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161.
Hollow particles with interconnected cavities have been prepared by a simple modified suspension polymerization of acrylate monomers in the incorporation of a phase inversion process and polymerizable emulsifier. The morphology of particles has been characterized by scanning electron micrographs (SEMs). Based on observations made using an optical microscope equipped with a digital camera and SEM images of particles obtained under different conditions, the formation mechanisms for multiporous hollow particles are discussed. 相似文献
162.
Some Results behind Dividend Problems 总被引:1,自引:0,他引:1
Ming Zhou Li Wei Jun-yi Guo 《应用数学学报(英文版)》2006,22(4):681-686
We consider the basic dividend problem of the compound Poisson model with constant barrierstrategy.Some results concealed behind the dividend problem are made explicit in the present work.Differentmethods and some of which are firstly given in this paper.All these results presented certain direct relationshipbetween some important actuary variables in classical risk theory is also revealed. 相似文献
163.
164.
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166.
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168.
本文以自然的方式定义了从Z-空间X到Z-空间Y的有界线性算子的和以及它们的数乘.从而得到了与赋范空间的对偶空间理论类似的一系列结论. 相似文献
169.
采用紫外线、同平板梯度浓度亚硝基肌,纯铜蒸气激光诱变去甲基金霉素生产菌金霉素链霉菌的原生质体,结果表明原生质体对各种诱变剂的敏感性较高.正变幅度较大.原生质体经紫外线、同平板梯度浓度亚硝墓肌复合诱变后,筛选到一菌株,重新制备原生体,经激光诱变,选育出高产菌株S. A. HU02,去甲基金霉素效价从2831u/ml提高到4337u/ml,提高了53. 2,经多次传代产量性状非常稳定. 相似文献
170.
Xiangdong Xu Hockleong Kweh Zhengcao Zhang Zhihong Liu Wei Zhou Wei Zhang Peixin Qian 《Applied Surface Science》2006,252(20):7594-7598
Large-scale preparation of thin strain-relaxed SiGe is achieved by combining ion implantation and ultrahigh vacuum chemical vapor deposition. The resulting materials were analyzed by double crystal X-ray diffraction, micro-Raman spectroscopy, and tapping mode atomic force microscope. Results revealed that 100-nm-thick Si0.7Ge0.3 layers with the diameter of 125 mm and full strain relaxation are successfully prepared by pre-modifying the Si substrates using 50 keV Ar+ ions. The strain relaxation is also disclosed to change with both ion species and energy. However, post-modification of SiGe by ion implantation will cause serious damage to the crystal structures, and result in the formation of poly-crystal SiGe. 相似文献