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111.
本文研究了高掺杂Ga对ZnSe:Ga,Cu晶体中深中心光致发光谱带的影响。首次在高掺杂ZnSe:Ga,Cu中观察到了Cu-G带峰值位置随Ga浓度增大向长波方向移动的现象,并把它归因于高浓度的Ga和Cu相互作用,产生了谱峰为5580Å的新发射带,其半高宽(FWHM)大于Cu-G谱带的半高宽。此外还得到,随着Cu浓度增加,Cu-G带与Cu-R带强度之比减小。文中指出,Ga浓度较低时,ZnSe:Ga,Cu晶体与ZnSe:Cu晶体有相同的Cu深中心发射规律,即随着Cu浓度增大,Cu-G带与Cu-R带的强度比增大,由Cu-R发射带占优势逐渐过渡到Cu-G发射带占优势。  相似文献   
112.
快中子照相中的点扩展函数计算   总被引:5,自引:2,他引:3       下载免费PDF全文
 快中子照相中,基于反冲核原理探测快中子的有机闪烁体平板是普遍采用的快中子辐射转换体。模拟了D-T中子垂直入射BC400闪烁体平板,计算了不同厚度平板闪烁体的点扩展函数,对14.1 MeV快中子照相中闪烁体固有分辨率随厚度的变化进行了研究。计算结果表明,在不考虑二次中子与闪烁体作用及背景噪声等情况时,点扩展函数几乎不依赖于闪烁体厚度。同时,计算还表明在一定的分辨率范围内,由于荧光收集效率的限制,闪烁体厚度增加并不会改善图像对比度。  相似文献   
113.
A new formulation derived from thermal characters of inclusions and host films for estimating laser induced damage threshold has been deduced. This formulation is applicable for dielectric films when they are irradiated by laser beam with pulse width longer than tens picoseconds. This formulation can interpret the relationship between pulse-width and damage threshold energy density of laser pulse obtained experimentally. Using this formulation, we can analyze which kind of inclusion is the most harmful inclusion. Combining it with fractal distribution of inclusions, we have obtained an equation which describes relationship between number density of inclusions and damage probability. Using this equation, according to damage probability and corresponding laser energy density, we can evaluate the number density and distribution in size dimension of the most harmful inclusions.  相似文献   
114.
范建兴  冯伯儒 《光子学报》1997,26(6):546-549
文章提出了时间一边界跟踪模型的定义,阐述了用该模型确定抗蚀剂显影后的轮廓分布的方法,并给出了模拟计算结果.  相似文献   
115.
The asymptotic null distribution of the likelihood ratio test for two cases of ordered hypotheses in a particular genetic model is considered. A simple iterative process is proposed in order to get the restricted estimates. It is shown that both tests have asymptotically a chi-bar squared distribution and the same size. A simulation study is also conducted in order to compare the usual unrestricted test with the corresponding one of ordered hypotheses. Finally, the results are extended to some special cases.  相似文献   
116.
新颖的PPLN电光开关   总被引:6,自引:2,他引:4       下载免费PDF全文
李世忱  薛挺  于建 《物理学报》2002,51(9):2018-2021
在分析基于级联二阶非线性效应的准相位匹配周期极化铌酸锂(PPLN)波导全光波长变换器的有关参量容限的基础上,提出PPLN波长变换器的电光调控设想,并给予简要论证,论证结果是可行的,从而可实施电控调谐来自动补偿其失配,进而也可实现光开关的功能 关键词: 准相位匹配 周期极化铌酸锂 波长变换 光开关 电光效应调控  相似文献   
117.
Iron oxide catalyst with spinel structure used for dehydrogenation of ethylbenzene is one kind of important catalyst in petrochemical industry. In this work several series of industrial catalyst were prepared with different components and different manufacturing processes. Mössbauer Spectroscopy has been used to determine the optimal components and the better manufacturing process for spinel structure formation. The results may prove useful for producing the industrial dehydrogenation catalyst with better catalytic property.  相似文献   
118.
Surajit Sen 《Physica A》2006,360(2):304-324
There are very few formalisms available to solve the Liouville equation for energy-conserved systems. The continued fraction formalism, introduced through the works of Zwanzig, Mori, Kubo, Lee, Grigolini and others is described here. A detailed discussion is presented on ways to apply the continued fraction formalism to solve for relaxation functions and for the dynamical variable itself for a simple and exactly solvable quantum spin system.  相似文献   
119.
c轴定向氮化铝薄膜的制备   总被引:3,自引:0,他引:3  
龚辉  范正修 《光学学报》2002,22(8):33-936
利用电子回旋共振 (ECR)微波增强化学气相沉积法 (PECVD)并使用氮气 (N2 ) ,氩气 (Ar)和AlCl3蒸气作为气源在直径为 6 .35cm的 (10 0 )单晶硅片表面制备了c轴定向氮化铝 (AlN)薄膜 ,并使用X射线衍射仪及其X射线特征能谱和扫描电镜 (SEM)分析了薄膜特征 ,研究了微波功率、基板温度和N2 流量对薄膜c轴定向的影响 ,得到了c轴偏差角小于 5°的高质量大面积AlN薄膜。  相似文献   
120.
Chemisorption of polybenzimidazole on silver and copper etched with nitric acid has been observed by surface-enhanced Raman scattering (SERS). The polymer is found to react chemically with silver, forming a complexed film on the surface. The SERS spectra show that polybenzimidazole film inhibits oxidation of the metal at high temperature, unlike chemisorbed benzimidazole, benzotriazole, and poly(4-vinyl pyridine). © 1992 John Wiley & Sons, Inc.  相似文献   
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