首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   35050篇
  免费   9594篇
  国内免费   1396篇
化学   41057篇
晶体学   312篇
力学   450篇
综合类   1篇
数学   1887篇
物理学   2333篇
  2023年   9篇
  2022年   16篇
  2021年   154篇
  2020年   1239篇
  2019年   2583篇
  2018年   1011篇
  2017年   651篇
  2016年   3361篇
  2015年   3527篇
  2014年   3435篇
  2013年   4057篇
  2012年   2937篇
  2011年   2128篇
  2010年   2819篇
  2009年   2804篇
  2008年   2341篇
  2007年   1721篇
  2006年   1419篇
  2005年   1600篇
  2004年   1400篇
  2003年   1291篇
  2002年   1980篇
  2001年   1361篇
  2000年   1301篇
  1999年   369篇
  1998年   44篇
  1997年   31篇
  1996年   29篇
  1995年   21篇
  1994年   24篇
  1993年   17篇
  1992年   14篇
  1991年   18篇
  1990年   17篇
  1989年   19篇
  1988年   19篇
  1987年   16篇
  1986年   22篇
  1985年   21篇
  1984年   20篇
  1982年   11篇
  1981年   24篇
  1980年   12篇
  1979年   10篇
  1978年   16篇
  1977年   21篇
  1976年   15篇
  1975年   14篇
  1974年   10篇
  1973年   11篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
991.
992.
993.
994.
A method has been developed to reduce the mass spectrometric ion signal suppression associated with the use of TFA as an additive in LC mobile phases. Through post‐column infusion of diluted NH4OH solution to LC eluents, the ammonium ion introduced causes the neutral analyte‐TFA ion pair to dissociate which consequently releases the protonated analyte as free ions into the gas phase (through regular electrospray ionization mechanisms). An ion signal improvement from 1.2 to 20 times for a variety of compounds had been achieved through the application of this method. The molar ratios of NH4OH:TFA which result in a reduction of signal suppression were determined to be between 0.5:1 and 50:1. In addition, it was shown that this NH4OH infusion method could reduce the level of doubly‐charged species and the product ions formed via in‐source collision. The use of diluted NH4OH solution is favorable since it is compatible with mass spectrometry analysis, and it is applicable in both positive and negative‐ion generation mode. Copyright © 2012 John Wiley & Sons, Ltd.  相似文献   
995.
996.
997.
998.
999.
1000.
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号