首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   9647篇
  免费   1911篇
  国内免费   2124篇
化学   7817篇
晶体学   168篇
力学   545篇
综合类   249篇
数学   1108篇
物理学   3795篇
  2024年   19篇
  2023年   160篇
  2022年   354篇
  2021年   373篇
  2020年   450篇
  2019年   485篇
  2018年   374篇
  2017年   422篇
  2016年   465篇
  2015年   520篇
  2014年   587篇
  2013年   747篇
  2012年   897篇
  2011年   864篇
  2010年   651篇
  2009年   662篇
  2008年   725篇
  2007年   619篇
  2006年   610篇
  2005年   519篇
  2004年   430篇
  2003年   341篇
  2002年   416篇
  2001年   359篇
  2000年   278篇
  1999年   232篇
  1998年   159篇
  1997年   101篇
  1996年   119篇
  1995年   102篇
  1994年   93篇
  1993年   85篇
  1992年   100篇
  1991年   67篇
  1990年   64篇
  1989年   45篇
  1988年   35篇
  1987年   32篇
  1986年   30篇
  1985年   21篇
  1984年   16篇
  1983年   17篇
  1982年   6篇
  1981年   6篇
  1980年   3篇
  1979年   8篇
  1978年   4篇
  1959年   2篇
  1957年   2篇
  1936年   3篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 31 毫秒
961.
962.
963.
964.
Zhou  Pingheng  Xue  Desheng  Luo  Haiqing  Shi  Huigang 《Hyperfine Interactions》2002,142(3-4):601-606
Highly ordered Prussian blue nanowires with diameter of about 50 nm and length up to 4 m have been fabricated by an electrodepositing technology with two-step anodizing anodic aluminum oxide films. The Mössbauer spectra taken between 15 and 300 K indicate that the hyperfine parameters decrease as the temperature increases. The temperature dependence of the quadrupole splitting, the isomer shift and the spectra area are discussed. A decrease of Debye temperature for Prussian blue nanowires was found with respect to that of Prussian blue bulk.  相似文献   
965.
本文构造了由多模复共轭相干态的相反态|{-Zj(a)*}>q与多模虚共轭相干态的相反态|{-iZj(b)*}>q这两者的线性叠加所组成的第Ⅱ种强度不等的非对称两态叠加多模叠加态光场|Ψ(ab)>q,利用多模压缩态理论研究了态|Ψ(ab)>q的任意偶数阶等阶N次方Y压缩特性.结果发现:1)在压缩阶数N取偶数,即N=2p的条件下,无论p=2m(m=1,2,3,…,…),还是p=2m+1(m=0,1,2,3,…,…),只要构成态|Ψ(ab)>q的两个不同的量子光场态中各对应模的强度(即平均光子数)和初始相位都不相等,亦即Rj(a)≠Rj(b)和φj(a)≠φj(b)(j=1,2,3,…,q),并且 ,则当满足一定的量子化条件(或者在一些闭区间内连续取值)时,态|Ψ(ab)>q总可呈现出周期性变化的、任意偶数阶的等阶N次方Y压缩效应.2)在N=2pp=2m+1(m=0,1,2,3,…,…)的条件下,若Rj(a)=Rj(b)和φj(a)j(b)(j=1,2,3,…,q),态|Ψ(ab)>q则可呈现出等阶N次方Y压缩简并现象.  相似文献   
966.
本文利用多模压缩态理论,研究了第Ⅰ种非对称两态叠加多模叠加态光场|Ψ(ab)Ⅰ>q的偶数阶等阶N次方Y压缩特性.结果发现:在压缩阶数N取偶数情况下,只要构成态|Ψ(ab)Ⅰ>q的两个量子光场态的强度(即平均光子数)不相等,则当各模的初始相位φj(a)、φj(b)(j=1,2,3,…,q)、态间的初始相位差(θpq(bI)nq(aR))以及与上述的两个量子光场态相对应的各单模相干态光场的光子干涉项之和 =[Rj(a)Rj(b)cos(φj(a)j(b))]等满足一定条件时,态|Ψ(ab)Ⅰ>q可呈现出周期性变化的、任意偶数阶的等阶N次方Y压缩效应.这一结果与现有文献报道的结果截然不同.  相似文献   
967.
构造了由多模复共轭相干态的相反态|{-Zj(a)*}〉q和多模虚共轭相干态的相反态|{-Zj(b)*}〉q的线性叠加所组成的第Ⅱ种强度不等的非对称两态叠加多模叠加态光场|Ψ(ab)Ⅱ〉q.利用多模压缩态理论,研究了态|Ψ(ab)Ⅱ〉q的等阶N次方H压缩特性.结果发现,在腔模总数与压缩阶数这两者之积取奇数,则当各对应模的初始相位、各对应模的初始相位差,态间的初始相位差、以及光子干涉项的幅度之和等分别满足一定的量子化条件时,态|Ψ(ab)Ⅱ〉q的第一及第二正交分量可分别呈现出周期性变化的等阶N次方H压缩效应.这与现有报道的结果截然不同.  相似文献   
968.
马氏定律与哈勃定律的辨析   总被引:2,自引:2,他引:0  
马雪峰 《光谱实验室》2002,19(3):320-325
本文从理论,实验上论证了“马氏(红移)定律”,同时指出所谓“退行速度Vr”或“星系红移”与“星系间的距离”无必须的关系,从这个意义上来说,哈勃定律是错误的。  相似文献   
969.
It is proposed for the first time a method of prediction of the programmed-temperature retention times of components of naphthas in capillary gas chromatography using artificial neural networks. People are used to predict the programmed-temperature retention time using many formulas such as the integral formula, which requires that four parameters must be determined by calculation or experiments. However the results obtained by the formula are not so good to meet the demand of industry. In order to predict retention time accurately and conveniently, artificial neural networks using five-fold cross-validation and leave-20%-out methods have been applied. Only two parameters: density and isothermal retention index were used as input vectors. The average RMS error for predicted values of five different networks was 0.18, whereas the RMS error of predictions by the integral formula was 0.69. Obviously, the predictions by neural networks were much better than predictions by the formula, and neural networks need fewer parameters than the formula. So neural networks can successfully and conveniently solve the problem of predictions of programmed-temperature retention times, and provide useful data for analysis of naphthas in petrochemical industry.  相似文献   
970.
193nm光刻曝光系统的现状及发展   总被引:3,自引:0,他引:3  
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193nm光刻设备曝光系统的发展现状和趋势,以及为提高曝光质量所采用的相关分辨率增强技术;通过分析曝光系统的构成和其中的关键技术,探讨了国内研制相关曝光设备所面临的挑战。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号