首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   13688篇
  免费   2695篇
  国内免费   2887篇
化学   10070篇
晶体学   316篇
力学   877篇
综合类   402篇
数学   1519篇
物理学   6086篇
  2024年   21篇
  2023年   209篇
  2022年   429篇
  2021年   489篇
  2020年   531篇
  2019年   521篇
  2018年   464篇
  2017年   552篇
  2016年   629篇
  2015年   705篇
  2014年   862篇
  2013年   1093篇
  2012年   1328篇
  2011年   1404篇
  2010年   1072篇
  2009年   1099篇
  2008年   1127篇
  2007年   1008篇
  2006年   981篇
  2005年   852篇
  2004年   625篇
  2003年   443篇
  2002年   487篇
  2001年   443篇
  2000年   384篇
  1999年   290篇
  1998年   203篇
  1997年   162篇
  1996年   126篇
  1995年   104篇
  1994年   97篇
  1993年   98篇
  1992年   81篇
  1991年   76篇
  1990年   48篇
  1989年   38篇
  1988年   32篇
  1987年   27篇
  1986年   17篇
  1985年   29篇
  1984年   19篇
  1983年   10篇
  1982年   12篇
  1981年   7篇
  1980年   13篇
  1979年   14篇
  1971年   2篇
  1964年   1篇
  1959年   3篇
  1957年   2篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 31 毫秒
31.
介绍了博彩弹子机 ,运用数学建模法剖析了它的赢钱原理 ,强调了一般博彩业主永远是赢家的道理  相似文献   
32.
微模塑法制备PMMA/SiO2二氧化硅杂化材料微结构   总被引:1,自引:0,他引:1  
以摩尔比为 1∶1的甲基丙烯酸甲酯 (MMA)、甲基丙烯酸 (3 三乙氧基硅烷基 )丙酯 (ESMA)单体、0 .2 %(单体总量的质量分数 )的偶氮二异丁腈AIBN引发剂和四氢呋喃 (THF)溶剂 ,及 2 0 % (总质量分数 )的正硅酸乙酯TEOS合成出PMMA/SiO2 有机 无机杂化的杂化溶胶 .将溶胶在洗净的普通光学玻璃基片表面甩膜 .利用软刻蚀中的微模塑法 ,把有机硅弹性印章复制有精细图纹一面轻放在杂化溶胶膜上进行微模塑 ,外加 1N压力于12 0℃下处理 2h使溶胶凝胶化 .印章剥离后在基片表面就形成了PMMA/SiO2 有机 无机杂化材料的微图纹结构 .从微图纹的光学显微镜照片可以看出微模塑方法制备杂化材料复制的图纹精细度高 ,操作简单易行 ,是一类比较理想的微细图纹结构加工的方法 .  相似文献   
33.
许多乙酰芳胺类化合物具有优异的生物活性,例如除草剂苯噻草胺,可抑制细胞生长和分裂,防除稻田中禾本科杂草[1];杀菌剂甲霜灵可防治作物霜霉病[2]。本文将具有多种生物活性的嘧啶基团引入到乙酰芳胺结构中[3],合成下列10个未见文献报道的标题化合物Ⅰ,通...  相似文献   
34.
The far-infrared and infrared reflection spectra of Tl2Ba2Ca2Cu3O10 superconducting film are reported in this paper. It is found there are three sharp reflection edges in both the superconducting and normal states, their positions being near ≈ 150, ≈ 350 and ≈600 cm-1. We attribute these reflection spectra to the Drude free carriers and a wide mid-infrared absorption band. When the incident angle increases from 7° to 30°, some additional stractures appear in the refiection spectra, which are the A2u phonon modes vibrating along c-axis.  相似文献   
35.
三种群食物链交错扩散模型的整体   总被引:1,自引:0,他引:1  
伏升茂 《数学学报》2007,50(1):75-88
本文应用能量估计方法和Gagliardo-Nirenberg型不等式证明了一类强耦合反应扩散系统整体解的存在性和一致有界性,该系统是带自扩散和交错扩散项的三种群Lotka-Volterra食物链模型.通过构造Lyapunov函数给出了该模型正平衡点全局渐近稳定的充分条件.  相似文献   
36.
对拟线性椭圆变分不等式的障碍最优控制问题(即以障碍为控制变量)进行了研究.指标泛函为Lagrange型,其中含有控制变量二阶导数的p次幂,这使得最优性条件的推导颇为不易.对所考虑的问题给出了最优控制的存在性定理以及必要条件.  相似文献   
37.
For vertical-cavity surface-emitting lasers (VCSELs) with polarization-rotated feedback, there exist several synchronization types such as synchronizations between total powers and synchronizations between separate polarization modes. Based on the two-mode rate equations, we study and compare numerically the performances of different synchronization types. Our results show that three synchronization types exhibit good performances when their synchronization conditions are satisfied. They are the complete synchronization between total powers, complete synchronization between x-polarized modes, and generalized synchronization between x-polarized and y-polarized modes. The former two types are sensitive to the injection rate and spontaneous emission, while the third type is contrary. Synchronization type with the best performance may switch from one to another, with changing of injection rate and spontaneous emission factor.  相似文献   
38.
This paper gives a p-adic analogue of the Mackey theory, which relates representations of a group of type G - H × t A to systems of imprimitivity.  相似文献   
39.
分层流是气液两相流中常见的流动型式,分层流中液层高度是计算的基本数据,由于界面波的存在,对液层的测量和预测都很困难.Vlachos提出了预测气液两相分层流液层厚度的关系式,但这一关系式并不适用于倾斜下降管气液两相流.本文提出了计算倾斜下降管气液两相分层流截面含气率的理论模型,在这种模型下得到的截面含气率和实验结果符合良好.在大量实验的基础上,考虑了倾角、管径、气液各相折算速度的影响,根据实验数据提出了预测液层厚度的关系式。  相似文献   
40.
王书鸿  王九庆  叶强  乐琪 《中国物理 C》2002,26(12):1302-1308
为获得尽可能高的正电子(e+)产额,严格控制初级电子(e)束在e+产生靶上的束半径是至关重要的.首先分析了使e束半径增大的各因素和对这些因素的制约;然后以北京正负电子对撞机(BEPC)的正电子源为例,给出了束半径的实测值和计算值的比较,以具体说明这些因素的影响;最后讨论了北京正负电子对撞机二期工程(BEPC-Ⅱ)的相应优化设计研究,提出了获得靶上最小束半径的若干途径.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号