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101.
多晶硅制绒工艺研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文讨论了多晶硅制绒工艺技术,对比多晶硅在碱混合液和酸混合液中制绒,酸溶液制绒能更好的改善多晶硅表面减反射作用。采用显微镜及模拟日光器对电池性能检测分析,结果表明,不同绒面的多晶硅电池电学性能参数存在差异,并对多晶硅的最佳刻蚀深度进行了总结。  相似文献   
102.
王婷  李勇  孙加林 《人工晶体学报》2014,43(9):2198-2204
以碳化硅、多晶硅废料、金属硅粉为原料,纸浆废液为结合剂,采用反应烧结工艺制备SiC/Si3N4复相结合SiC耐火材料.运用热力学分析了利用多晶硅废料代替部分工业金属硅粉和碳化硅细粉制备SiC/Si3N4复相结合SiC耐火材料的理论可行性.系统地分析了单质硅氮化机理,提出Si首先与N2中的微量氧反应形成气态SiO,至体系氧分压降至P(02)/pθ<1 × 10-18.9,Si直接氮化.研究了多晶硅废料对材料物相组成和微观结构的影响.结果表明:利用多晶硅废料制备的SiC/Si3 N4复相结合SiC耐火材料性能优异;多晶硅废料的添加使反应生成的结合相由原先单一的Si3 N4变为Si3 N4和β-Sic,两结合相发挥各自的性能优势;多晶硅废料中的硅粉粒径小,活性大,与工业金属硅粉共存时能发生逐级氮化作用,增加了纤维状Si3N4含量,优化了材料结构.  相似文献   
103.
A new 2D metal coordination polymer(MCP),[Mn(pzdc)_(0.5)(L)]_n(1,pzdc=pyrazine-2,3-dicarboxylic acid,HL=3-(2-pyridyl)pyrazole),was synthesized under hydrothermal conditions and characterized by single-crystal X-ray diffraction,powder XRD,FT-IR,TG,fluorescence and elemental analysis techniques.Pale yellow crystals crystallize in orthorhombic system,space group Fdd2 with a=11.2368(6),b=38.280(2),c=10.5682(6) A,V=4545.9(4) A~3,C_(11)H_7MnN_4O_2,M_r=282.15,D_c=1.649 g/cm~3,μ(MoKα)=1.159 mm~(-1),F(000)=2272,Z=16,the final R=0.0613 and wR=0.1773 for 2856 observed reflections(I 2σ(I)).It shows a two-dimensional network structure and is further assembled into a three-dimensional supramolecular framework via hydrogen bonds and abundant π-π interactions.In addition,we analyzed natural bond orbital(NBO) of 1 in using the PBE0/LANL2DZ method established in Gaussian 03 Program.There is obvious covalent interaction between the coordinated atoms and Mn(Ⅱ) ions.  相似文献   
104.
采用第一性原理杂化泛函HSE06方法对Fe掺杂α-Bi2 O3的电子结构和光学性质进行了计算研究.结果表明,Fe掺杂α-Bi2 O3体系有较小的结构变形,本征α-Bi2 O3的禁带宽度为2.69 eV,Fe掺杂使α-Bi2 O3的禁带宽度减小(约为2.34 eV).对其光学性质研究得出Fe掺杂扩展了α-Bi2 O3对可...  相似文献   
105.
金属配合物中的水簇研究为研究宏观意义上的水以及与蛋白质分子有关的水分子提供了有效途径。本文合成了一个含有阴离子水簇的带状超分子配合物[Co(2,2-bipy)2(N3)2](N3)0.5Cl0.5·2H2O(1,2, 2-bipy=2, 2-联吡啶)。单晶结构解析表明,配合物属于三斜晶系,P-1空间群,晶胞参数为:a=0.822 54(7) nm,b=1.175 58(9) nm,c=1.237 06(10) nm,α=91.379 0(10)°,β=92.151 0(10)°,γ=108.119 0(10)°,V=1.135 27(16) nm3,由一个单核[Co(2,2-bipy)2(N3)2]+配合物阳离子、两个非配位水分子、0.5个游离的叠氮离子和0.5个氯离子组成,叠氮离子和氯离子位置无序,占有率各为50%。两个客体水分子通过强烈的分子间氢键作用形成了环状水四聚体,且与无序的N-3和Cl-通过氢键作用形成了一个[(H2O)4(N3)Cl]2- 阴离子水簇。此外,本文基于密度泛函理论(DFT)对配合物[Co(2,2-bipy)2(N3)2]+阳离子进行了量子化学计算,分析了其单点能和原子电荷,并计算了中心金属离子的氧化态,计算结果与实验相吻合。  相似文献   
106.
LI Xiang   《理论物理通讯》2007,48(7):93-98
de Broglie relation is revisited, in consideration of a generalization of canonical commuting relation. The possible effects on particle's localization and black hole physics are also discussed, in a heuristic manner.  相似文献   
107.
Two copper(Ⅱ)coordination polymers{[Cu(bib)(nip)]·1.5H2O}n(1)and[Cu2(bib)(glu)2]n(2)(bib= 1,4-bis(2-methyl-imidazol-1-yl)butane,H2nip = 5-nitroisophthalic acid,...  相似文献   
108.
分析了KTP晶体电导率的特性,设计与研制出一种新型的高压脉冲放大器,可将任意信号发生器产生的信号线性放大,响应速度快,最高输出电压为4000V,最大输出电流为30mA,功率可达100W.用其在KTP晶体上进行多次极化反转实验,取得良好的实验结果.  相似文献   
109.
LBO晶体超光滑表面抛光机理   总被引:1,自引:0,他引:1  
胶体SiO2抛光LBO晶体获得无损伤的超光滑表面,结合前人对抛光机理的认识,探讨了超光滑表面抛光的材料去除机理,分析了化学机械抛光中的原子级材料去除机理.在此基础上,对胶体SiO2抛光LBO晶体表面材料去除机理和超光滑表面的形成进行了详细的描述,研究抛光液的pH值与材料去除率和表面粗糙度的关系.LBO晶体超光滑表面抛光的材料去除机理是抛光液与晶体表面的活泼原子层发生化学反应形成过渡的软质层,软质层在磨料和抛光盘的作用下很容易被无损伤的去除.酸性条件下,随抛光液pH值的减小抛光材料的去除率增大;抛光液pH值为4时,获得最好的表面粗糙度.  相似文献   
110.
本文通过将新型化学气相反应促进剂Zn(NH4)3Cl5引入到热壁外延系统中,以二元素单质Zn和Se为原料,直接在Si(111)衬底上生长了高质量的ZnSe晶体薄膜,薄膜成分接近理想化学计量比。研究了主要工艺参数对薄膜生长形貌和性能的影响。采用SEM、AFM、EDS和PL谱技术研究了生长的ZnSe薄膜的形貌、成分和发光特性。研究结果表明,热壁温度和生长时间是影响ZnSe薄膜形貌的主要因素;气相反应促进剂在薄膜生长和调节成分方面扮演了关键角色,Zn(NH4)3Cl5的存在使得Zn(g)和Se2(g)合成ZnSe晶体的反应转变为气固非一致反应,从而更容易获得近乎理想化学计量比的ZnSe薄膜。ZnSe薄膜在氦镉激光激发下,室温下PL谱由近带边发射和(VZn-ClSe)组合的SA发光组成,而在飞秒激光激发下,仅在481nm处显示出强烈的双光子发射峰。  相似文献   
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