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流动注射抑制化学发光法测定痕量强力霉素 总被引:9,自引:1,他引:9
基于在NaOH介质中 ,强力霉素对Luminol KMnO4 体系发光反应具有强烈的抑制作用 ,建立起流动注射抑制化学发光测定痕量强力霉素的新方法。强力霉素在 0 0 0 5~ 5 0 μg·mL- 1 浓度范围内 ,采用不同的KMnO4 溶液浓度 ,分段建立起抑制化学发光强度与其浓度间良好的线性关系 ,方法的检出限为 2 0×10 - 3μg·mL- 1 。该方法可用于药片中强力霉素含量的测定 相似文献
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提出一种反射式流通池用于过程分析光度检测系统 ,可以明显地抑制折光指数效应产生的干扰。以发光二极管为光源 ,采用多股光纤分别与流通池 ,光源 ,检测器耦合 ,实现对透射后反射回的光谱检测。以Cl- Hg(SCN) 2 Fe(Ⅲ )反应显色体系为模型对系统的实验参数进行了优化。讨论了试剂注入量、进样量、载流流速、试剂注入次序等参数对检测结果的影响。方法的线性范围为 0~ 10 0mg·L-1(相关系数r =0 998) ;分析精度 (RSD ,n =11)为 1 5 % ;检出限为 1 2mg·L-1;分析速度为 30个样·h-1;对自来水和海水的回收率分别为 95 %和 10 4 %。 相似文献
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