静压下半导体微腔内激子与光子行为的研究

由于腔模与激子对压力的依赖关系不同,所以可以选择不同的压力使激子和光场处于不同的耦合状态,从而实现对耦合的调谐。利用这种办法,我们观测到了代表激子与光场强耦合作用的Rabi分裂。由于在我们现有样品结构中压力对激子本征行为的影响很小,与以前报道的温度、电场等调谐方式相比,这种调谐方法不仅可以有效地调谐半导体微腔内激子与腔模的耦合程度,而且能够保持激子的本征性质在整个调谐过程中基本不变。这有助于研究在强耦合过程中激子极化激元的本征性质。将实验结果与压力下激子与腔模耦合理论进行拟合,得出了正确的Rabi分裂值。     

暗中空光束角动量与中性原子的相互作用及其应用

综述了暗中空光束自旋与轨道角动量的一些性质及其与中性原子之间的相互作用,并简单介绍了暗中空光束及其角动量在原子光学和玻色_爱因斯坦凝聚(BEC)以及各种原子光学器件研制方面的应用.     

提高YBCO块材在外磁场中悬浮力

本给出了三种提高YBCO块材在外磁场中悬浮力的方法．第一种方法是增强外磁场，对于此方法，本研究了一块直径为30mm的圆柱状YBCO块材分别在圆柱状NdFeB永磁体和NdFeB永磁导轨上的悬浮力．测量结果表明在77K温度下YBCO块在圆柱状NdFeB永磁体上的最大悬浮力为50N，在NdFeB永磁导轨上的最大悬浮力为103．ON．第二种方法是提高YBCO块材自身的性能，包括临界电流密度、俘获磁通和块材尺寸，对于此方法，本仅研究了块材尺寸对悬浮力的影响．三块直径分别为30mm、35mm、40mm的圆柱状YBC0块材在NdFeB永磁导轨上的悬浮力被测量，77K温度下5mm悬浮间距时的悬浮力分别为103．ON、134．5N、175．ON．第三方法是将YBCO块材变成准永久磁体，此种情况下，直径为40mm的圆柱状YBCO块材在77K温度下5mm悬浮间距时的悬浮力高达218．3N．     

Adams谱序列中α~s(n)h0hk的收敛性

证明了(i)在p≥ 5,2≤s≤p- 1 ,k≥ 2时, β_sh₀h_k+1收敛到E_∞ ;(ii)在p≥7,3≤s≤p-1,k≥3时, γ_sh₀h_k+1收敛到E_∞.     

反超图的笛卡儿积的上色数

讨论反超图的笛卡儿积的着色理论 ,求出了满足一定条件的反超图的笛卡儿积的上色数 .     

金属表面在反射方向产生光学二次谐波的研究(Ⅰ)

用Rudnick和Stern引入的唯象参数“a”和“b”来描述表面电流,本文推导了金属表面在反射方向产生的光学二次谐波的表达式.由此证明了:从谐波信号随入射光偏振态的变化可以直接得到关于参数“a”的信息.和过去的实验相比,这种方法能更加精确、可靠地测定“a”的数值.     

超高真空中银表面垂直谐波电流的实验测量

在超高真空的条件下,测量了清洁、自由银表面产生的光学二次谐波随基波电矢量与入射面之间夹角(?)的变化,从而通过理论公式,求得由Rudnick和Stern引入的,用于衡量垂直面电流密度的唯象参数a的值,在入射基频光波长为1.064μm时,被测定为-4.0±0.8.     

Chiral Salen Manganese Complex Immobilized on SBA-15： A New Heterogenized Enantioselective Catalyst for the Epoxidation of Alkenes

Jacobsen‘s catalyst was immobilized onto SBA-15 by multi-step grafting, and this heterogenized catalyst exhibited comparable catalytic performance with the corresponding homogeneous counterpart for the epoxidation of alkenes, and the catalyst could be recycled effectively several times.     

Studies on Solid State Reactions of Coordination Compounds（LXXI）──Solid State Reactions of o－Aminobenzoic Acid with Copper（Ⅱ） Acetate and Formate at Room Temperature

ＳｔｕｄｉｅｓｏｎＳｏｌｉｄＳｔａｔｅＲｅａｃｔｉｏｎｓｏｆＣｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎＣｏｍｐｏｕｎｄｓ（ＬＸＸＩ）──ＳｏｌｉｄＳｔａｔｅＲｅａｃｔｉｏｎｓｏｆｏ－ＡｍｉｎｏｂｅｎｚｏｉｃＡｃｉｄｗｉｔｈＣｏｐｐｅｒ（Ⅱ）ＡｃｅｔａｔｅａｎｄＦｏｒｍ...     

软X射线显微术Si_3N_4薄膜窗口的研制

介绍了在软Ｘ－射线显微术研究领域中有重要应用的Ｓｉ_３Ｎ_４薄膜窗口的实验室制作方法，并形成一套独特制备工艺，Ｓｉ_３Ｎ_４薄膜窗口的研制成功推动了我国软Ｘ射线显微术研究的发展。