二维WSe2场效应晶体管光电性能

自石墨烯被发现以来,随着人们不断的研究和探索,越来越多具有类似结构的二维材料因其优异的光电性质相继被发现和研究.过渡金属硫族化合物(TMDs)因其丰富的物理性质而受到广泛关注.本文研究了三层二硒化钨(WSe2)纳米片的光电性能.利用范德华力将WSe2转移到SiO2/Si衬底的Au电极上,用银浆引出背栅电极,制备了WSe...     

微等电聚焦分离等位基因表达蛋白的研究

借助于显微操作方法,用等电聚焦和改进的超敏感染色技术对西葫芦单个花粉粒中的可溶性蛋白进行了电泳分析,获得了清晰的电泳图谱。在靠近酸性端有两条相距极近而且分布比较特殊的蛋白带,在第１种植株中,这两条带稍微靠近酸性端;在第２种植株中,它们稍微远离酸性端;在第３种植株中,它们相同于第１种和第２种,而且在两种之间的分布比例为１∶１。就这两条带的分布情况在判断植株的相对纯合性或杂合性方面的应用以及单花粉蛋白等电聚焦技术配合显微操作方法在群体遗传学和发育生物学研究方面的应用作了讨论。     

阳离子交换树脂对盐酸麻黄碱交换吸附与解离的研究

研究了强酸型阳离子交换树脂对盐酸麻黄碱的交换吸附与妥离作用。发现在弱碱和酸性溶液中树脂地盐酸麻黄碱的亲和力很强。强碱性环境则不利同树脂的亲和;用2．0Mol/L NaOH或2．0Mol/L HCl作为解离液时的解离效果优于2．0Mol/L NaCl溶液的解离液效果。温度对解离的影响不是很大,在室温条件下进行解离即可取得较好的解离效果。选用了有机溶剂乙醇,乙二醇,乙腈和四氢呋喃作为解离增强剂,以乙醇较为合适,且其浓度在15％左右时较好,在给定离子交换柱中的解离情况,用含2．0Mol/L HCl的15％乙醇地,回收率为91％。     

等离子体增强分子束外延生长ZnO薄膜及光电特性的研究

利用等离子体辅助分子束外延设备(P-MBE)在蓝宝石(Al2O3)衬底上外延生长ZnO薄膜,研究了不同生长温度对结晶质量的影响.随着生长温度的升高,X射线摇摆曲线(XRC)半高宽从0.88°变窄至 0.29°,从原子力显微镜(AFM)图像中发现薄膜中晶粒从20nm左右增大至200nm,室温光致发光(PL)谱中显示了一个近带边的紫外光发射(UVE)和一个与深中心有关的可见光发射.随着生长温度升高,可见光发射逐渐变弱,薄膜的室温载流子浓度由1.06×1019/cm3减少到7.66×1016/cm3,表明在高温下生长的薄膜中锌氧化学计量比趋于平衡,高质量的ZnO薄膜被获得.通过测量变温光谱,证实所有样品在室温下PL谱中紫外发光都来自于自由激子发射;随着生长温度的变化UVE峰位蓝移与晶粒尺寸不同引起的量子限域效应相关.     

P-MBE制备氮掺杂p型ZnO中空穴的散射机制

利用等离子体辅助的分子束外延(P-MBE)技术,在蓝宝石衬底上制备了氮掺杂的p型ZnO薄膜。通过变温霍尔测量研究了空穴浓度和迁移率随温度的变化特性。对载流子浓度拟合的结果表明氮受主具有75meV的能级深度。通过对各种散射机制下迁移率的讨论,发现由晶粒及其晶界组成的这种结构极大地降低了p型ZnO中载流子的迁移率。     

硼对氮掺杂的p型ZnO薄膜的影响

利用分子束外延设备在蓝宝石衬底上生长了B/N共掺的p型ZnO薄膜,对比了B/N共掺和N单掺杂样品的物理学性能。通过X射线光电子能谱测试证明了在薄膜中存在有B和B-N键。B/N共掺样品的空穴浓度比单一N掺杂样品高近两个量级。且ZnO：（B,N）薄膜在两年多的时间内一直显示稳定的p型电导。这是由于B-N键的存在提高了N在ZnO薄膜中的固溶度,且B-N键之间强的键能和B占据Zn位所表现的弱施主特性不会带来强的施主补偿效应,说明B是N掺杂ZnO薄膜的一种良好的共掺元素。     

银修饰的ZnO纳米线的发光和光响应性质

采用不同浓度的银溶液对水热方法生长的ZnO纳米线进行了银修饰,并对其形貌、光致发光和光响应特性进行了研究.实验结果表明,随着修饰用银浓度的加大,光致发光的强度减弱.对原生的和用浓度为10mmol/L的银修饰的ZnO纳米线的光响应进行了测试和比较,发现银修饰的ZnO纳米线在380 nm的响应度达4.6 mA/W,其值是未...     

中国物理学会发光分会第11届会员代表大会会议纪要

中国物理学会发光分会第11届会员代表大会于2010年11月7日在苏州召开。参加本次代表大会的会员代表共240余人。会议由发光分会上届委员会副主任、北京交通大学王永生教授主持。发光     

梯度组分缓冲层诱导的单一立方相Mg_(0.3)Zn_(0.7)O薄膜外延生长

为了实现MgZnO合金带隙全跨度调制,利用低压MOCVD设备,在c面蓝宝石衬底上采用MgO籽晶层和组分渐变缓冲层控制立方相MgxZn1-xO薄膜的生长,获得了Zn组分达到0.7的单一立方相MgxZn1-xO薄膜,把MgZnO合金带隙调制范围从MgO一侧扩展到了4.45 eV,覆盖了整个日盲紫外波段。对比实验分析表明,这种高Zn组分立方相MgZnO薄膜的生长得益于缓冲层晶格模板的结构诱导作用和适宜的生长温度(350~400℃)。Mg0.3Zn0.7O基MSM结构紫外探测器响应峰位于270 nm,截止波长295 nm。     

树形结构Si/ZnO纳米线阵列的制备及光学性能

用一种低成本的方法制备出了树形结构Si/ZnO纳米线阵列。首先在室温条件下用金属辅助化学腐蚀法在Si(100)衬底上制备了Si纳米线阵列,Si纳米线的直径尺寸及分布都很均匀,通过改变腐蚀时间,能够得到高度不同的Si纳米线阵列。利用磁控溅射在Si纳米线表面制备一层ZnO薄膜,然后利用水热法在Si纳米线阵列上生长了ZnO纳米线。通过扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析仪(EDS)和光致发光(PL)测试对样品进行了表征。通过这种方法制备的Si/ZnO复合结构在太阳能电池、光催化等领域有潜在应用价值。