双倍测度下Calderón-Zygmund算子交换子在Morrey-Herz空间上的有界性.     

各向异性加权Herz空间及其分解(英文)

本文给出了各向异性加权Herz空间的概念.借助于加权中心块的定义,得到了该空间的分解.     

Calderón-Zygmund算子在CHpq上的有界性

本文讨论了δ－Calderon－Zygmund算子以及θ（t）－Calderon－Zygmund算子在Hardy型空间CH_p^q上的有界性．     

利用反应时间分析多核子转移反应中丰中子核的产生机制

在改进的量子分子动力学(ImQMD)模型框架下,研究了136 Xe+198 Pt体系的多核子转移反应过程.给出了不同弹靶接触时间下二分裂碎片的总动能-质量分布,发现准弹性碰撞、深度非弹性碰撞和准裂变反应事件可以采用弹靶接触时间进行粗略的划分.分析了不同弹靶接触时间下类靶碎片的双微分截面分布以及Ba同位素的产生截面分布,...     

Fundamental study towards a better understanding of low pressure radio-frequency plasmas for industrial applications

Two classic radio-frequency (RF) plasmas, i.e., the capacitively and the inductively coupled plasmas (CCP and ICP), are widely employed in material processing, e.g., etching and thin film deposition, etc. Since RF plasmas are usually operated in particular circumstances, e.g., low pressures (mTorr-Torr), high-frequency electric field (13.56 MHz-200 MHz), reactive feedstock gases, diverse reactor configurations, etc., a variety of physical phenomena, e.g., electron resonance heating, discharge mode transitions, striated structures, standing wave effects, etc., arise. These physical effects could significantly influence plasma-based material processing. Therefore, understanding the fundamental processes of RF plasma is not only of fundamental interest, but also of practical significance for the improvement of the performance of the plasma sources. In this article, we review the major progresses that have been achieved in the fundamental study on the RF plasmas, and the topics include 1) electron heating mechanism, 2) plasma operation mode, 3) pulse modulated plasma, and 4) electromagnetic effects. These topics cover the typical issues in RF plasma field, ranging from fundamental to application.