首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   101355篇
  免费   16677篇
  国内免费   11786篇
化学   71719篇
晶体学   1136篇
力学   5759篇
综合类   666篇
数学   12628篇
物理学   37910篇
  2024年   243篇
  2023年   1999篇
  2022年   3056篇
  2021年   3557篇
  2020年   4111篇
  2019年   3872篇
  2018年   3573篇
  2017年   3212篇
  2016年   4843篇
  2015年   4678篇
  2014年   5790篇
  2013年   7546篇
  2012年   9105篇
  2011年   9476篇
  2010年   6624篇
  2009年   6355篇
  2008年   6678篇
  2007年   5969篇
  2006年   5578篇
  2005年   4656篇
  2004年   3644篇
  2003年   2929篇
  2002年   2665篇
  2001年   2227篇
  2000年   1943篇
  1999年   2052篇
  1998年   1737篇
  1997年   1564篇
  1996年   1554篇
  1995年   1368篇
  1994年   1241篇
  1993年   1002篇
  1992年   906篇
  1991年   776篇
  1990年   651篇
  1989年   503篇
  1988年   376篇
  1987年   338篇
  1986年   336篇
  1985年   262篇
  1984年   188篇
  1983年   153篇
  1982年   125篇
  1981年   78篇
  1980年   59篇
  1979年   24篇
  1978年   22篇
  1976年   22篇
  1975年   22篇
  1957年   26篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 755 毫秒
281.
The longitudinal relaxation times (T1) of water in concentrated silica and alumina slurries were measured as a function of solids content. It was shown that the results could be fit very well with a two-phase fast-exchange model between free and surface-bound water. As expected, values of T1 for bound water were in the order of 20–2000 times lower than that for free water, indicating a higher effective viscosity of the surface-bound water. The strength of the interaction depended on the particular surface, and all of the aluminas examined interacted more strongly with water than the two silicas studied, which themselves differed considerably. The chemical mechanical polishing (CMP) removal rate of tantalum by silica slurries was shown to be directly correlated with the interaction parameters, derived from the NMR relation times rather than with total surface hydroxyl group concentration.  相似文献   
282.
一种微型空调器的优化设计   总被引:1,自引:1,他引:0  
介绍了一种微型空调器的研制背景及设计方案 ,采用仿真优化的设计手段对空调器的制冷、制热系统进行了优化设计 ,实践证明其设计是成功的。同时说明了该型空调器所具有的特点及应用场合  相似文献   
283.
借助电子动量谱学结合量子化学理论和其他方法可以给出轨道电子在整个空间的分布信息,由此给出电子运动的完备描述[1,2 ] .清华大学电子动量谱学实验室近几年已成功地对甲烷[3] 、异丁烷[4 ] 、环戊烷[5] 、二乙酰等[6 ] 分子的轨道电子动量分布进行了测量.我们利用第二代电子动量谱仪首次对CH2 F2 分子3a1和2b2 轨道的电子动量谱进行测量,并与理论计算结果作了比较.同时还计算了坐标空间和动量空间中电子在x - y平面的密度分布.电子动量谱学最基本的过程是(e ,2e)反应,即电子与靶粒子碰撞而发生的电离过程.而对于(e ,2e)反应,含有大量信…  相似文献   
284.
李雪春  王友年 《物理学报》2004,53(8):2666-2669
针对等离子体浸没离子注入技术在绝缘体表面制备硅薄膜工艺,采用一维脉冲鞘层模型描述介质靶表面的充电效应对鞘层厚度、注入剂量及靶表面电位等物理量的影响.数值模拟结果表明:随着等离子体密度的增高,表面的充电效应将导致鞘层厚度变薄、表面电位下降以及注入剂量增加,而介质的厚度对鞘层特性的影响则相对较小. 关键词: 等离子体浸没离子注入 脉冲鞘层 绝缘介质 充电效应  相似文献   
285.
程愿应  王又青  胡进  李家熔 《物理学报》2004,53(8):2576-2582
根据有限元法单元划分的思想,提出了一种新颖的模拟光腔模式及光束传输的特征向量法. 该方法的关键之处在于基于衍射积分理论构造了一种新的光束传输矩阵,通过求解特征矩阵方程可一次性得到谐振腔的一系列特征向量,每一列特征向量即代表了腔镜上光场的一个确定模式的振幅及相位分布. 并可采用该方法模拟光场传输到腔内或腔外任意地方的场分布. 该方法将传统方法中大量的迭代过程转化成为本征积分方程特征向量的求解过程,并与初值取值无关,且可一次性求得多个模式分布,从而可方便地分析谐振腔的模式鉴别能力. 特征向量法对圆形镜共焦 关键词: 谐振腔 特征向量法 模式分布  相似文献   
286.
超声速等离子体射流的数值模拟   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
基于可压缩的全Naiver-Stokes方程,利用PHOENICS程序对由会聚 辐射阳极形状等离子体炬产生的超声速等离子体射流进行了数值模拟.考虑了等离子体的黏性、可压缩性以及变物性对等离子体射流特性影响.研究了超声速等离子体射流的流场结构特性以及不同环境压力对等离子体射流产生激波结构的影响.结果表明,超声速等离子体射流在喷口附近形成的周期性激波结构是其和环境气体相互作用的结果. 关键词: 等离子体炬 超声速等离子体射流 PHOENICS  相似文献   
287.
离子束增强沉积VO2多晶薄膜的温度系数   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
李金华  袁宁一 《物理学报》2004,53(8):2683-2686
用改进的离子束增强沉积方法和恰当的退火从V2O5粉末直接制备了VO2多晶薄膜.实验测试表明,薄膜的取向单一、相变特性显著、结构致密、界面结合牢固、工艺性能良好,薄膜的电阻温度系数(TCR)最高可达4.23%/K.从成膜机理出发,较详细地讨论了离子束增强沉积 VO2多晶薄膜的TCR高于VOx薄膜的TCR的原因.分析认为,单一取向的VO2结构使薄膜晶粒具有较高的电导激活能,致密的薄膜结构减少了氧空位和晶界宽度,使离子束增强沉积 VO2多晶薄膜结构比其他方法制备的VOx薄膜更接近于单晶VO2是其具有高TCR的原 关键词: VO2多晶薄膜 离子束增强沉积 热电阻温度系数  相似文献   
288.
提出一种基于多目标优化原理的发射光谱层析(EST)图像重建新算法MCIRT.通过计算机数值 模拟,考察了该算法对非对称发射系数场分布的重建效果.结果表明,与传统层析算法相比 ,MCIRT算法具有收敛快,重建精度高的优势,适合于非完全数据情况下的等离子体发射系 数场重建,并且实时性更好.作为一个应用实例, 运用谱线相对强度法重建了自由电弧等离 子体的三维温度及粒子数密度分布. 关键词: 等离子体诊断 图像重建  相似文献   
289.
利用两种方法研究了有源放大器波分复用系统光纤链路中交叉 相位调制的不稳定性.首先利用非线性薛定谔耦合方程,在小幅度扰动下,研究了正常色散 和反常色散光纤中的交叉相位调制不稳定性. 由于相位噪声涨落,利用分裂步长傅里叶 变换法与Monte-Carlo法,模拟了有源放大器链路中反常色散和正常色散情况下的调制不稳定性. 两种方法得到的结论基本一致. 关键词: 调制不稳定性 交叉相位调制 斯托克斯带 反斯托克斯 带  相似文献   
290.
激光限制结晶技术制备nc-Si/SiO2多层膜   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
在等离子体增强化学气相淀积系统中,采用aSi:H层淀积和原位等离子体氧化相结合的逐层生长技术制备了aSi:H/SiO_2多层膜.在激光诱导限制结晶原理基础上,使用KrF准分子脉冲激光为辐照源,对aSi:H/SiO_2多层膜进行辐照,使纳米级厚度的aSi:H子层晶化.Raman散射谱和电子衍射谱的结果表明,经过激光辐照后纳米Si颗粒在原始的aSi:H子层内形成,晶粒尺寸可以根据aSi:H层的厚度精确控制.还研究了样品的光致发光(PL)特性以及激光辐照能量密度对PL性质的影响. 关键词: 脉冲激光 多层膜 限制结晶  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号