首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   253篇
  免费   69篇
  国内免费   30篇
化学   98篇
晶体学   1篇
力学   24篇
综合类   1篇
数学   54篇
物理学   174篇
  2023年   3篇
  2022年   5篇
  2021年   4篇
  2020年   6篇
  2019年   4篇
  2018年   10篇
  2017年   3篇
  2016年   9篇
  2015年   13篇
  2014年   25篇
  2013年   33篇
  2012年   44篇
  2011年   32篇
  2010年   32篇
  2009年   17篇
  2008年   11篇
  2007年   12篇
  2006年   8篇
  2005年   6篇
  2004年   3篇
  2003年   6篇
  2002年   5篇
  2001年   5篇
  2000年   6篇
  1999年   7篇
  1998年   7篇
  1997年   5篇
  1996年   1篇
  1995年   5篇
  1994年   6篇
  1993年   3篇
  1992年   2篇
  1991年   6篇
  1990年   4篇
  1989年   2篇
  1987年   1篇
  1986年   1篇
排序方式: 共有352条查询结果,搜索用时 15 毫秒
81.
Polyhedral milliparticles (PMPs) have promising applications in self-assembly, tissue engineering, mechanical engineering, and photonics. The shapes and sizes of the PMPs have great impact on their functions. To date, the reported methods for adjusting the shapes and sizes of PMPs are still limited. Especially, it remains a challenge to fabricate the PMPs with high asymmetry. Here, we present a facile and efficient approach that focuses on the alteration of the relative positions between the microchannel and the UV light to tailor the shaping process of the PMPs. By tuning the rotation angle and translation displacement, a variety of monodisperse PMPs with both centrosymmetric and noncentrosymmetrical structures are synthesized, including tetrahedra, pentahedra, hexahedra, and so forth. Moreover, the polymeric PMPs are loaded with silica nanoparticles and further sintered into silica. The obtained silica PMPs hold great potential for the applications such as machining tools, abrasives, and electronics.  相似文献   
82.
83.
We introduce the definition of pseudoorthoalgebras and discuss some relationships between orthomodular lattices and pseudoorthoalgebras. Then we study the conditions that a pseudoeffect algebra is isomorphic to an “internal direct product” of ideals generated by orthogonal principal elements. At last, we give some characterizations of central elements in pseudoeffect algebras.  相似文献   
84.
精密光束偏离装置棱镜组件的光机热分析   总被引:2,自引:2,他引:0  
以精密光束偏离装置的棱镜组件为有限元模型,进行了光机热集成分析.对棱镜组件的结构强度进行了校核,分析了机械载荷作用下的镜面变形;通过模态分析,给出了装置的动态特性和镜面面形振动幅值的变化情况;最后对棱镜的热弹性变形进行了分析,对棱镜的光学性能进行了评价.结果表明:棱镜组件的最大变形在10 nm量级,最大应力为0.403 MPa,应力和应变相对于结构的准确度要求和材料的许用应力具有较大的裕度;前后棱镜组件的固有频率都大于550 Hz,装置具有良好的动态性能;通过对比棱镜在热-结构耦合分析和机械载荷下的分析结果,说明热效应对棱镜表面变形的影响远远大于机械载荷的影响.装置使用时必须采取严格的温控措施.  相似文献   
85.
用带有Breit和QED修正的全相对论多组态Dirac-Fcck平均能级(MCDF-AL)模型,计算了碱土金属Sr、钡Ba和镭Ra的单光子电四极矩^1D-^1S跃迁的光谱能量间隔,最大跃迁几率和振子强度。计算中考虑了重要的相对论效应、电子关联效应和核的有限体积效应,所得的结果与国外早期发表的结果进行了比较,此外还首次从理论上预言了镭Ra的单光子电四极矩^1D-1S光谱跃迁。  相似文献   
86.
咪唑啉硼酸酯的制备及摩擦学性能   总被引:8,自引:0,他引:8  
以脂肪酸、β 羟乙基乙二胺、硼酸按不同比例分别合成了四种脂肪酸咪唑啉硼酸单酯和三酯。经IR、1HNMR和元素分析证明结构正确。用四球试验机评价了两种化合物在水中的摩擦学性能。结果表明这些化合物在水中具有良好的承载能力和抗磨性能,并初步探讨了这些化合物的抗磨作用机理  相似文献   
87.
通过对广东医学院第二附属医院辖区海滨管区2003-01-01至2005-12-31出生的儿童559人免疫后检测其乙肝病毒表面抗体(抗-HBs),了解乙型肝炎疫苗(HepB)免疫成功率。结果表明,免疫成功率为84.26%,比2002年广东省调查儿童免疫后抗-HBs阳转率(62.18%)明显提高。提示HepB有较好的免疫效果,因此提高新生儿的HepB全程接种率和HepB第1针及时接种率,是控制乙肝的关键。  相似文献   
88.
本文给出了一类等式约束优化的简单光滑精确罚函数,该精确罚函数有别于传统罚函数,它是光滑的和简单的,即在该精确罚函数表达式中,不含有目标函数的梯度.  相似文献   
89.
The ionic charge state distribution is an important diagnostics parameter for laser in-ertia confinement fusion (LICF). It is usually obtained by solving Saha equation or using some other models, such as local thermodynamic equilibrium (LTE), corona equilibrium (CE), collision-radiation (CR) and average atom (AA); however, these methods are rather limited for high-Z element plasma. The theory of entropy fluctuation is also a pos-sible method[1]. Lawrence Livermore National Laboratory (…  相似文献   
90.
刘勇建  牟世芬 《分析化学》2002,30(5):527-530
采用紫外光降解-离子色谱法测定了液晶材料中的阳离子。研究了样品光降解的条件,H2O2及酸的影响,样品基体有机物的去除,并对直接水溶样品,超声提取样品和光解样品和光解样品测定结果进行了对比。结果表明:3种样品中均含有Na^ ,NH4^ ,K^ ,Mg^2 ,Ca^2 5种阳离子,但光解样品中5种阳离子的含量分别是超声提取及直接水溶样品中含量的3.5-19.7倍和10.6-46.6倍。对液晶样品进行光解测定阳离子时无需加入H2O2氧化,光解后无需对样品进行酸化。Na^ ,NH4^ ,K^ 在光解1.5h时响应值达到最大,Mg^2 ,Ca^2 在2h时光解最完全。5种阳离子加标回收率为71.5%-107.6%。本方法对测定有机化合物上结合的阳离子有一定的参考价值。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号