首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   738篇
  免费   18篇
  国内免费   1篇
化学   574篇
晶体学   3篇
力学   10篇
数学   93篇
物理学   77篇
  2023年   4篇
  2022年   7篇
  2021年   11篇
  2020年   4篇
  2019年   12篇
  2018年   11篇
  2017年   9篇
  2016年   18篇
  2015年   19篇
  2014年   15篇
  2013年   40篇
  2012年   31篇
  2011年   53篇
  2010年   26篇
  2009年   24篇
  2008年   38篇
  2007年   29篇
  2006年   28篇
  2005年   26篇
  2004年   23篇
  2003年   19篇
  2002年   19篇
  2001年   22篇
  2000年   12篇
  1999年   13篇
  1998年   14篇
  1997年   8篇
  1996年   14篇
  1995年   8篇
  1994年   4篇
  1992年   10篇
  1991年   7篇
  1990年   7篇
  1989年   8篇
  1988年   8篇
  1987年   5篇
  1986年   7篇
  1985年   12篇
  1984年   9篇
  1983年   6篇
  1982年   5篇
  1974年   4篇
  1970年   6篇
  1968年   5篇
  1912年   4篇
  1907年   4篇
  1876年   4篇
  1871年   3篇
  1867年   3篇
  1862年   3篇
排序方式: 共有757条查询结果,搜索用时 0 毫秒
641.
Analytical and Bioanalytical Chemistry -  相似文献   
642.
643.
644.
    
Ohne ZusammenfassungMitteilung der Versuchsstation Bonn.  相似文献   
645.
646.
647.
648.
    
Ohne Zusammenfassung(3. Abhandlung.)  相似文献   
649.
650.
The low vapor pressure solvent 1‐chloropentane was used to directly spincast polystyrene (PS) films onto poly(methyl methacrylate) (PMMA) with smooth surfaces and sharp interfaces. Interface roughness after removal of the PS layer with cyclohexane was determined with scanning force microscopy to be <1 nm. Dynamic secondary mass spectroscopy revealed an interfacial width below the resolution limit of ~10 nm. Large area bilayers with smooth surfaces could be created. In addition, direct spincasting with 1‐chloropentane allows the production of thin PS films (<15 nm) and films of low molecular weight (<5 kDa) PS, all of which would be impossible to produce for this important model system by the traditional water‐transfer method. 1‐chloropentane was confirmed to be a sufficiently selective solvent for PS by measuring the Flory–Huggins χ parameters of 1‐chloropentane with PS and PMMA, respectively, with inverse gas chromatography. In the search for a suitable selective solvent, the authors have also examined the role of vapor pressure in spin casting smooth films over a wider molecular weight (4.3–190 kDa) and thickness range (~5–500 nm) than previously reported. Only solvents with low vapor pressure produced high quality PS films. Methylcyclohexene can also be used to produce excellent, directly cast PS/PMMA bilayers, but with a smaller molecular weight and thickness window compared with 1‐chloropentane. © 2006 Wiley Periodicals, Inc. J Polym Sci Part B: Polym Phys 44: 3234–3244, 2006  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号