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961.
He-Ne激光选育高木质素降解率的白腐真菌Lx 总被引:5,自引:1,他引:5
用He-Ne激光对一株木质素降解活性较高的白腐真菌L1进行选育.将该菌的菌丝体和原生质体多次照射诱变,结果得出:在波长632.5nm,用功率为6mW和7mW照射该菌的菌丝体,选育出的菌株L6和L7木质素降解率可达38.1%和39.88%,比出发菌株L1提高了33%和39%.用功率9mW的He-Ne激光辐照原生质体,照射20min时,原生质体致死率已达100%.在照射时间为10min时,选育出一株木质素降解率达43.03%的菌株Lx,比出发菌株L1提高了50%.同工酶分析显示该菌株发生了稳定的遗传突变. 相似文献
962.
Cheng P Lin B Kao F Gu M Xu M Gan X Huang M Wang Y 《Micron (Oxford, England : 1993)》2001,32(7):661-669
Multi-photon fluorescence microscopy has been cited for its advantage in increased depth penetration due to low linear absorption and scattering coefficient of biological specimen in the near infrared (NIR) range. Because of the need of high peak power for efficiently exciting two-photon fluorescence, the relationship between cell damage and peak power has become an interesting and much debated topic in the applications of multi-photon fluorescence microscopy. It is conceivable that at high illumination intensity, non-linear photochemical processes have impacts on cell physiology and viability in ways much different from low illumination in the linear domain. In this article, we discuss some of the issues in two-photon fluorescence microscopy, including the degree of transparency of the specimen, a comparison of single- and two-photon excited fluorescence spectra, and the cell damage under high intensity illumination, using plant cells as a model. 相似文献
963.
用原子分子反应静力学原理导出LaF分子可能的电子状态和离解极限。在相对论有效核芯势RECP(RelativisticEffectiveCorePotential)近似下 ,用密度泛函理论中的B3LYP方法优化了LaF分子单、三重态平衡几何结构 ,计算了基态X1Σ 的振动基频和离解能。在计算出来的一系列单点势能基础上 ,用非线性最小二乘方法拟合出基态Murrell Sorbie势能曲线 ,得到分析势能函数 ,由此计算出相应光谱常数ωe、Be、αe、ωeχe的理论值并和实验测量的振转光谱比较 ,结果非常吻合。另外还比较了用两种不同有效势得到的分析势能函数和光谱参数 ,以能量一致相对论有效势ECEP(EnergyCosistentRelativisticEffectivePotential)得到的结果最好。 相似文献
964.
In the spacetime of a charged spinning black hole, the distribution of particle energy levels has been studied. Near the event horizon of such a black hole a crossing of the particle energy levels exists, which leads to the occurrence of non-thermal radiation of the black hole. This quantum effect is non-thermal and also different from those of the Kerr and Kerr-Newman black holes. 相似文献
965.
Extremely broadband emission is obtained from semiconductor optical amplifiers-superluminescent diodes with nonidentical quantum wells made of InGaAsP/InP materials. The well sequence is experimentally shown to have a significant influence on the emission spectra. With the three In(0.67) Ga(0.33) As(0.72) P(0.28) quantum wells near the n -cladding layer and the two In(0.53) Ga(0.47) As quantum wells near the p -cladding layer, all bounded by In(0.86) Ga(0.14) As(0.3)P(0.7) barriers, the emission spectrum could cover from less than 1.3 to nearly 1.55 microm, and the FWHM could be near 300 nm. 相似文献
966.
967.
968.
969.
利用偏振干涉成像光谱仪进行偏振探测,这一方法将偏振测量与干涉成像光谱技术相结合,一方面能提供辐射测量所不能提供的物体偏振信息,另一方面又可获取目标的空间图像和光谱,具有比辐射测量更高的准确度.在简要分析了利用偏振干涉成像光谱仪进行偏振检测的理论基础上,深入研究了偏振检测的方法,分析比较了目前常用的偏振探测角度(45°,60°)对偏振度探测的影响.进一步计算推导出偏振测量的最优探测角度,将之与以往常用的探测角度进行了分析比较,证明了此最佳探测角度可以有效地减小偏振误差、提高偏振探测的精度.这将极大地提高偏振干涉成像光谱仪的应用范围,为新型偏振干涉成像光谱技术的研究以及仪器研制提供重要的理论依据.
关键词:
偏振检测
偏振干涉成像光谱仪
探测角
Savart偏光镜 相似文献
970.
Recently GaN-based high electron mobility transistors (HEMTs) have
revealed the superior properties of a high breakdown field and high
electron saturation velocity. Reduction of the gate leakage current
is one of the key issues to be solved for their further improvement.
This paper reports that an Al layer as thin as 3 nm was inserted
between the conventional Ni/Au Schottky contact and n-GaN epilayers,
and the Schottky behaviour of Al/Ni/Au contact was investigated
under various annealing conditions by current--voltage (I--V)
measurements. A non-linear fitting method was used to extract the
contact parameters from the I--V characteristic curves.
Experimental results indicate that reduction of the gate leakage
current by as much as four orders of magnitude was successfully
recorded by thermal annealing. And high quality Schottky contact
with a barrier height of 0.875 eV and the lowest reverse-bias
leakage current, respectively, can be obtained under 12 min
annealing at 450°C in N2 ambience. 相似文献