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91.
微纳米加工技术在纳米物理与器件研究中的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
物质在纳米尺度下可能呈现出与体材料不同的物理特件,这正是纳米科技发展的基础之一。要想探索在纳米尺度下材料物埋性质的变化规律及可能的应用领域,离不开相应的技术手段,微纳米加工技术作为当今高技术发展的重要技术领域之一,是实现功能人工纳米结构与器件微纳米化的基础。本文根据几个不同的应用领域,介绍了微纳米加工技术在纳米物理与器件研究领域的应用。  相似文献   
92.
This work reports a new synthetic approach for single‐phase TiO2 nanomaterials by solvothermal treatment of titanium tetrachloride in acetone at 80–110 °C. Small, uniform, and yet size‐tunable (5–10 nm) anatase titania nanocrystallites were obtained using a low concentration of TiCl4 in acetone (i.e., at molar ratios of TiCl4/acetone ≤ 1:15) in the temperature range of 80–110 °C, while rutile nanofibers were synthesized using a high concentration of TiCl4 (e.g., TiCl4/acetone = 1:10) at 110 °C. Copyright © 2007 John Wiley & Sons, Ltd.  相似文献   
93.
Under the assumption of Gaussian energy distributions of the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) and the highest occupied molecular orbital (HOMO), analytical expressions of generalized Einstein relation for electron and hole transport in doped organic semiconductor thin films are developed. Numerical calculations show that, although traditional Einstein relation still holds for low carrier concentrations, that is, the diffusion-coefficient-to-mobility ratio in units of kBT/q, with kB the Boltzmann’s constant, T the temperature and q the elementary charge, equals 1. But when the electron (hole) concentration is high, the diffusion-coefficient-to-mobility ratio for electrons (holes) changes strongly with the electron (hole) concentration, the doping level, the mean energy of LUMOs (HOMOs) of the dopant ELd (EHd) and the host EL (EH), as well as their variances. Dopants with ELd<EL (EHd>EH) affect the diffusion-coefficient-to-mobility ratio mainly in the range of low and middle carrier concentrations, while those with ELd>EL (EHd<EH) have significant effect only in the range of high carrier concentrations. It was found that there can be a maximum in the dependence of the diffusion-coefficient-to-mobility ratio on the quasi-Fermi energy or carrier concentration exist, for appropriate values of the doping level, the mean energy and variance of LUMO or HOMO states of the dopant. PACS 71.20.Rv; 72.90.+y; 73.50.-h  相似文献   
94.
3004铝合金“反常”锯齿屈服现象的研究   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
彭开萍  陈文哲  钱匡武 《物理学报》2006,55(7):3569-3575
在应变速率为5.56×10-5s-1—5.56×10-3s-1的范围内,在不同温度下(从223K至773K),对3004铝合金进行系列拉伸试验,探索其锯齿屈服规律;通过激活能的计算、内耗研究、微观组织观察和能谱分析,探讨锯齿屈服的机理与物理本质.结果表明,3004铝合金在形变过程中会出现动态应变时效现象;发现了一种“反常”的锯齿屈服现象:在出现锯齿屈服的温区内,存在锯齿屈服临界应变量转变温度Tt关键词: 动态应变时效 锯齿屈服 铝合金 内耗  相似文献   
95.
用全势线性缀加平面波方法,考虑局域自旋密度近似研究虚晶掺杂MgCNi3的超导电性和磁性.计算了自旋极化能带结构、体弹性模量和它对压力的导数、原子磁矩 m 及其变化率.计算结果表明,对于电子掺杂的Mg1-xAlxCNi3(0≤x≤0.5), 超导电性和磁涨落随掺杂量的增加逐渐减小.空穴掺杂的Mg1-xNaxCNi3,在x=0.12处出现铁磁相变,超导电性消失.在MgCNi3少量空穴掺杂区域(0≤x<0.12),表现为超导与磁涨落共存的不稳定状态.  相似文献   
96.
马西奎  杨梅  邹建龙  王玲桃 《物理学报》2006,55(11):5648-5656
建立了一种可积的无穷维系统——时延范德波尔电磁系统,采用Poincaré映射分析了系统随参数Eλ变化发生的分岔与混沌现象,发现这种时延系统具有复杂的非线性动力学特性,例如吸引子共存、间歇性混沌、类似边界碰撞分岔通向混沌以及周期增加的现象.在研究系统时间混沌行为的同时,还对空间混沌行为进行了初步分析,通过描绘空间分布图发现时延范德波尔电磁系统随参数Eλ变化时,在空间中会呈现出周期和混沌等不同的图案. 关键词: 分岔 混沌 无穷维系统 时延范德波尔电磁系统  相似文献   
97.
曾晖  胡慧芳  韦建卫  谢芳  彭平 《物理学报》2006,55(9):4822-4827
运用第一性原理的密度泛函理论结合非平衡格林函数研究了含有五边形—七边形拓扑缺陷的纳米碳管异质结的输运性质.结果发现:拓扑缺陷对碳管的输运性质有很大影响;另外,不同类型的碳管形成的异质结的输运性质也有明显的差异. 关键词: 纳米碳管 输运性质 异质结 透射系数  相似文献   
98.
Complex formation between aluminium and quercetin(Q) in methanol was investigated by means of 27^Al solid-state, 13^C and 1^H NMR and MS(ESI), UV and IR spectra. Formation of the 1:2 complex was favored in methanol relative to all other solvent and the predominant species observed of Al(Ⅲ) has a 1:2 stoichiometry. The fine structure of 1:2 aluminum complex of quercetin was that the aluminum central atom chelated with two quereetin molecules and two methoxyl groups between two five membered rings, its coordination is six, the chelated site was 3-hydroxy-4-carbonyl.  相似文献   
99.
100.
张梅 《应用光学》2006,27(6):594-597
为构造出与理想梯形滤波器接近的滤波形状,在单级光纤马赫-德尔交叉复用器的基础上,引入在线滤波技术;通过增加干涉级数和调整2对干涉臂的干涉长度和耦合器的耦合比,实现了逼近宽带陡沿的滤波输出。通过与梯形滤波器傅里叶展开式的比较,计算得到了器件的最佳参数,器件的滤波性能以及温度稳定性相对于单级结构得到了明显提高。根据理论计算,成功制作出通道间隔为50GHz的样品器件。其输出为-0.5dB,带宽大于0.185nm,相邻通道隔离度大于30dB,满足了DWDM系统指标要求。  相似文献   
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