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21.
金属β-二酮化合物用于MOCVD法生长铁电氧化物薄膜   总被引:1,自引:0,他引:1  
对用于MOCVD法生长铁电氧化物薄膜的金属β-二酮化合物的制备、结构及性质进行了评述,对它们在生长铁电薄膜中的应用现状进行了介绍,并对它们的应用前景作了展望。  相似文献   
22.
本文研究半线性椭圆方程Dirichlet问题-△u=α(x)f(u),x∈Ω, u(x)=0,x∈ЭΩ,正解的存在性,其中Ω为R^n中有界的带光滑边界的区域,α(x)可以变号。  相似文献   
23.
天文斑点成像技术中的噪声影响分析   总被引:3,自引:3,他引:0  
刘忠  邱耀辉  卢汝为  楼柯 《光学学报》2002,22(4):17-421
为进一步说明天文像复原新方法-迭代位移叠加法的性质,对探测器的附加噪声在斑点干涉术、斑点掩模法和迭代位移叠加法中的影响分别进行了分析。结果表明:在斑点掩模法中,复杂的噪声高阶矩统计被引入了重谱的噪声偏差,因此对噪声极为敏感,使数据处理更加复杂化;与斑点掩模法相比,迭代位移叠加法仅涉及对噪声的一阶矩统计平均,所以此新方法的特点是对噪声不敏感,具有图像复原处理过程简单快捷的优越性。  相似文献   
24.
超细CaO粉炉内喷射脱硫的实验研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文对超细CaO粉炉内喷射脱硫进行了实验研究,分析了可能影响超细CaO粉炉内脱硫效率的多种因素,实验结果表明:使用预先锻烧生成的超细CaO粉在并不苛刻的反应条件下脱硫效果很好,颗粒大小、反应区温度、反应时间和Ca/S比对炉内喷钙脱硫的效率有重要的影响.  相似文献   
25.
张鹏  周印华  刘秀芬  田文晶  李敏  张国 《物理学报》2006,55(10):5494-5498
研究了不同比例的PVK与齐聚PPV衍生物DBVP掺杂体系的能量转移和发光特性.通过对PVK,DBVP及PVK:DBVP掺杂体系的UV-vis,PL和PLE光谱的研究,分析了PVK与DBVP之间的能量转移过程.利用PVK在体系中类似于溶剂的分散作用,制备了结构为ITO/PEDOT/PVK:DBVP/LiF/Al的电致发光器件,研究了掺杂体系的电致发光性能.结果表明,在掺杂体系的光致发光和电致发光中,PVK的发射被有效地抑制,PVK与DBVP之间发生了非常有效的能量转移,通过调节PVK与DBVP的比例,可以获得蓝色和绿色发光,同时可以改善器件的发光性能,当PVK与DBVP的重量比为1∶2时,器件的绿色发光效率达到1·06cd/A,此时发光亮度为52cd/m2.  相似文献   
26.
代月花  陈军宁  柯导明  孙家讹  胡媛 《物理学报》2006,55(11):6090-6094
从玻尔兹曼方程出发,重新计算了纳米MOSFET沟道内的载流子所服从的分布函数,特别是考虑了纳米MOSFET横向电场和纵向电场之间的相互作用,并且以得到的非平衡状态下的分布函数为基础,考虑载流子寿命和速度的统计分布,给出了纳米MOSFET载流子迁移率的解析表达式.通过与数值模拟结果进行比较和分析,该迁移率解析模型形式简洁、物理概念清晰,且具有相当精度. 关键词: 玻尔兹曼方程 纳米MOSFET 迁移率 沟道有效电场  相似文献   
27.
用提拉法生长了Lu2Si2O7:Ce晶体,对该晶体的闪烁性能进行了研究。透射光谱表明,Lu2Si2O7:Ce晶体的吸收边比Lu2SiO5:Ce晶体向短波方向移动了25nm,使透光范围进一步拓宽。X射线发射光谱和UV激发发射光谱均具有典型的双峰特征,主峰在378nm。UV激发发射谱具有温度效应,即375K以上时,发光效率迅速降低;425K以上时,发光主峰位明显红移。衰减曲线符合单指数式衰减规律,常温下经UV激发后的衰减时间约为34ns。从曲线形态看,375K以下的衰减谱与室温下的几乎完全相同,拟合的结果在32.8~34ns之间;衰减时间的温度效应从375K开始显现,即随温度的升高,衰减时间有加速变短的趋势,到500K时缩短为6.72ns。热释光谱在488,553K处有两个热释光峰,但室温附近几乎观察不到热释光峰。  相似文献   
28.
AAS测定纸巾中的铅和镉   总被引:1,自引:0,他引:1  
石敏  郝爱国 《光谱实验室》2003,20(3):463-464
本文采用原子吸收光谱法测定纸巾中铅、镉的含量。结果表明,不同纸巾中的污染元素铅、镉的含量不同。同时还对一种纸巾的铅、镉元素进行了回收实验,回收率在92%-104%之间。  相似文献   
29.
This paper proposes a new two-stage two-phase VPP charge pump configured in such a manner that the body effect and the threshold voltage loss are eliminated. The newly proposed circuit is fabricated using 0.18 μm triple-well CMOS process and the measurement result shows that the VPP level tracks 3VDD when VDD is above the threshold voltage.  相似文献   
30.
程民治 《物理》2003,32(2):127-131
文章简要地叙述了法国著名物理学家路易·奈尔的成长历程与生平业绩,其中包括他在磁学领域的诸多重大贡献、成功地创立和领导了一个富有成就的科学研究团体以及他堪称为一位出色的科技开发企业家的风范.  相似文献   
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