具非线性对流项扩散方程的源型解

研究主部为热传导算子的拟线性抛物型方程Cauchy问题:u_t=u_(xx) (u~n)_x,(x,t)∈S=R×(0,∞),u(x,0)=δ(x),x∈■在一维情形下源型解的存在性,唯一性,不存在性,解的渐近性和相似源型解等问题.在研究过程中,找到了一个n的临界值,即n_0=3.当0≤n相似文献   

Banach空间中无限维线性系统的能控性

研究在非自反状态空间和自反控制空间中无限维线性系统x(t)=Ax(t) Bu(t)的精确能控性和精确零能控性.当A生成C-半群时,得到这个系统关于L~p([O,T],U),1相似文献   

介质势垒放电(DBD)等离子体中NO荧光发射谱研究

利用介质阻挡放电 (DBD)等离子体技术对大气污染物NO分子进行了光谱研究 ,得到了低气压条件下放电等离子体在 2 1 0～ 2 80nm光谱范围内的荧光发射谱。该谱明显的表现为双峰结构 ,谱线均成对出现 ,强度分布符合Frank Condon原理 ,且最大峰值位置出现在 2 36nm处 ,将该组谱线归属为NO分子的A2 ΣA →X2 Π1 / 2 ,2 / 3 跃迁。荧光产生过程为 :基态NO分子与高能电子发生非弹性碰撞被激发至激发态A2 Σ 后自发跃迁回基态同时辐射出荧光。通过测量等离子体中NO分子和N2 分子 337nm谱线强度随时间的变化关系 ,初步证实了放电等离子体中存在的NO分子的分解机制为 :e NO→N O e,N NO→N2 O ,O NO→NO2 hν。     

Musielak-Orlicz空间的w*光滑点

Musielak-Orlicz空间是经典Orlicz空间的一种推广，ω^*光滑是Orlicz空间的一种重要几何性质，本讨论了Musielak-Orlicz空间中ω^*光滑点的充分必要条件。     

含Eu3+离子的Na2O-K2 O-SiO2-Al2O3系统玻璃的制备及其变温发射光谱与结构特性

通过高温熔融法制备了含Eu^3 离子的Na2O-K2O-SiO2-Al2O3系统玻璃。在488nm波长光的激发下，系统地研究了上述玻璃从77K到700K温度范围的变温发光特征。发现总的荧光强度首先随温度的升高而大幅度升高，然后随温度的升高而减少，用声子辅助吸收与热激活过程及温度淬灭效应定性地解释了上述强度的变化，同时测量与分析了Eu^3 离子的晶格场参量。结果表明，Eu^3 离子与氧离子的距离随着温度升高而变短，而Eu^3 离子的配位数不随温度而变化。     

类锂离子2s2p2p^2S三激发态的能量和宽度

采用马鞍点变分方法和复数转动技术，计算了类锂离子２ｓ２ｐ２ｐ２Ｓ三激发共振态的能量，并运用截断变分方法得到能量改进量，以及计算了相对论效应、质量极化效应，从而获得了高精度的能量计算值。还计算了该系统的Ａｕｇｅｒ宽度，位移和辐射跃迁率。     

三核铁甲酸簇合物[Fe_3(μ_3-O)(μ-O_2CH)_6(H_2O)_2(O_2CH)]·2H_2O在乙炔、水汽体系中的反应行为

本文研究了[Fe_3(μ_3-O)(μ-O_2CH)_6(H_2O)_2(O_2CH)]·2H_2O(简称)在乙炔、水汽体系中的反应行为。发现当温度高于220℃,脱落部分配体的具有活化乙炔进行加成反应的性能。采用原位红外光谱法和气相色谱法对此反应过程进行了跟踪探索,报道了产物的定性及半定量结果。     

远红外激光等离子体散射系统的校准方法

本文依据多普勒效应,提出了利用转动细针对远红外激光的散射来模拟等离子体源对远红外激光的散射,从而对远红外激光等离子体散射系统进行校准,为完成等离子体散射实验作好准备。     

200兆赫高功率CW锁模YAG激光泵浦源研究

本文报导一台200MHz 12W平均功率的CW锁模Nd:YAG激光泵浦源,输出脉宽约100ps,能够可靠地长期稳定运转。     

一种软X射线多层膜界面粗糙度的计算方法

提出一个利用多层膜小角X射线衍射谱衍射峰积分强度计算多层膜界面粗糙度的公式。用磁控溅射技术制备Mo／Si多层膜，用波长为0．154nm的硬X射线测量样品在小掠入射角区的衍射曲线，分别用本文公式和反射率曲线拟合方法计算了样品的界面粗糙度。实验结果表明：由本文公式获得的界面粗糙度近似于拟合方法获得的界面粗糙度，它们略等于多层膜界面实际粗糙度。