C-V法提取SiC隐埋沟道MOSFET沟道载流子浓度

本文对用C-V法提取SiC隐埋沟道MOSFET沟道载流子浓度的方法进行了理论和实验分析. pn结的存在所造成的埋沟MOS结构C-V曲线的畸变为沟道载流子浓度的提取带来一些问题. SiC/SiO₂界面上界面态的存在也会使提取出的数值与实际数值产生偏差. 本文首先从理论上分别分析了沟道深度和界面态对沟道载流子浓度提取结果的影响，然后对两种沟道深度的埋沟MOS结构C-V曲线进行了测试，提取出了沟道掺杂浓度. 在测试中，采用不同的扫描速率，分析了界面态对提取结果的影响. 理论分析结果和实验测 关键词： C-V法 SiC 隐埋沟道MOSFET 沟道载流子浓度     

TiN/Al2O3纳米多层膜的共格外延生长及超硬效应

采用多靶磁控溅射法制备了一系列具有不同Al2O3调制层厚度的TiN/Al2O3纳米多层膜.利用X射线能量色散谱、X射线衍射、扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的成分、微结构和力学性能.研究结果表明,在TiN/Al2O3纳米多层膜中,单层膜时以非晶态存在的Al2O3层在厚度小于1.5 nm时因TiN晶体层的模板效应而晶化,并与TiN层形成共格外延生长,相应地,多层膜产生硬度明显升高的超硬效应,最高硬度可达37.9 GPa.进一步增加多层膜中Al2O3调制层的层厚度,Al2O3层逐渐形成非晶结构并破坏了多层膜的共格外延生长,使得多层膜的硬度逐步降低.     

Spectroscopic and Structural Study of the 1：2 Aluminium（Ⅲ） Complex of Quercetin

Complex formation between aluminium and quercetin（Q） in methanol was investigated by means of 27^Al solid-state, 13^C and 1^H NMR and MS（ESI）, UV and IR spectra. Formation of the 1：2 complex was favored in methanol relative to all other solvent and the predominant species observed of Al（Ⅲ） has a 1：2 stoichiometry. The fine structure of 1：2 aluminum complex of quercetin was that the aluminum central atom chelated with two quereetin molecules and two methoxyl groups between two five membered rings, its coordination is six, the chelated site was 3-hydroxy-4-carbonyl.     

Bulk Sn1−xMnxO2 magnetic semiconductors without room-temperature ferromagnetism

Polycrystalline Sn_1−xMn_xO₂ (0≤x≤0.05) diluted magnetic semiconductors were prepared by solid-state reaction method and their structural and magnetic properties had been investigated systematically. The three Mn-doped samples (x=0.01, 0.03, 0.05) undergo paramagnetic to ferromagnetic phase transitions upon cooling, but their Curie temperatures are far lower than room temperature. The magnetization cannot be attributed to any identified impurity phase. It is also found that the magnetization increases with increasing Mn doping, while the ratio of the Mn ions contributing to ferromagnetic ordering to the total Mn ions decreases.     

H原子与CO2分子碰撞的化学反应与能量转移

用时间分辨傅立叶红外发射光谱的方法对H原子与CO2分子的碰撞动力学进行了实验研究．用紫外激光光解的方法分别制备出三个不同平动能为174．7、241．0和306．2 kJ／mol的氢原子,并引发H CO2→OH CO反应．观察到了反应的产物,即振动激发的CO (v≤2)．同时也看到了在H原子与CO2分子的碰撞中发生高效的T- V能量转移．CO2的反对称伸缩模的最高振动能级为v=4．化学反应与能量转移的速率之比大约为10．     

导体壳内外的电场彼此独立的简易证明

本文提供了一种证明导体壳的内外电场彼此独立的简易方法.     

VOn±(n=0,1,2)的势能函数与光谱常数研究

用密度泛函B3LYP/6-311++G(d,p)方法和相对论有效实势(Lanl2dz基组)对VO^n±(n=0,1,2)分子离子的势能函数及光谱常数进行了分析. 结果表明它们都能稳定存在, 其基态电子状态分别是:⁴Σ(VO^2-), ³Σ(VO^-), ⁴Σ(VO), ³Σ(VO⁺)和²Σ(VO²⁺). 其中VO^2-和VO²⁺的势能函数曲线呈“火山口”型, 属于亚稳态分子离子. 用七参数Murell-Sorbie势拟合VO^2-和VO²⁺分子亚稳态双原子分子离子势能函数, 发现其拟合曲线与势能函数曲线符合得很好. 同时,讨论了电荷对势能函数和能级的影响. 关键词： 分子离子 密度泛函理论 势能函数 能级     

钐(Ⅱ)类卡宾CH_3SmCH_2X(X=Cl、Br和Ⅰ)促进乙烯环丙烷化反应途径的理论研究(英文)

用密度泛函B3LYP方法研究了过渡金属钐类卡宾与乙烯的环丙烷化反应的机理。对三种不同的钐的SS试剂CH_3SmCH_2X(其中X=Cl、Br和Ⅰ)分别和CH_2CH_2反应的各反应物、中间体、过渡态和产物构型的全部结构几何参数进行了优化,用内禀反应坐标(IRC)计算和频率分析方法,对过渡态进行了验证。结果表明：CH_3SmCH_2X(其中X=Cl、Br和Ⅰ)与CH_2CH_2环丙烷化反应按亚甲基转移通道(通道A)和卡宾金属化通道(通道B)都可以进行,与锂类卡宾的反应机理相同,只是按亚甲基转移通道(通道A)进行反应较容易一些,而且此反应在较低的温度下就可以发生。     

正则带的半格结构

Petrich解决了一般带的构造定理（见[1]或[2]），在此基础上，我们将证明正则带（满足等式axya=axaya的带）的一些特征，并给出一个带为正则带或右似正规带（满足等式xya=xaya的带）的充分必要条件，这些结果是Yamada和Kimura的关于正规带（满足等式axya=ayxa的带）的结果的推广，正规带被他们描述为矩形带的强半格（见[1]或[3]）。     

Microstructure of a-SiOx:H

A set of a-SiO_x:H (0.52 <x< 1.58) films are fabricated by plasma-enhanced-chemical-vapor-deposition (PECVD) method at the substrate temperature of 250°C. The microstructure and local bonding configurations of the films are investigated in detail using micro-Raman scattering, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR). It is found that the films are structural inhomogeneous, with five phases of Si, Si₂O:H, SiO:H, Si₂O₃:H and SiO₂ that coexist. The phase of Si is composed of nonhydrogenated amorphous silicon (a-Si) clusters that are spatially isolated. The average size of the clusters decreases with the increasing oxygen concentration x in the films. The results indicate that the structure of the present films can be described by a multi-shell model, which suggests that a-Si cluster is surrounded in turn by the subshells of Si₂O:H, SiO:H, Si₂O₃:H, and SiO₂.