Monte Carlo方法研究低能电子束曝光沉积能分布规律

建立一个描述低能电子在多元多层介质中散射的物理模型,运用MonteCarlo方法模拟低能电子在靶体胶衬底中的复杂散射过程,在此基础上通过大量计算研究入射束能、胶层厚度、衬底材料等不同曝光条件对抗蚀剂沉积能密度分布的影响,获得沉积能分布规律:适量的低束能、薄胶层、低原子序数衬底可以使前散射电子对胶中沉积能密度分布的贡献增大、背散射电子的贡献减小,从而提高曝光分辨率. 关键词： 电子束曝光 MonteCarlo方法 低能电子散射 能量沉积     

Effect of TiO2 addition on the crystallization of quenched glasses in the SiO2–Al2O3–ZrO2 system

The glass formation in the SiO₂-rich region of the ternary oxide system Al₂O₃–ZrO₂–SiO₂ with MgO, CaO, and TiO₂ as melting aids was analyzed. The crystallization of glasses with different content of TiO₂ and phase evolution with the temperature was studied by X-ray diffraction, infrared, laser Raman spectroscopy and transmission electron microscopy. The use of TiO₂ favored formation and crystallization of the glasses due to the decrease of the viscosity of melts and acting as a nucleating agent. The crystalline phase of t-ZrO₂ was developed at temperatures as low as 880°C whereas in as prepared specimens without TiO₂ its presence was not detected. For the specimens with TiO₂, t-ZrO₂ and mullite were the principal phases at 1000°C. TiO₂ addition did not change the crystallization sequence but decreased the formation temperature of the crystalline phases. Most of Ti⁴⁺ ions entered into t-ZrO₂ and only a small portion in mullite, but the surplus was detected in ZrTiO₄.     

Applying pulsed-laser holography to studying the filament behaviour during the air-jet texturing process

By means of a ruby laser, pulsed-laser holography—because of its high speed, non-destructive, and real-time properties—is introduced to the field of textile engineering for studying the behaviour of filaments emerging from a jet nozzle during the air-jet texturing process. It is proved that this is an efficient method to investigate the mechanism of the air-texturing process.     

一种基于并行化方法的自适应光学闭环预测控制器

自适应光学系统的性能受限于伺服系统的延迟误差和波前传感器的光电子噪声。提出了一种多模型单变量预测模型,该模型采用基于Levenberg-Marquardt学习算法的前馈型神经网络。利用计算机多核处理器,设计了一个具有并行处理能力的预测控制器,来实现对自适应光学闭环控制电压的预测,以消除延迟误差的影响。通过数值仿真实验,研究了预测控制器对控制电压和远场斯特雷尔比的影响,与未采用预测控制器的系统进行了比较,并对预测算法的并行性能进行了分析。实验结果表明,使用并行化方法的预测控制器可以有效缩短系统的预测时间,提高预测算法的加速比,与经典比例积分(PI)控制算法相比可以更有效地降低系统由于伺服延迟引起的误差,远场的斯特雷尔比有明显地提高。     

纳秒级脉宽砷化镓激光器阵列

报导砷化镓激光器阵列的实验结果。该阵列光束的脉宽约０．７～５ｎｓ，近场光斑面积约１００ｍｍ×６ｍｍ；已被用于触发高功率电磁脉冲发生器中的半导体光导开关阵列。报导一种提高光脉冲重复率的方法—双脉冲序列法，用该方法使激光脉冲等效重复率达约１００ＭＨｚ；介绍一种使激光器阵列输出光斑中光能均匀分布的多光束叠加方案。     

一种新型的固着磨料抛光片──WBN抛光片的制作工艺及其特性

本文描述了用冲击合成方法得到的超硬材料纤锌矿型氮化硼（ＷＢＮ）制作的一种新型抛光片。在光学玻璃抛光中的初步应用显示：这种新型的ＷＢＮ抛光片具有比传统的ＣｅＯ２。抛光片更大的切削力、更短的抛光时间和更好的表面粗糙度及更长寿命等优点。     

锁相电子散斑系统

电子散斑干涉计量在变形量检测¹、无损探伤、振动分析^(2,3)等领域具有广泛的应用前景,目前它之所以未能实用化,最重要的原因就是该系统对环境的要求过高,特别是物体的振动和空气的扰动对测量结果影响很大,甚至会导致测量失败,因而国内外学者在不断寻找解决此问题的锁相技术。本文提出了一种简易的切实可行的锁相方法-光学锁相法,消除了物体的振动和空气扰动对电子散斑测量的影响。     

1.3μm分布反馈二极管激光器组件

开发了一种用于光纤公用天线电视（ＣＡＴＶ）的分布反馈激光二极管组成，组件包括１．３μｍＩｎＧａＡｓ／ＩｎＰ双沟－平面掩埋双异质结（ＤＣ－ＰＢＨ）分布反馈激光二极管和光隔离器，封装在蝴蝶型管壳内，组件的出纤线性功率为２．５ｍＷ，并具有极低的失真。     

深蚀刻二元光学元件

提出一种新颖的，蚀刻位相深度超过２π的深蚀刻二元光学技术，并从理论上分析深蚀刻二元光这元件与衍射效率的关系，然后用计算机进行模拟与分析，得到深蚀刻二元光学元件特性后一些初步研究结果。