基于神经网络的电火花线切割工艺目标建模

利用BP神经网络技术建立了电火花线切割加工工况参数与工艺目标间的预测模型.以脉冲宽度、脉冲间隙、峰值电流、间隙电压及工件厚度等工况参数为网络输入,加工效率和表面粗糙度等工艺目标为网络输出,通过用样本数据对网络的训练,实现了对工艺目标的预测.试验结果表明:所建预测模型能较好地反映线切割机床的工艺规律,实现对指定切割条件下加工效率和表面粗糙度的预测,最大预测误差小于10%.     

荧光褪色效应与拉曼光谱基线干扰消除

荧光是直接测定的拉曼光谱中背景的最主要来源,需要采用真实、准确的方法消除,以得到纯净的拉曼响应。基线拟合消除和查找荧光贡献扣除是解决背景问题的两条思路,目前多采用基线拟合方法,其优点是满足用户“视觉”要求,无需额外硬件,但并非机理或实质上的解释,因而难以保证数据的真实性与合理性;查找荧光的方法,更为真实,但是目前提出的方法,需要增加光源等额外设计和成本。另外,在实验方法上,也有采用消荧光剂和长时间照射漂白的,存在操作繁琐、效率低等不足。利用稳定体系中拉曼和荧光的时间差异解决体系中荧光问题。在微小的时间段内,例如几个毫秒,激发光不会导致体系性质发生显著变化,荧光具有寿命周期,会随激发时间延长强度下降的“褪色”,“褪色”的强度差异可以被认为是整体荧光的一个微元;与此同时,由于体系组成未发生显著变化,拉曼光对于短时间照射可以保持稳定。利用此差异可以区分出混合信号中的荧光和拉曼光。根据该原理,提出了荧光褪色差分法(FBDA),实现拉曼光谱的背景校正。方法的主要步骤：测量微小时刻内的多张直接拉曼光谱,求取系列光谱的差分,对差分值作高频滤波降噪,可获得荧光强度微元;然后,多个荧光微元平均归一化后,得到荧光强度单元。以拉曼光谱2 000～2 500 cm-1的静默区,即通常不会出现拉曼信号的频段为基准,对荧光单元作逆差分,逆差分累计值与原始光谱在此频段一致时,得到整体荧光响应;最终,从原始光谱中扣除荧光成分,完成背景扣除和基线校正。以盐酸二甲双胍片的拉曼测量为例,说明和讲解了所提出的原理和方法,验证方法的有效性。与目前效果较好的基线校正方法(不对称最小二乘和自适应迭代再加权惩罚偏最小二乘)进行了对比,表明FBDA方法更为客观真实,FBDA的另一个优势是不需要额外的设计和成本,所有数据都是在现有设备直接采集和完成。需要说明的是,微小时刻光谱差异的要求,可以确保FBDA光谱实时性,长时间的光谱差异,将会影响结果的准确性;另外,对于光化学反应体系和其他非荧光引起的复杂背景,FBDA的适用性有待改善。     

具有较小秩的带号图的刻画

带号图是每条边带有符号（正或负）的简单图.探讨了带号图的秩,刻画了秩为2与3的带号图,以及秩为4的带号二部图.     

J/ψ核吸收新截面难以改变吸收机制的局面

将新发表的J/ψ核吸收截面输入强子和弦级联模型JPCIAE,计算了200AGeV/c的P-A,O-U,S-U和Pb-Pb最小偏畸碰撞中J/ψ压低因子并与实验作比较.结果表明:增大的新截面难以改变核吸收机制不易解释Pb-Pb碰撞J/ψ反常压低局面.     

a-Si:H结的横向光生伏特效应

本文通过理论分析研究了a-Si:H结中横向光生伏特效应的定态与瞬态特性。所得结果表明理论与实验非常符合。值得注意的是,按理论关系应用常规不掺杂a-Si:H特性值估算的两个重要参数(样品中的薄层电阻1/σ_s和传输时间T_m)均比由实验得出的值大得多。基于合理的分析。我们认为在a-Si:H层中平行于结输运的电子可能具有异乎寻常高的载流子迁移率。 关键词：     

变化电压下扩散限制电解沉淀过程对铜的分形维数的影响

研究了铜的二维电解沉淀物在限制条件下的分形维数.拍摄了铜沉淀物随时间变化的照片,使用盒维法分析了各种条件下的豪斯多夫分形维数,并建立了计算机评估模型,以证明电压对豪斯多夫维数的重要影响.根据照片显示沉淀物的欧几里德几何形状也有着规则的变化.     

高效液相色谱法测定金菊泡腾片中绿原酸的含量

采用Nucleosil C18(250mm×4.6mm,4.5μm)色谱柱,以甲醇-磷酸水溶液(pH=3.0)为流动相,其比例为25∶75,检测波长为327 nm,流速1.0 mL/min,柱温29 ℃,建立金菊泡腾片和双黄连口服液中绿原酸含量的高效液相色谱(HPLC)测定方法.绿原酸浓度在0.02-0.1 mg/mL与峰面积积分值呈良好的线性关系,A=0.9394C 0.3674(r=0.9991).该方法灵敏、简便、重现性好、结果准确,可用于金菊泡腾片中绿原酸含量的测定和产品质量控制.     

玄参汤剂的荧光光谱分析

测量了相应的激发光谱以及溶液的pH值,发现同种玄参汤剂中的荧光峰值波长随着激发波长的增加而增加;冷浸玄参汤剂的荧光峰为441 nm,而沸煮玄参汤剂的为532 nm;相应激发光谱由双峰结构向单峰结构转变,并且激发峰值也有明显的红移;同时其pH值由5.5变化到4.1。结合有机物混合体系中的荧光产生机理,解释了上述现象的产生原因：玄参汤剂中的不同荧光分子之间的相互作用以及相同荧光分子内部的能量转移;加热所导致的荧光大分子含量的增加和荧光分子间氢键二聚体的形成。文章对中药玄参的药理学研究具有一定的参考价值,为玄参汤剂质量鉴定提供了一种有效的测量方法。     

Measuring Grüneisen Parameter of Lead by High Pressure-Jump Method

Using the technology of pressure jump, variations of temperature associated with pressure from 2.4 GPa to 4.6 GPa are measured for lead. The Grfuneisen parameter is calculated from the thermodynamic relation γ =（Ks/T）（aT/aP）s, in which substitution of △T/△P for aT/aP at median pressure is strictly justified. The correction of temperature change is carried out by analysing the experimental data, which makes the process more approaching to an adiabatic condition. The calculated values of △T/ △ P and γ gradually decrease with the increasing pressure. The decrease trend is consistent with the previous work. The γ values in the range of 2-3 GPa are averagely higher than the results of Ramakrishnan et al., indicating the effect of temperature correction. The improved method is promising for measurements of Grfineisen parameter to higher pressure range.     

射频辅助N掺杂ZnO薄膜的生长及其光电特性

在MOCVD设备中采用改进的射频辅助生长装置,通过裂解N2及N-Al共掺杂的方法进行ZnO的p型掺杂研究。通过二次离子质谱(SIMS)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、光致发光(PL)谱等方法分析了薄膜中N杂质的浓度,以及射频功率与晶体质量、表面形貌以及光学特性之间的关系,并与Al掺杂和N掺杂的ZnO薄膜进行对比。实验结果表明,N掺杂的浓度高达1020cm-3;N-Al共掺杂极大地增加了ZnO的成核速率,其主要原因是N离化所起的作用;N-Al共掺的ZnO薄膜显示出p型性质,而N掺杂的ZnO薄膜由于N原子处于非激活状态而呈现高阻,这说明N-Al共掺杂对ZnO中N原子的活化起到一定作用。