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41.
本文给出了关于光折变晶体各向异性衍射的二波耦合方程,还给出了三种分别掺Cu,Ce,Co的钨青铜结构系列单晶(厚度为0.6—0.8cm)钾钠铌酸锶钡(KNSBN)在He-Ne激光(λ=6328?)照射下产生的光致光栅衍射实验结果。根据二波耦合理论,解释了这三种光析变晶体的衍射图样分布。根据波矢图的分析得出结论:对于不同性(正或负)单轴晶体,只能存在一种各向异性衍射的圆环图样(e→o衍射或o→e衍射)。理论分析与实验基本符合。
关键词: 相似文献
42.
用Heisenberg-Weyle(简称H-W)群直积SU(2)群上的相干态表述了原 子-辐射场相互作用系统的Heisenberg运动方程。引入一个算符振幅函数,将Heisenberg绘 景中算符运动方程转化成可分离变量的偏微分方程,给出了方程的形式解以及时间演化算符 在该表述下的表示。 相似文献
43.
44.
A europium complex Eu (DBM)3 TPPO (Eu tris(benzoylmethide)-(triphenylphosphine oxide)) and silicon nanoparticles have been hybridized.The hybridization can evidently change the photoluminescence (PL) characteristics of the Eu complex in the following aspects:under an excitation of 390nm,the intensity of the PL peak at 611nm due to the ^5Du-^7F2 transition of the Eu^3 ions has been increased by 30%,and thc integrated PL intensity in the visible range has been increased by nearly 3 times;the PL excitation efficiency beyond 440nm has been improved cvidently;the peak in the PL excitation spectrum shifts from 408nm to 388nm,and the PL decay time decreases from 2.07 to 0.96μs,The experimental results indicatde that in the PL process,the photoexcited energy may transfer from the silicon nanoparticlcs to the Eu^3 ions. 相似文献
45.
Improved Resistive Switching Characteristics of Ag-Doped ZrO2 Films Fabricated by Sol-Gel Process 下载免费PDF全文
SUN Bing LIU Li-Feng HAN De-Dong WANG Yi LIU Xiao-Yan HAN Ru-Qi KANG Jin-Feng 《中国物理快报》2008,25(6):2187-2189
Ag-doped and pure ZrO2 thin films are prepared on Pt/Ti/SiO2/Si substrates by sol-gel process for resistive random access memory application. The highly reproducible resistive switching is achieved in the 10% Ag-doped ZrO2 devices. The improved resistive switching behaviour in the Ag doped ZrO2 devices could be attributed to Ag doping effect on the formation of the stablefilamentary conducting paths. In addition, dual-step reset processes corresponding to three stable resistance states are observed in the 10% Ag doped ZrO2 devices, which may be implemented for the application of multi-bit storage. 相似文献
46.
47.
Effect of Different Substrate Temperature on Phosphorus-Doped ZnO Thin Films Prepared by PLD on Sapphire Substrates 下载免费PDF全文
Phosphorus-doped ZnO (ZnO:P) thin films are deposited on a c-plane sapphire in oxygen at 350℃, 450℃, 550℃ and 650℃, respectively, by pulsed laser deposition (PLD), then all the ZnO:P samples are annealed at 650℃ in oxygen with a pressure of 1 × 10^5 Pa. X-ray diffraction measurements indicate that the crystalline quality of the ZnO:P thin films is improved with the increasing substrate temperature from 350℃ to 550℃. With a further increase of the deposition temperature, the crystalline quality of the ZnO:P sample is degraded. The measurements of low-temperature photoluminescence spectra demonstrate that the samples deposited at the substrate temperatures of 350℃ and 450℃ show a strong acceptor-bound exciton (A^0X) emission. The electrical properties of ZnO:P films strongly depend on the deposition temperature. The ZnO:P samples deposited at 350℃ and 450℃ exhibit p-type conductivity. The p-type ZnO:P film deposited at 450℃ shows a resistivity of 1.846Ω·cm and a relatively high hole concentration of 5.100 × 10^17 cm^-3 at room temperature. 相似文献
48.
49.
利用高精度数值格式,研究了二维可压缩流体中的Kelvin-Helmholtz不稳定性,主要研究了可压缩性对Kelvin-Helmholtz稳定性增长率的影响.模拟定量的给出低Mach和高Mach数两种情况下,初始静压和对流Mach数以及Kelvin-Helmholtz不稳定性线性增长率的关系.模拟结果和自由剪切层以及混合层的实验结果以及理论分析一致.模拟表明,对流Mach数是描述流体可压缩性的合适参数,对流Mach数越小流体越不可压,Kelvin-Helmholtz不稳定性的线性增长率随对流Mach数的增加而减小.
关键词:
Kelvin-Helmholtz不稳定性
可压缩流体
Mach数
超音速流体 相似文献
50.
图的倍图与补倍图 总被引:7,自引:0,他引:7
计算机科学数据库的关系中遇到了可归为倍图或补倍图的参数和哈密顿圈的问题.对简单图C,如果V(D(G)):V(G)∪V(G′)E(D(G))=E(C)∪E(C″)U{vivj′|vi∈V(G),Vj′∈V(G′)且vivj∈E(G))那么,称D(C)是C的倍图,如果V(D(G))=V(C)∪V(G′),E(D(C)):E(C)∪E(G′)∪{vivj′}vi∈V(G),vj′∈V(G’)and vivj∈(G)),称D(C)是G的补倍图,这里G′是G的拷贝.本文研究了D(G)和D的色数,边色数,欧拉性,哈密顿性和提出了D(G) 的边色数是D(G)的最大度等公开问题. 相似文献