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991.
荧光光度法直接测定高纯氧化钕中的痕量镨和铈   总被引:2,自引:0,他引:2  
使用P-ELS50荧光光谱仪,在盐酸介质中,用同一激发波长激发,分别测定Pr(Ⅲ)(nm)和Ce(Ⅲ)(356nm)发射峰强度。  相似文献   
992.
Hardy spaces of analytic functions are studied both on strongly pseudoconvex domains in ℂn and on domains of finite type in ℂ2. Duality theorems, atomic decompositions, and factorization of functions are treated. Mapping properties of certain Hankel operators are studied.  相似文献   
993.
Theformationofanewtypeofself_assembledmultilayerfilms,moleculardeposition(MD)films[1,2],isafastdevelopingareaofthinfilmresearch.Thisnewmethodoffilmpreparationisbasedonionicattractionbetweenoppositechargedchromophores.IncomparisonwiththeclassicLangmuir_Blo…  相似文献   
994.
AnEstimateofInequalityofSignatureandNullityforLinks¥LiQisheng(李起升)(Dept.OfMath.HenanUniversity,Kaifeng475001)Abstract:Aninequ...  相似文献   
995.
A new kind of polyorganozircosilazane as Si/Zr/C/N-based ceramic precursor was synthesized from the condensation reaction of hexamethyleyclotrisilazane lithium salts(D3^NLi)and zirconium tetrachloride(ZrCl4).In the presence of N,N,N’,N’-tetramethyl ethylene diamine(TMEDA),polyorganozircosilazane was obtained in high yield.  相似文献   
996.
997.
We present results of the exclusive diffractive reaction np 0K0p at 0·08 < |t|< 0·53 GeV2/c2 and momenta between 30–70 GeV/c at the Serpukhov neutron beam. Thet-dependence is exp (Bt) withB= 11·4± 2·3 (GeV/c)–2 and it exhibits the diffractive minimum at ¦t¦ 0·28 GeV2/c2 for 0K0 massesM < 1·8 GeV/c2.B decreases with increasingM. Correlation with the beam direction is observed in the rest frame of the 0K0 system: the cross section rises for the forward-going 0. The rise is more pronounced for higherM. The cross section of reaction np 0K0p for 0<|t|< 0·53 GeV2/c2 is 10·3 ± 2·5 ± 2·8 b.  相似文献   
998.
999.
1000.
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