首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   75323篇
  免费   23308篇
  国内免费   17026篇
化学   47727篇
晶体学   969篇
力学   4992篇
综合类   20篇
数学   9612篇
物理学   52337篇
  2024年   441篇
  2023年   675篇
  2022年   662篇
  2021年   563篇
  2020年   806篇
  2019年   1367篇
  2018年   1337篇
  2017年   1969篇
  2016年   2108篇
  2015年   2308篇
  2014年   2129篇
  2013年   3946篇
  2012年   4261篇
  2011年   5801篇
  2010年   9167篇
  2009年   9421篇
  2008年   3320篇
  2007年   2836篇
  2006年   2529篇
  2005年   2933篇
  2004年   3817篇
  2003年   3094篇
  2002年   2906篇
  2001年   3063篇
  2000年   2287篇
  1999年   2520篇
  1998年   2124篇
  1997年   1955篇
  1996年   2276篇
  1995年   2714篇
  1994年   2788篇
  1993年   2863篇
  1992年   2447篇
  1991年   2097篇
  1990年   1752篇
  1989年   1854篇
  1988年   1843篇
  1987年   1138篇
  1986年   1187篇
  1985年   891篇
  1984年   1013篇
  1982年   915篇
  1981年   765篇
  1980年   803篇
  1979年   556篇
  1978年   562篇
  1977年   664篇
  1976年   1080篇
  1973年   449篇
  1972年   545篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
101.
本文采用椭圆偏振光谱法研究了剂量为1×1016—3×1012cm-2的As+注入硅,及其在700℃退火后的光学性质。得出:当As+注入剂量增大到某一程度后,便呈非晶特性。低于临界剂量的样品,其n-λ,ε2-λ关系曲线随剂量的增大而往下方移动,呈有规律变化;退火后,在大于4000?波段,n-λ与ε2-λ曲线基本恢复到单晶硅状态。但在小于4000?的紫外区却未完全恢复,注入剂量越大,偏离单晶硅就越大。并指出,紫外光区是离子注入硅的信息敏感区;用有效质量模型计算出注入剂量与损伤度的关系。计算结果与实验符合得较好。 关键词:  相似文献   
102.
研究了制备的掺钕螯合物Nd(DBM)3Phen材料的吸收光谱、激发光谱、荧光光谱,应用Judd-Ofelt理论计算了该材料的强度参量.分析了钕离子激发态4F3/2的辐射寿命(631 μs)和4F3/2→4IJ′跃迁的受激发射截面和荧光分支比.  相似文献   
103.
Two optional routes to β-phenylnaphthalene structure are developed by introducing α- and β-styryl groups onto different positions in the benzocyclobutene ring followed by ring enlargement.  相似文献   
104.
本文首先将文[1]中的BLD映射推广为弱(L1,L2)-BLD映射,并证明了如下正则性结果:存在两个可积指数 P1=P1(n,L1,L2)<n<q1=q1(n,L1,L2),使得对任意弱(L1,L2)-BLD映射f∈(Ω,Rn),都有f∈(Ω,Rn),即f为(L1,L2)-BLD映射.  相似文献   
105.
修正了 [4,5]中的 Jabotinsky矩阵,得到并证明了一类无穷下三角矩阵T(f)的一些性质,最后,导出了一些与导数相关的反演关系和组合恒等式.  相似文献   
106.
基因芯片荧光图象采集与分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
描述了基因芯片荧光图象的光学共聚焦成象,大范围高速扫描与控制,数据采集的原理和方法.并讨论了基因芯片荧光图象的分析算法,即模板定位与阈值分割相结合的半自动算法,并将其计算结果与完全采用人工分割算法的结果进行了比较.  相似文献   
107.
多相体系中Ni-PMMA纳米复合材料的γ辐射制备   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
在多相体系中 ,运用γ射线辐射法 ,在常温常压下成功地一步合成了镍 聚甲基丙烯酸甲酯 (Ni PMMA)纳米复合材料 .XRD、TEM分析和IR光谱表明 ,在此实验条件下 ,镍离子和甲基丙烯酸甲酯已成功地被还原或聚合 ,镍粒子为面心立方 ,尺寸为 7.33nm .研究显示 ,用醋酸钠代替氢氧化钠或氨水作为碱性试剂 ,可以有效地控制体系的pH ,同时不影响单体的聚合 .  相似文献   
108.
109.
We fabricated InAs quantum dots (QDs) with a GaAsSb strain-reducing layer (SRL) on a GaAs(0 0 1) substrate. The wavelength of emission from InAs QD is shown to be controllable by changing the composition and thickness of the SRL. An increase in photoluminescence intensity with increasing compositions of Sb and thickness of the GaAsSb SRL is also seen. The efficiency of radiative recombination was improved under both conditions because the InAs/GaAsSb/GaAs hetero-interface band structure more effectively suppressed carrier escape from the InAs QDs.  相似文献   
110.
量子点器件的三端电测量研究   总被引:2,自引:1,他引:1       下载免费PDF全文
竺云  王太宏 《物理学报》2003,52(3):677-682
利用三端电测量方法,研究了调制掺杂二维电子气结构的量子点器件输运特性.报道了可分别测量二维电子气电阻和量子点隧穿电阻的实验方法.实验结果表明:量子点的横向耦合控制了量子点器件在小偏压下的电输运特性. 关键词: 自组装量子点 二维电子气 量子隧穿 肖特基接触  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号