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62.
对Weyl关于二阶奇异微分方程边值问题谱性质的一个定理进行了推广和改进,使得所讨论的方程形式更一般且结果更详细. 相似文献
63.
本文采用水热合成法制备了一个三维手性大孔开放骨架磷酸镓Ga16P16O75·4[1,6-C6H18N2]·[C2H10N2]·2H2O(简称Hit-5).反应起始原料摩尔配比为:1 GaOOH:15 H3PO4:7.5 H2N(CH2)6NH2:0.5 C2H8N2:555 H2O.Hit-5属正交晶系,P21212空间群,晶胞参数:a=0.8671(1)nm,b=1.7945(1)nm,c=0.9101(1)nm,β=108.33(1)°,V=1.3443(2)nm3,Z=4.Hit-5的骨架是由Ga3P3六聚体和Ga4P4八聚体两个不同的二级结构单元通过共顶点联接构成三维纳米孔结构,在[001]方向呈现16-元环孔道. 相似文献
64.
综述了近几年国内外可见光响应纳米TiO2薄膜制备的研究现状,阐述了TiO2薄膜光催化降解有机物的催化机理,系统地介绍了提高纳米TiO2吸收波长的方法、常用载体、可见光响应纳米TiO2薄膜制备方法和在降解有机物方面的应用,并概述了其以后的发展趋势. 相似文献
65.
利用Petryshyn W V(1972)中所定义的1-集压缩映象拓扑度的一些基本性质以及半闭1-集压缩映象的诸多性质讨论Banach空间中一类算子的固有值与固有元的存在性问题。当算子满足一些较弱的条件时,可以保证至少存在一个大于1的固有值以及在其定义域的边界上存在对应的固有元。这些结 相似文献
66.
本文利用遗传算法结合紧束缚势计算了Pdn(n=2-57)团簇的基态能量及结构.通过讨论团簇的平均束缚能Eb、二阶差分能△2E(n)和剩余能△E(n),发现团簇平均束缚能随原子数目的增加而增大,n为13、22、30、38、41、46和55为其幻数序列.并发现,Pd54为无中心原子的Ih结构,其稳定性略低于Pd55的稳定性. 相似文献
67.
针对大功率半导体激光器面临的主要困难,提出并实现了一种隧道再生多有源区耦合大光腔 高效大功率半导体激光器机理.该机理能有效地解决光功率密度过高引起的端面灾变性毁坏 、热烧毁和光束质量差等大功率激光器存在的主要问题.采用低压金属有机化合物气相淀积 方法生长了以碳和硅作为掺杂剂的GaAs隧道结、GaAs/InGaAs 应变量子阱有源区和新型多有 源区半导体激光器外延结构,并制备了高性能大功率980nm激光器件.三有源区激光器外微分 量子效率达2.2,2A驱动电流下单面未镀膜激光输出功率高达2.5W.
关键词:
半导体激光器
大功率
金属有机化合物气相沉积 相似文献
68.
Bang Chao YIN 《数学学报(英文版)》2021,(4):657-665
Let x : M → S~(n+p)(1) be an n-dimensional submanifold immersed in an(n + p)-dimensional unit sphere S~(n+p)(1).In this paper, we study n-dimensional submanifolds immersed in S~(n+p)(1) which are critical points of the functional S(x) =∫_M~S~((n/2) dv), where S is the squared length of the second fundamental form of the immersion x.When x : M → S~(2+p)(1) is a surface in S~(2+p)(1), the functional S(x) =∫_M~(S~(n/2) dv) represents double volume of image of Gaussian map.For the critical surface of S(x), we get a relationship between the integral of an extrinsic quantity of the surface and its Euler characteristic.Furthermore, we establish a rigidity theorem for the critical surface of S(x). 相似文献
69.
Effect of Reactor Pressure on Qualities of GaN Layers Grown by Hydride Vapour Phase Epitaxy 下载免费PDF全文
The influence of reactor pressure on GaN layers grown by hydride vapour phase epitaxy (HVPE) is investigated. By decreasing the reactor pressure from0. 7 to 0.5 mm, the GaN layer growth mode changes from the island-like one to the step flow. The improvements in structural and optical properties and surface morphology of GaN layers are observed in the step flow growth mode. The results clearly indicate that the reactor pressure, similarly to the growth temperature, is One of the important parameters to influence the qualities of GaN epilayers grown by HVPE, due to the change of growth mode. 相似文献
70.
研究电场中MgO分子与H_2的相互作用是探索MgO材料储氢性能的基础.在B3LYP/6-31G**水平上研究了电场中H2在MgO分子上的吸附行为.结果给出电场中单个H_2在Mg/O上的吸附能由无电场时-0.021/-0.099eV提高到场强为0.005a.u.时的-0.037/-0.139eV.H2吸附在O离子上时,电场效应更显著.电场中MgO分子最多能吸附10个H_2,相应的质量密度达33wt%.表明电场诱导MgO材料吸附H_2是一种具有潜力的储氢方法.通过电子结构分析讨论了电场中MgO分子储氢的机理. 相似文献