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在[1]中作者指出:讨论有限群的Frattini子群的各种各样的推广是人们感兴趣的问题。并研究了一类特殊的极大子群对有限群G的结构的影响,但是文中两个主要结果有误,我们用两个例子来说明,并给出这两个结果成立的条件。 为方便我们复述如下的定义以及[1]中的定理1.1和定理1.8。 相似文献
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采用MOCVD法在c面蓝宝石衬底上生长出了高质量的MgxZn1-xO薄膜. 研究了退火对MgxZn1-xO薄膜各种特性的影响. 将样品分别在真空和氧气中退火1 h. X射线衍射研究发现, 在真空中, 尤其是在氧气中退火的样品的(002)峰均增强. 由原子力显微镜观察发现, 在真空中退火样品的表面与未退火样品的表面几乎相同, 而在氧气中退火后样品的表面变得光滑了很多. 从光致发光光谱中发现, 真空退火后的样品的紫外光谱峰显著增强, 而深能级发射峰几乎消失. 在氧气中退火后样品的紫外光谱峰减弱而深能级发射峰显著增强. 所以退火对MgxZn1-xO薄膜的各种性质具有重要的影响, 通过退火可调节MgxZn1-xO的晶体质量与光学质量. 相似文献
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Temperature-dependent photoluminescence on organic-inorganic metal halide perovskite CH_3NH_3PbI_(3-x)Cl_x prepared on ZnO/FTO substrates using a two-step method
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Temperature-dependent photoluminescence characteristics of organic-inorganic halide perovskite CH_3NH_3Pb I_(3-x)Cl_x films prepared using a two-step method on ZnO/FTO substrates were investigated. Surface morphology and absorption characteristics of the films were also studied. Scanning electron microscopy revealed large crystals and substrate coverage. The orthorhombic-to-tetragonal phase transition temperature was~140 K. The films' exciton binding energy was 77.6 ± 10.9 meV and the energy of optical phonons was 38.8 ± 2.5 meV. These results suggest that perovskite CH_3NH_3Pb I_(3-x)Cl_x films have excellent optoelectronic characteristics which further suggests their potential usage in perovskitebased optoelectronic devices. 相似文献
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Ag纳米粒子的形貌对InGaN/Ga N多量子阱(MQWs)的光致发光(PL)效率有着显著影响。本文采用离子束沉积(IBD)技术将Ag沉积在InGaN/Ga N MQWs上,然后通过快速热退火处理制备Ag纳米粒子。通过改变Ag的沉积时间获得了具有不同Ag纳米粒子形貌的样品。用原子力显微镜对各样品的Ag纳米粒子形貌和尺寸进行了表征,并且测试了吸收谱、室温和变温PL谱及时间分辨光致发光(TRPL)谱。结果表明:随着Ag沉积时间的延长,所得Ag纳米粒子粒径增大,粒子纵横比先增大后减小且吸收谱峰红移。由于不同形貌的Ag纳米粒子在入射光作用下产生的局域表面等离激元(LSPs)与MQWs中激子耦合强度不同,光发射能力也不同,与没有Ag纳米粒子的样品相比,沉积时间为15 s的样品室温PL积分强度被抑制6.74倍,沉积时间为25 s和35 s的样品室温PL积分强度分别增强1.55和1.72倍且峰位发生红移,沉积时间为45 s的样品室温PL积分强度基本没有变化。TRPL与变温PL的测试结果证明,室温PL积分强度的改变是由于LSPs与MQWs中的激子耦合作用引起的。纵横比大且吸收谱与MQWs的PL谱交叠大的Ag纳米粒子能够更好地增强InGaN/Ga N MQWs的发光。 相似文献
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采用MOCVD方法在GaAs衬底上生长ZnO(002)和ZnO(100)薄膜 总被引:2,自引:0,他引:2
采用金属有机化学汽相沉积生长法(MOCVD),在不同的衬底表面处理条件和生长温度下,在GaAs衬底上生长出了ZnO薄膜。随着化学腐蚀条件的不同,可生长出优先定位不同的ZnO(100)和ZnO(002)薄膜。该薄膜的晶体结构特性是由X光衍射谱仪(XRD)所获得的,而其光学特性是由光荧光谱仪(PL)来测的。与ZnO(002)相比,ZnO(100)薄膜具有更优越的晶体结构特性,并且在同样的生长温度下都具有相似的光学特性。对于腐蚀条件不同的GaAs衬底所进行的XPS分析结果表明,ZnO薄膜优先定位变化的主要原因在于腐蚀过程中形成的富As层。 相似文献
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GaInSb/GaSb量子阱结构的低温光致发光谱 总被引:1,自引:0,他引:1
GaInSb三元合金半导体可用于制作工作于1.55~5.5μm波段范围的光电子器件.在光通讯方面,需要2.55μm波长的激光器和接收器,GaInSb半导体合金无疑是一种可选的材料.此外,这种材料也可用于制作高速电子器件,与GaAs基异质结构相比,Ga... 相似文献
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In this paper, numerical analysis of GaSb (Eg = 0.72 eV)/Gao.84Ino.16Aso.14Sbo.86 (Eg = 0.53 eV) tandem thermopho- tovoltaic (TPV) cells is carried out by using Silvaco/Atlas software. In the tandem cells, a GaSb p-n homojunction is used for the top cell and a GalnAsSb p-n homojunction for the bottom cell. A heavily doped GaSb tunnel junction connects the two sub-cells together. The simulations are carried out at a radiator temperature of 2000 K and a cell temperature of 300 K. The radiation photons are injected from the top of the tandem cells. Key properties of the single- and dual-junction TPV cells, including I-V characteristic, maximum output power (Pmax), open-circuit voltage (Voc), short-circuit current (/~sc), etc. are presented. The effects of the sub-cell thickness and carrier concentration on the key properties of tandem cells are investigated. A comparison of the dual-TPV cells with GaSb and GalnAsSb single junction cells shows that the Pmax of tandem cells is almost twice as great as that of the single-junction cells. 相似文献
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以三甲基铟(TMIn)、砷烷(AsH3)、三甲基镓(TMGa)和三甲基锑(TMSb)为源,用水平常压MOCVD技术,在较低的Ⅴ/Ⅲ比的条件下(1.5~4)于GaAs和GaSb衬底上成功地生长了InAs合金和InAs/GaSb异质结。实验表明,生长温度在500℃~620℃范围内,InAs外延生长是扩散控制的。在Ⅴ/Ⅲ比为2.5时,生长效率(相对Ⅲ族源)为3×103μm/mol.不掺杂InAs外延层为n型的,室温迁移率为2000cm2/V.s.InAs/GaSb异质结的12KPL谱为一个在375meV处较宽的与杂质相关的跃迁峰,和一个在417meV附近的几乎被杂质峰湮没的带边峰. 相似文献