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81.
首次报道了射频磁控溅射CaS∶TmF3薄膜的蓝色交流电致发光.电致发光谱包含位于480、653、703和803nm的四组发光峰,分别对应着三价Tm3+离子的1G4→3H6、1G4→3H4、3F3→3H6和3F4→3H6的电子跃迁发光.通过对CaS∶TmF3粉末的激发光谱的研究,我们发现由于蓝峰和红外峰的激发峰的能量不同导致不同能量的光子激发下的光致发光光谱的红外/蓝峰的强度比有较大的差别.通过对电致发光光谱中红外/蓝峰强度比与不同波长的激发光激发下CaS∶TmF3粉末的光致发光光谱的红外/蓝峰强度比的对比研究,我们判断主要激发过程为从基质到Tm3+中心的能量传递. 相似文献
82.
Compositional and Structural Properties of TiO2-xNx Thin Films Deposited by Radio-Frequency Magnetron Sputtering
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TiO2-xNx thin films are deposited onto Si(100) and quartz substrates by arf magnetron sputtering method using a titanium metal disc as a target in Ar, N2, and 02 atmospheres. The substrate temperature is kept at 300℃. The O2 and Ar gas flow rates are kept to be constants and the N gas flow rate is varied. TiO2-xNx films with different N contents are characterized by x-ray diffraction and x-ray photoelectron spectroscopy. The results indicate that the TiO2-xNx thin films can be obtained at 13% N and 15% N contents in the film, and the films with mixed TiO2 and TiN crystal can be obtained at 13% N and 15% N contents in the film. In terms of the results of x-ray photoelectron spectroscopy, N ls of β-N (396 eV) is the main component in the TiO2-xNx thin films. Because the energy level of β-N is positioned above the valence-band maximum of TiO2, an effective optical-energy gap decreases from 2.8 eV (for pure TiO2 film deposited by the same rf sputtering system) to 2.3 eV, which is verified by the optical-absorption spectra. 相似文献
83.
84.
ZnTe films have been prepared on Si substrates by metal-organic chemical vapour deposition (MOCVD), and the temperature-dependent photoluminescence (PL) properties were investigated. The near-band-edge (NBE) emission of the ZnTe sample at 83K shows an asymmetry line shape, which can be decomposed into two Gaus-siam lines labelled by FE and BE. Temperature-dependent PL intensity of the NBE peak shows two variation regions, and an expression with two dissociation channels fits well to the experimental data. The results of the temperature-dependent full width at half maximum (FWHM) and peak energy were well understood under the framework of the two-dissociation-channel model. That is, at low temperature, the emission from bound excitons governs the NBE peak, while above 157K, the free exciton emission becomes dominant gradually. A simple model with three energy levels was employed to describe the variation in emission intensity of BE and FE with temperature. 相似文献
85.
86.
87.
MOCVD方法生长ZnO微米柱的结构与光学性质 总被引:2,自引:2,他引:0
通过X射线衍射、扫描电子显微镜和变温光致发光光谱对MOCVD方法生长在蓝宝石衬底上的ZnO微米柱材料的结构及发光特性进行了表征.X射线衍射结果表明,ZnO具有良好的c轴择优取向,扫描电子显微镜图中可观察出ZnO微米在呈六角结构生长,半径约为0.5~1.5μm.样品的发光光谱通过He-Cd激光器的325nm线激发,从光谱中发现低温(81K)下出现极强的与激子相关的带边发光峰,温度升高到360K时与自由激子相关的紫外发射峰仍然是清晰可见. 相似文献
88.
用等离子体辅助分子束外延生长氧化锌单晶薄膜 总被引:4,自引:0,他引:4
利用等离子体辅助分子束外延(P-MBE)方法,通过优化生长条件,在c平面蓝宝石(Al_2O_3)上生长出氧化锌(ZnO)单晶薄膜。使用反射式高能衍射仪(RHEED)原位监测到样品表面十分平整,X射线摇摆曲线(XRC)测得ZnO薄膜的<002>取向半峰全宽为0.20°,证实为ZnO单晶薄膜。室温下吸收谱(ABS)和光致发光(PL)谱显示了较强的激子吸收和发射,且无深能级(DL)发光。电学性能测量表明,生长的ZnO为n型半导体,室温下载流于浓度为7×10~(16) cm~(-3),与体单晶ZnO中的载流子浓度相当。 相似文献
89.
聚氧化乙烯表面修饰对ZnO光学性质的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
利用聚氧化乙烯(PEO)对ZnO表面进行修饰,研究有机包覆对ZnO光学性质的影响。用吸收光谱和光致发光光谱来表征和研究PEO包覆对ZnO纳米粒子光学性质的影响。吸收光谱结果表明随着ZnO薄膜中PEO含量的增加,激子吸收峰逐渐向低能侧方向移动。光致发光光谱是由紫外发射和与氧空位有关的深能级缺陷发光组成,且随着ZnO薄膜中PEO含量的增加,紫外发射与深能级发光强度之比逐渐增大,当ZnO薄膜中的PEO达到最大值时,其比值为31.5,远远大于纯ZnO薄膜的紫外发射与深能级发光强度之比1.04。由此可见,ZnO被PEO包覆后,提高了紫外发光效率,改善了ZnO薄膜的质量。 相似文献
90.