在硅(001)上预沉积β-SiC定向层后金刚石薄膜的定向生长

采用无毒、不易燃的六甲基二硅胺烷和氢气在硅(001)单晶上用施加负偏压处理和化学汽相沉积(CVD)方法预沉积定向的βSiC.傅里叶红外光谱证实βSiC层的存在.微俄歇谱表明在这种方式下,850℃下即生成密集的与硅的三个〈001〉方向平行的碳化硅单晶晶粒.接着用甲烷代替六甲基二硅胺烷作为碳源,在其上继续施加负偏压处理和CVD生长.微俄歇谱表明小正方形渐渐变成大正方形,其成分也从含硅碳变成只含碳.微喇曼谱证实了这一变化过程中的相结构从立方碳化硅变成金刚石.这一生长过程中对应的定向关系为金刚石〈001〉∥βSi 关键词：     

辣素衍生物的合成及其对新月菱形藻生长的抑制活性

通过对辣素结构分析,设计合成了9种辣素衍生丙烯酰胺单体,分析了它们的产率和熔点。并通过FTIR、NMR测试技术进行了结构表征和确认。其中有7种化合物是新化合物。室内生物学实验初步证明,所合成的辣素衍生丙烯酰胺单体对新月菱形藻生长均显示一定的抑制活性,,其大小为HDMBA>DMBA≈BMA>TMBA≈HMTBA>CHBA>HMMBA>BHBA>HMBA。     

C3N4/BiVO4/Cu2O复合材料用于纯水中CO2光还原为甲醇

采用分步合成方法将Cu2O纳米颗粒原位还原组装到C3N4/BiVO4表面,设计并合成了 C3N4/BiVO4/Cu2O复合材料.在该过程中,首先将具有光氧化能力的BiVO4与C3N4复合制备出C3N4/BiVO4复合物,进一步通过原位合成法在C3N4/BiVO4复合物表面沉积Cu2O纳米颗粒制备出C3N4/BiVO4/...     

3aβ-羟基-4α-氯-7αβ-甲基六氢茚-1,5-二酮和4aβ,5β-环氧-8aβ-甲基十氢萘1,6-二酮的晶体结构和分子构型

用X射线晶体结构分析法测定了氯代羟基六氢茚二酮(1)和环氧十氢萘二酮(2)的晶体结构和分子构型。化合物1属正交晶系,空间群为Pbca,晶胞参数a=10.439(1),b=19.950(2),c=9.455(1)A,Z=8;化合物2属单斜晶系,空间群为P2~1/c,晶胞参数a=8.355(2),b=9.221(2),c=25.801(4)A,β=94.19(1)`,Z=8。在RASA-IIS型四圆衍射仪上收集了这两个化合物的衍射数据,用直接法解晶体结构,经块对角矩阵最小二乘修正,对化合物1的1810个独立的可观察反射,R=0.043;对化合物2的1804个独立的可观察反射,R=0.064。化合物1带有a-Cl,β-CH~3和β-OH。由此推断环氧六氢茚二酮(3)的分子构型带有β-CH~3和β-环氧。化合物2中的甲基和环氧基均为β构型,与3相似,因此Danishefsky等由核磁共振所推断的关于2的分子构型中的α环氧应校正为β环氧。     

Tight Focusing of Radially and Azimuthally Polarized Vortex Beams through a Dielectric Interface

Based on vectorial Debye theory, tight focusing of radially and azimuthally polarized vortex beams passing through a dielectric interface are studied. The intensity distribution in the focal region is illustrated by numerical calculations. We show the influence of numerical-aperture （NA） on the full-width at half maximum （FWHM） of the focal spot or the focal hole. It has been found that compared with the azimuthally polarized Besse~Gaussian （BG） beams, the longitudinal component in the z direction of the radially polarized BG beams has no influence on the FWHM of the focal spot and hole, but enhances the total light intensity.     

用于电子传输材料的含噻吩环噁二唑衍生物的合成

在有机电致发光器伯研究中,电子传输材料占有特殊重要的地位。但现存在的材料存在着不同的缺点。因噁二唑环的高的电子亲和性,噁二唑衍生物是常见的电子传输材料,如：2-(4-叔丁苯基)-5-联苯基噁二唑(PBD),但容易结晶和低的电子? 缀托韵拗屏怂挠τ谩Ｎ说玫叫碌挠行У牡缱哟洳牧希疚囊脏绶晕鹗挤从ξ锞獯Ⅳ人峄Ⅴセ苯獾炔街韬铣闪肃绶远ｋ拢偻ü绶远ｋ掠胂嘤Φ娜〈郊柞Ｂ人鹾稀⒐鼗返姆椒ń坏缱拥泥绶曰泛透叩缱忧缀托缘泥绶曰吠币耄铣闪巳中碌暮绶曰穱f二唑衍生物2,5-双[2,2'-双(5-取代苯基)-1,3,4-噁二唑]噻吩(R-OXDR=H,OCH~3,CH~3)。同时,采用循环伏安法对其电? 阅芙辛瞬舛āＵ馊只衔锒荚诟悍较虺鱿至艘欢钥赡娴难趸乖澹纱说玫狡涞缱忧缀褪?EA)分别为-3.10eV,-3.07eV和-3.08eV,其EA值都高于常用? 牡缱哟洳牧螾BD。R-OXD的高电子亲和势有利于电子从阴极注入。并且由时间渡? 椒?TOF)测得R-OXD的电子迁移率达到10^-^4cm^2/V.S(E=10^6V/cm)。所以R-OXD有可能是好的电子传输材料。     

Al-H共掺杂ZnO薄膜的形貌及光致发光性能研究

在不同衬底温度条件下采用RF磁控溅射法在石英玻璃上沉积Al-H共掺杂ZnO薄膜.对所有样品进行晶体结构、表面形貌、电学、光学以及室温光致发光性能分析.结果表明:随着衬底温度的升高,ZnO薄膜的结晶度增加,晶粒增大,薄膜致密度增加;薄膜表面起伏变化减小;同时,电阻率最低达到7.58×10-4Ω·cm,透过率保持在75;左右.所有ZnO薄膜样品都以本征发光为主,Al-H共掺杂在一定程度降低ZnO薄膜缺陷发光的强度;随着衬底温度的升高,ZnO薄膜的本征发光强度明显增大;同时在能量为3.45 eV附近观察到了一个紫外发光峰.     

2′,3′-O-二苯甲酰尿嘧啶核糖核苷U(BZ)_2单晶的制备和晶体结构测定

制备了2＇,3＇-O-二苯甲酰基尿嘧啶核糖核苷U(BZ)_2,并在DMF溶液中培养得到单晶。单晶经X射线衍射测定,属三斜晶系,空间群为Pl。晶胞参数a=5.734(1)(?),b=10.124(3)(?),c=11.905(3)(?),α=73.07(2)°,β=84.36(2)°,γ=81.61(2)°,Z=1。用CAD-4四圆衍射仪收集衍射数据。用直接法解晶体结构,用块对角矩阵最小二乘法修正,对3154个独立反射,最终R=0.070。U(BZ)_2的碱基相对于糖环为β构型,两个苯甲酰基在空间上远离5＇-OH,使5＇-OH周围空隙较大,因而苯甲酰基作为Ur的2＇,3＇-羟基的保护基,对5＇-OH的反应不存在立体障碍。     

CVD金刚石薄膜在水润滑条件下的摩擦磨损性能研究

采用偏压辅助增强热丝CVD法在硬质合金衬底上制备常规金刚石薄膜和超细晶粒金刚石薄膜,在往复式球-盘摩擦磨损试验机上考察金刚石薄膜在干摩擦和水润滑条件下的摩擦磨损性能,分别采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪和能谱仪分析金刚石薄膜的表面形貌特性、结构特征及其摩擦表面残余物质的组成.结果表明,常规金刚石薄膜和超细晶粒金刚石薄膜在水润滑下的摩擦系数分别约为0.25和0.22,超细晶粒金刚石薄膜对偶件的磨损率仅为6.94×10-6 mm3/(Nm),显示出优异的减摩性能,可作为良好的水润滑摩擦副涂层材料.     

电纺聚苯胺涂层表面浸润性和表面荷电对微生物附着的影响

材料表面浸润性和表面荷电对微生物在材料表面的附着有着非常重要的影响.本文采用静电纺丝法在不锈钢电极表面分别制备了疏水和亲水的聚苯胺纤维涂层,利用电化学阻抗谱监测大肠杆菌在两种聚苯胺纤维涂层表面的附着情况.结果表明,亲水表面有利于抑制大肠杆菌的附着.通过电化学极化使亲水表面分别带正电荷和负电荷,利用平板涂布计数法研究了不同极化时间下两种荷电表面的抑菌率,发现无论正电荷还是负电荷都有利于抑制微生物附着,而且二者没有明显差异.在相同的阴极极化条件下,亲水和疏水的聚苯胺纤维涂层抑菌性能相差不大,说明对于电纺聚苯胺涂层抑制细菌附着而言,电化学极化的影响大于表面浸润性的影响.