双对称本原矩阵k-点指数的极矩阵

一个n阶本原矩阵A的k-点指数是A的最小幂指数,使得在这个幂中,存在着k个全1行．最近我们得到了n阶双对称本原矩阵的k-点指数的上确界．本文将在此基础上,以伴随图的形式给出其极矩阵的完全刻划．     

开平碉楼灰雕和壁画颜料碎片原材料的拉曼光谱分析

本文采用显微激光拉曼光谱分析了开平碉楼灰雕和壁画黄色颜料碎片的原材料组成,通过分析发现:灰雕的主要成分是稻草杆(作为骨架材料),石灰(CaCO3),沙(石英SiO2)以及黄色颜料类胡萝卜素.壁画黄色颜料碎片的成分则是针铁矿(α-FeOOH)和CaSO4.这也说明开平碉楼在选材上,即使是在同一栋楼内,相同颜色的颜料使用的...     

石墨烯/银纳米线复合透明导电薄膜光电性能及稳定性研究

利用旋涂法和机械转移法在柔性衬底聚对苯二甲酸乙二酯(PET)基板表面构建石墨烯/银纳米线复合透明导电薄膜.复合薄膜具有优良的电学性能,在可见光550 nm处透过率为73.2;,薄膜面电阻低至0.32 Ω/□.与银纳米线薄膜相比,石墨烯/银纳米线复合薄膜还表现出良好的电学稳定性,在90天后银纳米线薄膜面电阻增加率高达648;,而复合薄膜面电阻的增加率仅为30;.此外,在270天后,复合薄膜在循环弯曲300次前后,与LED灯串联可获得恒定的输出电压,表现出良好的机械弯曲稳定性.     

不同年代的纸颜料的拉曼光谱和荧光光谱分析

本文研究了不同年代的纸(记事本(1921年),信纸(1934年),英语字典封面(2001年)以及标签纸(2008年))上红色颜料的显微激光拉曼光谱和荧光光谱。结果表明:不同年代的纸的颜料结构和光学性能也不同,其生产工艺也不一样。     

溶胶-凝胶法制备Eu3+掺杂SiO2玻璃粉体及其性质

采用溶胶-凝胶方法制备了从1%-10%不同浓度Eu离子掺入的SiO2玻璃,并对于不同浓度掺杂和退火处理对其结构和发光性能的影响进行了研究。X射线衍射测试显示,制备出了Eu离子掺入的无定形SiO2玻璃。SEM显示,退火处理后的样品呈多孔“蜂窝”状结构。稀土离子掺入的浓度和退火温度等对Eu离子掺入的SiO2玻璃的结构和荧光发光性质有十分显著的影响。发现稀土离子掺杂浓度从1%-10%的过程中出现了两次浓度淬灭等现象。     

微观结构对Eu:Ti纳米材料光学性能的影响

以TiO_2∶Eu纳米颗粒为原材料,采取水热和高温(700 ℃)退火的方法合成了铕掺杂钛纳米棒(简写成Eu∶Ti 纳米棒).其结构和光学性能用场发射扫描电镜,显微共聚焦激光拉曼光谱,稳态荧光以及寿命谱进行表征.场发射扫描电镜图片显示纳米棒的直径大约为30 nm,长度大约为300~600 nm.显微共聚焦激光拉曼光谱测试结果表明纳米棒中含有部分锐钛矿结构.稳态荧光光谱显示纳米棒的发光强度明显比纳米颗粒的强度强,而且发光谱线也不同.检测Eu~(3+)的~5D_0→~7F_2跃迁(发光峰位在612 nm)的发光强度,采用394 nm激发,发现纳米棒的寿命比纳米颗粒的长120 μs.     

高质量WO3薄膜的制备及其电致变色数码显示器件

本文首先探索热蒸发法制备高质量WO3薄膜的工艺参数,分别从基片类型,基片温度和蒸发速率三方面讨论和分析成膜的质量,获得在ITO玻璃基片最佳的蒸镀条件为蒸发电流为110 A,基片温度为250℃。其次,应用高质量WO3薄膜于全固态电致变色器件结构中,获得了良好的变色性能,实现逐段控制的数码显示效果。研究结果表明高质量WO3薄膜在电致变色器件,特别是双面显示器件方面具有潜在的应用前景。     

温度变化对Eu/TiO2纳米材料的结构和光学性能的影响

研究了温度(包括退火温度,测试温度)变化对Eu3+掺杂TiO2纳米颗粒的结构和光学性能的影响.结果表明:随着退火温度的升高,纳米颗粒的尺寸变大,Eu3+发光增强;而且当退火温度升到973 K时,纳米颗粒的形状由球状变成方形,并开始发生相变;此后Eu3+离子发光峰的强度随着温度升高明显减弱,与此同时生成了一个新的宽荧光峰...     

磷扩散法制备P型ZnO薄膜

应用射频反应磁控溅射的方法,将ZnO薄膜沉积于高磷掺杂的n+型Si衬底上.在沉积和后退火过程中,磷向ZnO薄膜扩散并被激活,使ZnO薄膜由n型转化为p型,从而形成p型ZnO薄膜.X射线衍射分析(XRD)证明了所制备的ZnO薄膜都是高c轴取向的六角纤锌矿结构的薄膜.电学I-V关系曲线的整流特性和空穴浓度≥1.78×1018 /cm3的霍耳效应测试结果证明了p型ZnO薄膜的形成.     

双对称本原矩阵κ-点指数的极矩阵

一个n阶本原矩阵A的κ-点指数是A的最小幂指数,使得在这个幂中,存在着κ个全1行.最近我们得到了n阶双对称本原矩阵的κ-点指数的上确界.本文将在此基础上,以伴随图的形式给出其极矩阵的完全刻划.